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溅射时间对Mo薄膜结晶取向的影响
被引量：
4
1
作者
张艳霞
冀亚欣
+6 位作者
欧玉峰
闫勇
李莎莎
刘连
张勇
赵勇
余洲
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期888-892,共5页
采用直流磁控溅射法在SLG衬底上沉积Mo薄膜,并用XRD、SEM、四探针等对薄膜进行表征,研究了沉积时间对薄膜晶体结构、表面形貌以及电学性能的影响。研究发现,沉积时间能够调节Mo薄膜的择优取向。溅射时间较短(5～10min)时,沉积的Mo薄膜呈...
采用直流磁控溅射法在SLG衬底上沉积Mo薄膜,并用XRD、SEM、四探针等对薄膜进行表征,研究了沉积时间对薄膜晶体结构、表面形貌以及电学性能的影响。研究发现,沉积时间能够调节Mo薄膜的择优取向。溅射时间较短(5～10min)时,沉积的Mo薄膜呈(110)择优取向。溅射时间超过15min后,薄膜呈现(211)取向,且(211)晶面择优程度随沉积时间的增加而提高。随着择优取向的改变,薄膜的表面形貌由三角形颗粒变为长条形颗粒,电阻率也发生相应变化,由3.92×10-5Ω·cm增加到4.27×10-5Ω·cm再降低,对应薄膜生长的晶带模型由晶带T型组织变为晶带2组织。
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关键词
直流磁控溅射
择优取向
晶带模型
电性能
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职称材料
题名
溅射时间对Mo薄膜结晶取向的影响
被引量：
4
1
作者
张艳霞
冀亚欣
欧玉峰
闫勇
李莎莎
刘连
张勇
赵勇
余洲
机构
西南交通大学磁浮技术与磁浮列车教育部重点实验室
新南威尔士大学材料科学与工程学院
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期888-892,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(50588201
50872116
+6 种基金
51271155)
国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项资助项目(2011GB112001)
四川省基金资助项目(2011JY0031
2011JY0130)
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(SWJTU12CX016
SWJTU11ZT16
SWJTU11ZT31)
文摘
采用直流磁控溅射法在SLG衬底上沉积Mo薄膜,并用XRD、SEM、四探针等对薄膜进行表征,研究了沉积时间对薄膜晶体结构、表面形貌以及电学性能的影响。研究发现,沉积时间能够调节Mo薄膜的择优取向。溅射时间较短(5～10min)时,沉积的Mo薄膜呈(110)择优取向。溅射时间超过15min后,薄膜呈现(211)取向,且(211)晶面择优程度随沉积时间的增加而提高。随着择优取向的改变,薄膜的表面形貌由三角形颗粒变为长条形颗粒,电阻率也发生相应变化,由3.92×10-5Ω·cm增加到4.27×10-5Ω·cm再降低,对应薄膜生长的晶带模型由晶带T型组织变为晶带2组织。
关键词
直流磁控溅射
择优取向
晶带模型
电性能
Keywords
DC magnetron sputtering
preferred orientation
zone model
electrical properties
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
溅射时间对Mo薄膜结晶取向的影响
张艳霞
冀亚欣
欧玉峰
闫勇
李莎莎
刘连
张勇
赵勇
余洲
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
4
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职称材料
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