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高精度AZ厚胶光刻及在微型射频同轴器制作中的应用
被引量：
2
1
作者
杜立群
李爰琪
+4 位作者
齐磊杰
李晓军
朱和卿
赵雯
阮久福
《航空制造技术》
2018年第9期26-31,共6页
基于正负胶结合的UV-LIGA技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器。针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均匀导致的正性厚胶AZ50XT光刻图形精度低的问题,在紫外光刻工艺的基础上,采用分次曝光显影的方法,制作了高...
基于正负胶结合的UV-LIGA技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器。针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均匀导致的正性厚胶AZ50XT光刻图形精度低的问题,在紫外光刻工艺的基础上,采用分次曝光显影的方法,制作了高尺寸精度的电铸胶膜。对不同尺寸的掩膜板图形进行分次曝光显影试验,研究了分次曝光显影法对光刻图形尺寸精度的影响。试验结果表明:分次曝光显影法可以显著提高AZ50XT胶膜图形化精度,并且光刻图形的精度与掩膜板图形尺寸无关。最后,基于上述试验成果,制作了整体尺寸为3000μm×400μm×200μm,单层最大厚度为60μm,侧壁倾角均大于85°的微型射频同轴传输器。
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关键词
正性光刻胶
尺寸精度
曝光剂量分布
紫外光刻
微射频同轴传输器
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职称材料
题名
高精度AZ厚胶光刻及在微型射频同轴器制作中的应用
被引量：
2
1
作者
杜立群
李爰琪
齐磊杰
李晓军
朱和卿
赵雯
阮久福
机构
大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室
大连理工大学辽宁省微纳米及系统重点实验室
合肥工业大学光电技术研究院
出处
《航空制造技术》
2018年第9期26-31,共6页
基金
国家自然科学基金项目(51375077
51475245)
大连理工大学创新团队项目(DUT16TD20)
文摘
基于正负胶结合的UV-LIGA技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器。针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均匀导致的正性厚胶AZ50XT光刻图形精度低的问题,在紫外光刻工艺的基础上,采用分次曝光显影的方法,制作了高尺寸精度的电铸胶膜。对不同尺寸的掩膜板图形进行分次曝光显影试验,研究了分次曝光显影法对光刻图形尺寸精度的影响。试验结果表明:分次曝光显影法可以显著提高AZ50XT胶膜图形化精度,并且光刻图形的精度与掩膜板图形尺寸无关。最后,基于上述试验成果,制作了整体尺寸为3000μm×400μm×200μm,单层最大厚度为60μm,侧壁倾角均大于85°的微型射频同轴传输器。
关键词
正性光刻胶
尺寸精度
曝光剂量分布
紫外光刻
微射频同轴传输器
Keywords
Positive photoresist
Dimensional accuracy
Exposure dose distribution
UV-LIGA
Micro RF coaxial transmitter
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
高精度AZ厚胶光刻及在微型射频同轴器制作中的应用
杜立群
李爰琪
齐磊杰
李晓军
朱和卿
赵雯
阮久福
《航空制造技术》
2018
2
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