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题名多重全息存储中曝光均匀性的研究
被引量：2
- 1
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作者
忽满利
李育林
刘玉华
刘继芳
张培琨
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机构
中国科学院西安光学精密机械研究所
西安电子科技大学应用物理系
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出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第3期23-26,共4页
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文摘
本文分析了光折变晶体多重全息存储中扇形效应对光栅写入时间常数的影响和写入光耦合对光栅振幅的影响，给出了两种因素影响下角度编码多重全息存储中时间递减曝光法的计算公式和方法，该计算公式和通常的有所不同。数值计算结果表明，按照这种计算方法所得多重存储中各幅全息光栅振幅不仅均匀性好，而且振幅也相对较大，这种曝光方法有利于提高晶体的存储容量。
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关键词
时间递减法
多重全息存储
扇形效应
曝光均匀性
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Keywords
Incremental recording,multiplex storage,fanning effects,beams couple.
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分类号
TP333.42
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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题名光刻机曝光均匀性在线检测方法
被引量：1
- 2
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作者
闫建新
范伟宏
李立文
宋金伟
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机构
杭州士兰集成电路有限公司
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第7期577-581,共5页
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文摘
光刻机的曝光量和焦距会随着做片量的增加发生漂移,具体表现为曝光场内和圆片内出现曝光不均的质量异常。设计了针形解析图形和方形显开解析图形,利用Ultra Step 1000光刻机进行实验,分析了曝光量和焦距的变化对解析图形解析值的影响。结果表明,曝光量对针形光胶解析图形影响较大,焦距对方形显开解析图形的影响较大。设计了解析图形在曝光场内和圆片内的布局方案,以及在线检测曝光场内和圆片内的曝光均匀性的具体方法,利用该方法可以有效提高光刻机曝光均匀性的在线监控效率,提早预防曝光不均异常现象的发生。该监控方法可以应用于其他类型的光刻机。
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关键词
光刻机
曝光均匀性
曝光量
焦距
在线检测
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Keywords
stepper
exposure uniformity
exposure dose
focus
on-line monitoring
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名一种航摄快门曝光时间均匀性的测试方法
- 3
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作者
李延伟
郑丽娜
张洪文
丁亚林
付金宝
何勇
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机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
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出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期414-417,共4页
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基金
预研项目(No.ZJ99130B)资助
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文摘
在航空摄影中,快门曝光时间均匀性对于获得高质量的航空相片十分重要。为评测卷帘式航摄快门曝光时间的均匀性,根据有效曝光时间的分析计算,提出了一种可变缝宽式快门有效曝光时间均匀性的测试方法。在不同帘缝宽度下,依据光电测试法,利用每个测试位置的多次测量结果,运用最小二乘法得到帘缝宽度与有效曝光时间的拟合曲线,与理论曲线比较可衡量出有效曝光时间的不均匀性程度。最后对某卷帘式航摄快门进行了实验测试,测试结果表明有效曝光时间不均匀性为2.8%,满足快门4%的精度要求。经过飞行实验验证,所获得的照片均匀性良好,满足图像判读要求。
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关键词
卷帘式快门
光电测试法
有效曝光时间
曝光时间均匀性
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Keywords
curtain shutter
photoelectric method
effective exposure time
uniformity of exposure time
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分类号
TN247
[电子电信—物理电子学]
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题名计量光栅均匀性误差的研究
被引量：2
- 4
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作者
董连和
车英
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机构
长春光机学院光电工程系
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出处
《长春光学精密机械学院学报》
1997年第1期21-24,共4页
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文摘
本文对计量光栅制造工艺中，易引起均匀性误差的主要因素进行了分析讨论，并提出了相应控制措施。
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关键词
计量光栅
均匀性误差
曝光均匀性
刻划精度
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Keywords
Metrological grating
Uniformity error
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分类号
TH741.6
[机械工程—光学工程]
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题名红敏光聚合物干板的使用特性
被引量：3
- 5
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作者
马兴坤
张慧云
茅卫红
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机构
清华大学物理系
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出处
《物理实验》
2005年第10期40-42,共3页
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文摘
光聚合物是一种新的光全息记录材料.本文介绍了红敏光聚合物干板在学生全息实验中的使用情况,实验测定了该干板的曝光均匀性、全息图的稳定性以及异丙醇溶液和热风吹干的作用.
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关键词
红敏光聚合物
全息
曝光均匀性
全息图稳定性
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Keywords
red-sensitive photopolymer
hologram
exposition uniformity
stability of hologram
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分类号
O438.1
[机械工程—光学工程]
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题名自动曝光机曝光成像不良分析及改善
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作者
欧阳涛
易雁
郑斌
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机构
生益电子股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2017年第A02期27-37,共11页
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文摘
曝光机在PCB生产过程中作用重大,是实现PCB设计图形转移的关键,其能量强度与稳定性在很大程度上决定了生产品质.随着线路板不断向高层次、高密度、高精度方向发展,高精度、密集型的布线设计已成为趋势,这对曝光机的图形转移能力提出了更高的技术要求.以外层图形线路的制作为例,行业内经常从曝光机能量均匀性、曝光参数、曝光介质、操作方法、图形设计等一系列重要因素来进行曝光机图形转移能力的提升,改善曝光不良等问题.文章着重阐述从自动曝光机设备自身的特性来分析曝光不良产生的机理与改善的措施,从而提高自动曝光机的加工精度与合格率.
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关键词
曝光不良
曝光级数
真空度
真空泵
曝光能量均匀性
平行半角
倾斜角
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Keywords
Poor Expose
exposure Grades
vacuum
vacuum Pump
exposure Energy Uniformity
parallel Half Angle
tilt Angle
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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