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6H-SiC单晶的中子辐照损伤及其退火特性研究 被引量:3
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作者 黄丽 阮永丰 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第10期1794-1799,共6页
用剂量为1.72×1019 n/cm2和1.67×1020 n/cm2的中子对掺氮6H-SiC单晶进行辐照,利用紫外-可见(UV-Vis)吸收光谱等方法研究了辐照引起的晶格损伤及随退火温度的回复过程。结果表明:中子辐照产生的大量缺陷使SiC的光吸收明显增加... 用剂量为1.72×1019 n/cm2和1.67×1020 n/cm2的中子对掺氮6H-SiC单晶进行辐照,利用紫外-可见(UV-Vis)吸收光谱等方法研究了辐照引起的晶格损伤及随退火温度的回复过程。结果表明:中子辐照产生的大量缺陷使SiC的光吸收明显增加;光学带隙能随辐照剂量的增加而降低,这与禁带中引入的局域态缺陷能级有关。光吸收边出现强烈的连续吸收可能归因于辐照产生的不同类型缺陷簇或局部非晶区域的光散射。对两个剂量辐照的样品进行室温到1600℃的等时退火,发现两个剂量辐照产生的晶格损伤所需的退火回复温度不同,但退火回复过程都呈现出以800℃为转折点的两个相同阶段。 展开更多
关键词 6H-SIC 中子辐照 缺陷 晶格损伤 退火回复 吸收光谱
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一种评估空间环境下半导体材料损伤的模拟方法
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作者 于颢 王治强 +1 位作者 王文彬 刘薇 《空间科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期800-807,共8页
提出了一种模拟空间环境下半导体材料晶格损伤速率的方法,计算了375 km轨道高度不同纬度空间位置的飞行器模型中硅片产生晶格损伤的速率.本方法考虑了宇宙射线的质子、正负电子、中子和γ射线成分,建立了简单的多层飞行器结构模型,并通... 提出了一种模拟空间环境下半导体材料晶格损伤速率的方法,计算了375 km轨道高度不同纬度空间位置的飞行器模型中硅片产生晶格损伤的速率.本方法考虑了宇宙射线的质子、正负电子、中子和γ射线成分,建立了简单的多层飞行器结构模型,并通过模拟给出了芯片上氕、氘、氚、氦、正负电子、正负π介子、γ射线及中子的损伤结果.相比给出材料中的非电离能量损失,更进一步给出了晶格损伤的产生速率,为半导体器件的可靠性评估提供了进一步的参考数据. 展开更多
关键词 辐射影响 晶格损伤 蒙特卡洛模拟 空间环境
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Ion implantation process and lattice damage mechanism of boron doped crystalline germanium
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作者 HABIBA Um E CHEN Tian-Ye +8 位作者 LIU Chi-Xian DOU Wei LIU Xiao-Yan LING Jing-Wei PAN Chang-Yi WANG Peng DENG Hui-Yong SHEN Hong DAI Ning 《红外与毫米波学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期749-754,共6页
The response wavelength of the blocked-impurity-band(BIB)structured infrared detector can reach 200µm,which is the most important very long wavelength infrared astronomical detector.The ion implantation method gr... The response wavelength of the blocked-impurity-band(BIB)structured infrared detector can reach 200µm,which is the most important very long wavelength infrared astronomical detector.The ion implantation method greatly simplifies the fabrication process of the device,but it is easy to cause lattice damage,introduce crystalline defects,and lead to the increase of the dark current of detectors.Herein,the boron-doped germanium ion implantation process was studied,and the involved lattice damage mechanism was discussed.Experimental conditions involved using 80 keV energy for boron ion implantation,with doses ranging from 1×10^(13)cm^(-2)to 3×10^(15)cm^(-2).After implantation,thermal annealing at 450℃was implemented to optimize dopant activation and mitigate the effects of ion implantation.Various sophisticated characterization techniques,including X-ray dif⁃fraction(XRD),Raman spectroscopy,X-ray photoelectron spectroscopy(XPS),and secondary ion mass spec⁃trometry(SIMS)were used to clarify lattice damage.At lower doses,no notable structural alterations were ob⁃served.However,as the dosage increased,specific micro distortions became apparent,which could be attributed to point defects and residual strain.The created lattice damage was recovered by thermal treatment,however,an irreversible strain induced by implantation still existed at heavily dosed samples. 展开更多
关键词 boron doped germanium ion implantation lattice damage
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n型单晶硅太阳电池中硼离子注入发射极特性研究 被引量:1
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作者 祝方舟 卞剑涛 刘正新 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1583-1588,共6页
离子注入以其掺杂均匀可控、便于图形化掺杂及简化太阳电池生产工艺的特点在光伏界引起广泛的关注,但同时也存在着注入缺陷难以消除的缺点。该文通过对硼注入发射极退火特性进行研究,发现样品的J0e(发射极饱和电流)、少子寿命teff、ImpV... 离子注入以其掺杂均匀可控、便于图形化掺杂及简化太阳电池生产工艺的特点在光伏界引起广泛的关注,但同时也存在着注入缺陷难以消除的缺点。该文通过对硼注入发射极退火特性进行研究,发现样品的J0e(发射极饱和电流)、少子寿命teff、ImpVoc(理论开路电压)均随退火温度的升高得到显著改善。为进一步研究其机理,采用椭圆偏振光光谱对晶格损伤进行表征,并借助TCAD软件模拟分析注入后热处理所产生的硼硅团簇(BIC)等缺陷状态,从损伤修复和杂质激活两方面对硼(B)注入发射极J0e随退火温度变化的机制做出解释。 展开更多
关键词 太阳电池 离子注入 发射极 缺陷 晶格损伤
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半导体光学材料及制备
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《中国光学》 EI CAS 1995年第3期90-92,共3页
TN304 95032039聚合物膜中CaS超微粒的制备及光物理性质研究=Preparation of CdS super—particles i~poly-mer films and study on their optical and phys-ical property[刊,中]/周晓文,李学萍,林原.肖绪瑞(中科院感光化学研究所)∥... TN304 95032039聚合物膜中CaS超微粒的制备及光物理性质研究=Preparation of CdS super—particles i~poly-mer films and study on their optical and phys-ical property[刊,中]/周晓文,李学萍,林原.肖绪瑞(中科院感光化学研究所)∥半导体学报.—1994。 展开更多
关键词 半导体 应变层超晶格 超微粒子 中科院 制备 晶格损伤 学报 聚合物膜 外延层 激光技术
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