连发弹道摄影经纬仪底板坐标点系曝光系统研制 被引量：2

1

作者 康连福 《长春光学精密机械学院学报》 1993年第4期52-57,共6页

本文较详尽介绍了连发弹道摄影经纬仪的技术关键之一——移动底板直角坐标点系的曝光电路系统研制,包括其电路系统要求,设计方案与原理以及具体电路设计等部分。

关键词 连发弹道摄影 坐标点系 曝光系统 摄影经纬仪

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基于NBL电子束曝光系统合轴研究 被引量：1

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作者 吴文涛 王振亚 徐磊 《电子工业专用设备》 2016年第12期25-29,54,共6页

详述了电子束曝光系统的原理、种类、系统的构成和合轴的原理,以及如何使NBL(微纳投影)电子束曝光系统更好、更快地进行合轴,从而使NBL电子束曝光机处于最佳工作状态。

关键词 电子束 曝光系统 微纳投影(NBL) 合轴

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高能电子束纳米曝光系统的研制

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作者 田丰 韩立 顾文琪 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期641-642,共2页

关键词 高能电子束纳米曝光系统 微电子产业 半导体器件 光学光刻技术 电子束曝光技术 高分辨

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i线(365nm)分步投影光刻机曝光系统 被引量：2

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作者 李尧 《电子工业专用设备》 2001年第4期7-11,共5页

主要介绍了一种结构新颖的光学曝光系统 ,对光路的结构、原理、特点以及关键技术作了详细的论述 。

关键词 i线曝光系统 分步投影 光刻机

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紫外、远紫外光刻共用的曝光系统 被引量：1

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作者 李尧 《电子工业专用设备》 1995年第1期30-34,23,共6页

本文介绍了一种高分辨率、多功能的曝光系统。着重阐述了光学系统设计中对柱体蝇眼透镜组和冷反射镜的考虑，并对与光学系统相匹配的光源、透射材料以及光刻胶作了论述。给出了其实验结果。

关键词 紫外 远紫外光刻 曝光系统 光学系统 设计

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移动DR设备延迟曝光系统的实用性优化及应用 被引量：1

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作者 付志浩 杜超 +1 位作者 许传军 田玉亭 《中国医疗器械杂志》 2023年第6期695-697,701,共4页

该研究介绍了一套独立于移动DR设备之外的外置延时曝光系统。该系统由锂电池、延时控制电路、微型推杆电机及相关配套辅助设施组成。通过延时电路到达启动时间后,电机带动伸缩杆推出,按压曝光手闸后完成曝光。该系统所采用配件易于采购... 该研究介绍了一套独立于移动DR设备之外的外置延时曝光系统。该系统由锂电池、延时控制电路、微型推杆电机及相关配套辅助设施组成。通过延时电路到达启动时间后,电机带动伸缩杆推出,按压曝光手闸后完成曝光。该系统所采用配件易于采购且价格低廉,技术成熟,兼容性好,曝光成功率高,曝光效果满意,有较好实用性和推广价值。 展开更多

关键词 移动DR 延时曝光系统 X线

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用于印制电路板制造业的数字曝光系统 被引量：1

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作者 菅沼敦 缪海燕 《印制电路信息》 2007年第1期38-42,共5页

富士写真フィルム株式会社为PCB行业开发了一套叫作INREX的高级数码曝光系统。为同时提高产能和精准度,该系统在DMD光组件基础上使用405nm激光组件。富士菲林株式会社在一个组件中安装多套激光模块以提高电流输出功率方面也具有丰富经... 富士写真フィルム株式会社为PCB行业开发了一套叫作INREX的高级数码曝光系统。为同时提高产能和精准度,该系统在DMD光组件基础上使用405nm激光组件。富士菲林株式会社在一个组件中安装多套激光模块以提高电流输出功率方面也具有丰富经验。激光通过光纤导入光学系统。曝光系统有多套光学组件,在10mJ感光材料情况下,把510mm×610mm尺寸板件的曝光时间缩短至10s。该系统每小时能生产超过160拼板,对行业大批量生产尤其适合。 展开更多

