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不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试被引量：8: 1; 作者朱京涛黄秋实 +7 位作者白亮蒋晖徐敬王晓强周洪军霍同林王占山陈玲燕《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期2946-2951,共6页; 为研究不同本底真空度对SiC/Mg极紫外多层膜光学性能的影响,利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件下制备了峰值反射波长在30.4nm的SiC/Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明,不同本底真空度条件下制备的SiC/Mg周期多层膜膜层质... 展开更多; 关键词极紫外光学本底真空度多层膜反射率磁控溅射; 在线阅读下载PDF 职称材料

本底真空度对磁控溅射法制备AZO薄膜的影响被引量：10: 2; 作者霍红英邹敏 +1 位作者马光强常会《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期75-77,共3页; 采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜,研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300～1100 nm波长范围内透过率的影响。结果表明:薄膜的方块电阻和透过率随本底真空度的提高而降低,厚度随本底真空度的提高而增加;本... 展开更多; 关键词磁控溅射 AZO薄膜本底真空度; 在线阅读下载PDF 职称材料

本底真空度对磁控溅射Cr/C镀层微观形貌及结合强度的影响被引量：2: 3; 作者李洪涛蒋百灵 +3 位作者陈迪春曹政蔡敏利苗启林《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期523-526,共4页; 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于不同本底真空度下制备了Cr/C镀层。利用TEM、划痕仪分析了不同真空度下镀层微观截面形貌与结合强度的变化。结果表明,随本底真空度的降低,Cr/C镀层中物理混合界面层和Cr金属打底层的厚度显著减小;... 展开更多; 关键词本底真空度物理混合界面层 Cr金属打底层结合强度; 在线阅读下载PDF 职称材料

本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能影响的研究被引量：2: 4; 作者刘旸张国同崔新军《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期102-105,142,共5页; 目的提高真空镀膜机镀膜时薄膜的抗激光能力,研究镀膜机箱体内本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能的影响程度。方法借用一台较高配置的真空镀膜机,为了方便定性和定量的研究,可预先有针对性地设定不同的本底真空度,同时配合不同的... 展开更多; 关键词激光薄膜本底真空度抗激光阀值真空设备; 在线阅读下载PDF 职称材料

本底真空度和残余气体对集成电路金属薄膜淀积的影响被引量：2: 5; 作者何秉元《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期318-323,共6页; 随着集成电路芯片器件特征尺寸不断缩小和一些特色工艺的要求,金属薄膜淀积对反应腔真空度和残余气体的要求越来越高,尤其对于高温厚铝溅射工艺,真空反应腔微环境的细小变化可能导致器件失效。本文采用氦质谱检漏仪,残余气体仪对出现问... 展开更多; 关键词本底真空度残余气体物理气相沉积化学气相沉积; 在线阅读下载PDF 职称材料

