期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
一种声表面波器件的新型晶圆级封装技术 被引量:4
1
作者 冷俊林 杨静 +6 位作者 毛海燕 杨正兵 汤旭东 余欢 杨增涛 董姝 伍平 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2011年第4期517-519,共3页
总结了声表面波(SAW)器件传统封装技术中存在的问题,提出了一种SAW器件新型晶圆级封装技术。采用一种有机物干膜,分别经两次压膜、曝光和显影完成了对SAW芯片在划片前的封装,并用实验进行了验证。实验结果表明,本技术具有在不改变叉指... 总结了声表面波(SAW)器件传统封装技术中存在的问题,提出了一种SAW器件新型晶圆级封装技术。采用一种有机物干膜,分别经两次压膜、曝光和显影完成了对SAW芯片在划片前的封装,并用实验进行了验证。实验结果表明,本技术具有在不改变叉指换能器(IDT)质量负载的情况下同时具备吸声的功能,改善器件的带外抑制能力,增强了产品的一致性和可靠性。本技术在SAW器件的封装方面有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 声表面波(SAW) 晶圆级封装技术 干膜
在线阅读 下载PDF
低应力PECVD SiC晶圆级薄膜封装新技术
2
作者 王鹏程 成立 +2 位作者 吴衍 杨宁 王改 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期150-153,165,共5页
为了解决MEMS封装过程中易对微致动件造成损伤的问题,提出了一种低成本、与CMOS工艺兼容的晶圆级薄膜封装技术,用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)法制备的低应力SiC作为封装和密封材料。此材料的杨氏模量为460 GPa,残余应力为65 MPa,可... 为了解决MEMS封装过程中易对微致动件造成损伤的问题,提出了一种低成本、与CMOS工艺兼容的晶圆级薄膜封装技术,用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)法制备的低应力SiC作为封装和密封材料。此材料的杨氏模量为460 GPa,残余应力为65 MPa,可使MEMS器件悬浮时封装部位不变形。与GaAs,Si半导体材料相比,SiC具有较佳的物理稳定性,较高的杨氏模量等性能优势。将PECVD薄膜封装技术用于表面微结构和绝缘膜上Si(SOI)微结构部件(如射频开关、微加速度计等)封装中,不仅减小了封装尺寸,降低了芯片厚度,简化了封装工艺,而且封装芯片还与CMOS工艺兼容。较之晶圆键合封装方式,此晶圆级薄膜封装成本可降低5%左右。 展开更多
关键词 残余应力 等离子体增强化学气相淀积 晶圆薄膜封装技术 绝缘膜上硅 微电子机械系统
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部