关键词 数字曝光系统

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Tri-Light CTS膜版曝光系统

8

《丝网印刷》 2006年第11期21-21,共1页

关键词 曝光系统 CTS 计算机制作 网版 膜 两用型 网印版 传统

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EVG推出全新的光刻曝光系统和新型测试设备

9

《电子工业专用设备》 2009年第4期61-62,共2页

在微电子、纳米、半导体领域为晶片接合和光刻技术提供设备技术方案的世界级供应商EVG近期推出了NT系列，这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆（W2W）接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的... 在微电子、纳米、半导体领域为晶片接合和光刻技术提供设备技术方案的世界级供应商EVG近期推出了NT系列，这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆（W2W）接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的需求。业内向更小结构和更密集封装生产转型的趋势带来了众多的新挑战，如对更高精度的要求，因为这将严重影响设备的偏差律， 展开更多

关键词 光刻技术 测试设备 曝光系统 生产厂家 设备技术 测试系统 光刻精度 微电子

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EVG推出全新光刻曝光系统和新型测试设备

10

《中国集成电路》 2009年第4期5-5,共1页

EVG近期推出了NT系列，这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的需求。新的EVGNT系列可极大提高对准精度-范围从1微米至0．1微米-从而为生产厂家在先进微... EVG近期推出了NT系列，这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的需求。新的EVGNT系列可极大提高对准精度-范围从1微米至0．1微米-从而为生产厂家在先进微电子、化合物半导体、硅基电功率、三维集成电路和纳米等几乎所有相关产业提供了解决方案。 展开更多

关键词 光刻精度 曝光系统 测试设备 化合物半导体 三维集成电路 生产厂家 测试系统 对准精度

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双面对准曝光中关键技术研究 被引量：3

11

作者 王志越 《电子工业专用设备》 2000年第3期13-18,29,共7页

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究 ,并通过多年工作实践经验 ,对对准工作台的精度分析作了论述。

关键词 双面对准 曝光系统 关键技术 对准工作台 精度分析

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PLUS3FAST快速曝光SBQ单液型耐溶剂感光胶

12

《丝网印刷》 2017年第3期55-55,共1页

PLUS3FAST是Mac DermidAutotype推出的一款超快速曝光的单液型蓝色感光胶。对溶剂型油墨和UV油墨都有很好的耐受性，该款感光胶不但适用于传统曝光设备，同样适用于CTS曝光系统（LDI光刻设备）。PLUS3FAST适合需要快速曝光的应用要求，... PLUS3FAST是Mac DermidAutotype推出的一款超快速曝光的单液型蓝色感光胶。对溶剂型油墨和UV油墨都有很好的耐受性，该款感光胶不但适用于传统曝光设备，同样适用于CTS曝光系统（LDI光刻设备）。PLUS3FAST适合需要快速曝光的应用要求，比如大型网版的印刷，或者使用低功率的紫外线灯源及LDI激光曝光设备。 展开更多

关键词 曝光设备 感光胶 单液型 耐溶剂 溶剂型油墨 UV油墨 光刻设备 曝光系统

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用于LED曝光的柔性感光树脂版

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作者 Christian Apenberg 赵嵩(译) 《印刷杂志》 2022年第2期27-29,共3页

最近四十多年,柔性版制版和印刷技术一直在不断进步,柔印的应用范围在持续扩大,实现了更高的印刷品质。柔印使用的感光树脂版及制作工艺对最终的印刷质量具有决定性影响。柔性版制版厂可以从各种U V曝光设备中选择适合其个性化需求的设... 最近四十多年,柔性版制版和印刷技术一直在不断进步,柔印的应用范围在持续扩大,实现了更高的印刷品质。柔印使用的感光树脂版及制作工艺对最终的印刷质量具有决定性影响。柔性版制版厂可以从各种U V曝光设备中选择适合其个性化需求的设备。与传统系统相比,LED曝光机具备标准化生产和高度一致性,减少人为的操作失误,支持制版流程自动化,重复性好,优异的质量等优势。这些优势均能够通过选择合适的树脂版和曝光参数组合实现。 展开更多