负偏压和本底真空度对Al膜表面形貌和耐蚀性能的影响被引量：1: 6; 作者胡方勤曹振亚 +2 位作者张青科杨丽景宋振纶《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期128-135,共8页; 采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜。利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压和本底真空度对镀层形貌、性能和沉积速率的影响。结果表明,镀层表面的液滴数量和粒径随负偏压和本底真... 展开更多; 关键词 Al薄膜电弧离子镀负偏压本底真空度耐蚀性; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试被引量：8: 1; 作者朱京涛黄秋实白亮蒋晖徐敬王晓强周洪军霍同林王占山陈玲燕; 机构同济大学物理系精密光学工程技术研究所中国科技大学国家同步辐射实验室; 出处《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期2946-2951,共6页; 基金国家自然科学基金资助项目(No.10435050 No.10675092) +3 种基金同济大学青年优秀人才计划资助项目; 文摘为研究不同本底真空度对SiC/Mg极紫外多层膜光学性能的影响,利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件下制备了峰值反射波长在30.4nm的SiC/Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明,不同本底真空度条件下制备的SiC/Mg周期多层膜膜层质量有明显差异。用同步辐射测试了SiC/Mg多层膜在工作波长处的反射率,结果表明,本底真空度为6.0×10-5Pa时,SiC/Mg周期膜反射率为43%,而本底真空度在5.0×10-4Pa时,SiC/Mg多层膜反射率仅为30%。同步辐射反射曲线拟合结果表明,反射率随着本底真空度降低是由多层膜Mg膜层中的Mg氧化物含量增多造成的。; 关键词极紫外光学本底真空度多层膜反射率磁控溅射; Keywords extreme ultraviolet optics base pressure multilayer reflectance magnetron sputtering; 分类号 O484.1 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名本底真空度对磁控溅射法制备AZO薄膜的影响被引量：10: 2; 作者霍红英邹敏马光强常会; 机构攀枝花学院; 出处《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期75-77,共3页; 文摘采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜,研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300～1100 nm波长范围内透过率的影响。结果表明:薄膜的方块电阻和透过率随本底真空度的提高而降低,厚度随本底真空度的提高而增加;本底真空度较低时,其变化对薄膜的厚度、方块电阻和透过率的影响较大,随着本底真空度的增加,影响程度逐渐降低。; 关键词磁控溅射 AZO薄膜本底真空度; Keywords magnetron sputter AZO film base pressure; 分类号 TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理] O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名本底真空度对磁控溅射Cr/C镀层微观形貌及结合强度的影响被引量：2: 3; 作者李洪涛蒋百灵陈迪春曹政蔡敏利苗启林; 机构西安理工大学材料学院; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期523-526,共4页; 基金国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2005AA33H010); 文摘采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于不同本底真空度下制备了Cr/C镀层。利用TEM、划痕仪分析了不同真空度下镀层微观截面形貌与结合强度的变化。结果表明,随本底真空度的降低,Cr/C镀层中物理混合界面层和Cr金属打底层的厚度显著减小;镀层结合强度随本底真空度的降低显著下降,物理混合界面层、Cr金属打底层厚度的减小以及镀层表面孔洞等缺陷增多、致密度变差等共同导致了其结合强度的下降。; 关键词本底真空度物理混合界面层 Cr金属打底层结合强度; Keywords basic pressure physical mixed interface layer Cr bond layer adhesion strength; 分类号 TB43 [一般工业技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能影响的研究被引量：2: 4; 作者刘旸张国同崔新军; 机构河南工业职业技术学院华宇光学薄膜研究所; 出处《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期102-105,142,共5页; 文摘目的提高真空镀膜机镀膜时薄膜的抗激光能力,研究镀膜机箱体内本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能的影响程度。方法借用一台较高配置的真空镀膜机,为了方便定性和定量的研究,可预先有针对性地设定不同的本底真空度,同时配合不同的残余气体等各种情况,来制备激光薄膜。通过对各种激光薄膜的检测,分别研究不同的设定条件对制备激光薄膜的具体影响。结果油汽在分压强1.6×10-3Pa时对激光薄膜的抗激光损伤阀值最高;水汽的分压强越大,对激光薄膜的抗激光损伤阀值最小;当氧汽分压达到1.5×10-2Pa时,抗激光损伤阀值开始急剧变小;在压强小于2.0×10-4Pa的范围内,薄膜的抗激光损伤阀值随本底真空度的增大而增大;压强大于5.0×10-5Pa时,薄膜的抗激光损伤阀值逐渐减小。结论提高真空设备的本底真空度,降低真空系统中残余气体的数量、成分及含量,尤其是H2O和O2是提高激光薄膜光学性能关键。; 关键词激光薄膜本底真空度抗激光阀值真空设备; Keywords laser film background pressure anti-laser threshold vacuum equipment; 分类号 TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理] O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名本底真空度和残余气体对集成电路金属薄膜淀积的影响被引量：2: 5; 作者何秉元; 机构上海交通大学微电子学院上海华虹NEC电子有限公司; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期318-323,共6页; 文摘随着集成电路芯片器件特征尺寸不断缩小和一些特色工艺的要求,金属薄膜淀积对反应腔真空度和残余气体的要求越来越高,尤其对于高温厚铝溅射工艺,真空反应腔微环境的细小变化可能导致器件失效。本文采用氦质谱检漏仪,残余气体仪对出现问题的8英寸Al,W金属薄膜淀积设备进行真空和残余气体检查,采用扫描电子显微镜,透射电子显微镜,能量色散X射线光谱仪等方法对缺陷进行分析。研究表明设备真空腔体微漏和极微量的残余气体对Al,W金属薄膜质量影响很大。从设备的角度提出改善真空度、减少残余气体的措施,这些措施在实际生产中得到了验证和应用,达到减少设备停机时间,减少产品缺陷,提高成品率的效果。; 关键词本底真空度残余气体物理气相沉积化学气相沉积; Keywords Base pressure Residual gas Physical vapor deposition Chemical vapor deposition; 分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名负偏压和本底真空度对Al膜表面形貌和耐蚀性能的影响被引量：1: 6; 作者胡方勤曹振亚张青科杨丽景宋振纶; 机构中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学技术大学纳米科学技术学院; 出处《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期128-135,共8页; 基金宁波市“科技创新2025”重大专项项目(2019B10100、2019B10094、2020Z045); 文摘采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜。利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压和本底真空度对镀层形貌、性能和沉积速率的影响。结果表明,镀层表面的液滴数量和粒径随负偏压和本底真空度的增加而减小;沉积速率与负偏压成反比,而与本底真空度成正比。在负偏压为-100 V时沉积速率最大,达到4.85μm/h。随着负偏压和本底真空度的增加,腐蚀电流密度减小,耐盐雾时长增加,负偏压为-200 V时Al/NdFeB样品具有较好的耐蚀性。; 关键词 Al薄膜电弧离子镀负偏压本底真空度耐蚀性; Keywords Al coating arc ion plating negative bias voltage base vacuum degree corrosion resistance; 分类号 TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试	朱京涛黄秋实白亮蒋晖徐敬王晓强周洪军霍同林王占山陈玲燕	《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	8	在线阅读下载PDF 职称材料
2	本底真空度对磁控溅射法制备AZO薄膜的影响	霍红英邹敏马光强常会	《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心	2013	10	在线阅读下载PDF 职称材料
3	本底真空度对磁控溅射Cr/C镀层微观形貌及结合强度的影响	李洪涛蒋百灵陈迪春曹政蔡敏利苗启林	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	2	在线阅读下载PDF 职称材料
4	本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能影响的研究	刘旸张国同崔新军	《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心	2015	2	在线阅读下载PDF 职称材料
5	本底真空度和残余气体对集成电路金属薄膜淀积的影响	何秉元	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2012	2	在线阅读下载PDF 职称材料
6	负偏压和本底真空度对Al膜表面形貌和耐蚀性能的影响	胡方勤曹振亚张青科杨丽景宋振纶	《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	1	在线阅读下载PDF 职称材料