关键词 柔性版 传统曝光机 LED曝光系统

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数字技术在光学全息领域的应用与前景展望 被引量：7

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作者 王杨 于佳 +1 位作者 刘惠萍 王金城 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期13-15,共3页

光全息术与数字技术相结合产生了数字全息显示技术 ,在全息仿真显示及虚拟景物显示方面取得了新的突破。

关键词 数字全息显示 空间光调制器 数字图像处理 自动曝光系统 虚拟景物显示

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椭球反射镜膜厚均匀性与工艺技术的探讨 被引量：2

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作者 高丽峰 熊胜明 +2 位作者 张云洞 黄伟 叶红伟 《光电工程》 CAS CSCD 2000年第5期69-72,共4页

讨论了深紫外曝光系统中椭球反射镜镀制装置在薄膜沉积中的镀制条件对膜厚和膜厚均匀性的影响 ,计算了椭球镜的膜厚均匀性并对如何改善椭球镜膜厚分布作了介绍 ,实验得到均匀性符合要求的反射镜。

关键词 椭球反射镜 膜厚均匀性 镀膜技术 薄膜 曝光系统

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光刻机光强影响因素分析 被引量：1

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作者 孙明睿 李雪 甄万财 《电子工业专用设备》 2017年第5期18-21,共4页

曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向。

关键词 光刻机 曝光系统 曝光强度

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电子束纳米光刻技术研究 被引量：2

17

作者 刘玉贵 王维军 罗四维 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期562-563,共2页

纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用 ,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。我们使用VB5电子束曝光系统 ,经过工艺研究 ,现已研究出最细分辨率剥离金属条为 17nm ,最小剥离电极间距为 10nm ,最细T型栅为 10 0nm。

关键词 电子束纳米光刻技术 纳米图形 剥离技术 微电子 电子束曝光系统

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立式真空晒版机

18

《丝网印刷》 2009年第12期55-55,共1页

杭州涛兴印刷设备有限公司新近推出一款大型立式真空晒版机，适合大型精细网版的晒制曝光。光源垂直照射，真空、照明独立灯管，前后移位，曝光时间可自行设定。采用真空压紧装置，使网版均匀地压紧底片，通过紫外光作用，晒制出线条清... 杭州涛兴印刷设备有限公司新近推出一款大型立式真空晒版机，适合大型精细网版的晒制曝光。光源垂直照射，真空、照明独立灯管，前后移位，曝光时间可自行设定。采用真空压紧装置，使网版均匀地压紧底片，通过紫外光作用，晒制出线条清晰、图案逼真的网版。该机具有以下优势。1．快启型成套曝光系统；光强稳定均匀， 展开更多

关键词 晒版机 真空 立式 曝光时间 压紧装置 印刷设备 曝光系统 光强稳定

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数字化激光成像领域的隐形冠军

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作者 乔宇 《印刷工业》 2021年第1期30-31,共2页

在印刷领域,提到数字化激光成像,一定会想到友迪激光——这种说法对于江苏友迪激光科技有限公司(以下简称"友迪激光")总经理吴景舟来说,并不夸张。2012年,已经深耕行业多年的吴总把数字化光学处理(DLP)技术引入丝网成像领域,... 在印刷领域,提到数字化激光成像,一定会想到友迪激光——这种说法对于江苏友迪激光科技有限公司(以下简称"友迪激光")总经理吴景舟来说,并不夸张。2012年,已经深耕行业多年的吴总把数字化光学处理(DLP)技术引入丝网成像领域,带领团队开发了中国第一台CTS设备(数字曝光系统),不仅为公司开辟了一个全新市场,更重要的是弥补了国内数字激光成像技术的空白。 展开更多

关键词 激光成像 激光科技 光学处理 团队开发 DLP 印刷领域 数字化 曝光系统

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PCB数字成像的最新动向

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作者 蔡积庆（编译） 《印制电路信息》 2007年第6期19-23,共5页

概述了PCB的数字成像技术的动向和具有高生产性高精度的数字曝光系统。

关键词 数字成像(DI) 曝光系统 高生产性 高精度

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