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晶体电场对离子自旋─轨道耦合参数的影响 被引量:1
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作者 杨桂林 张国营 《南京大学学报(自然科学版)》 CSCD 1994年第3期429-433,共5页
晶体电场对三价稀土离子自旋─轨道耦合参数有影响,是人们长期怀疑但尚无人作过定量分析与计算的问题.本文从相对论Dirac方程式给出的电子自族─轨道耦合参数表达式出发,以稀土氯化物为例,首次详细计算了晶体电场对稀土离子(... 晶体电场对三价稀土离子自旋─轨道耦合参数有影响,是人们长期怀疑但尚无人作过定量分析与计算的问题.本文从相对论Dirac方程式给出的电子自族─轨道耦合参数表达式出发,以稀土氯化物为例,首次详细计算了晶体电场对稀土离子(Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Dy3+、Er3+、Yb3+)4f自旋─轨道耦合参数贡献的相对大小.计算结果表明:晶体电场对电子自旋─轨道耦合参数的贡献至多占稀土离子核库仑场贡献的万分之一,因此可以忽略不计.寻找电子自旋─轨道耦合参数实验值与理论值差别的途径,应该从离子的电子结构本身着手来研究. 展开更多
关键词 晶体电场 自旋 轨道 耦合 稀土离子
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MFMIS铁电场效晶体管的制备及存储特性 被引量:2
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作者 蔡道林 李平 +5 位作者 张树人 翟亚红 阮爱武 刘劲松 欧阳帆 陈彦宇 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2008年第2期180-182,共3页
在磁控溅射法制备Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)铁电薄膜的基础上,结合半导体工艺制备了金属/铁电/金属/绝缘层/Si衬底(MFMIS)结构的铁电场效应晶体管。器件的顺时针电容-电压(C-V)特性曲线和逆时针漏电流-栅电压(Id-Vg)特性曲线表明,n沟道PZ... 在磁控溅射法制备Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)铁电薄膜的基础上,结合半导体工艺制备了金属/铁电/金属/绝缘层/Si衬底(MFMIS)结构的铁电场效应晶体管。器件的顺时针电容-电压(C-V)特性曲线和逆时针漏电流-栅电压(Id-Vg)特性曲线表明,n沟道PZT铁电场效应晶体管具有明显的栅极化调制效应和极化存储性能,且在-5^+5 V的电压下存储窗口为2 V。 展开更多
关键词 磁控溅射 MFMIS 电场效应晶体 存储窗口
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铁电场效应晶体管的建模与模拟 被引量:3
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作者 张玉薇 王华 +1 位作者 任鸣放 丘伟 《现代电子技术》 2006年第1期123-125,共3页
得到了一个铁电场效应晶体管(MFIS结构)的新的模型,并对该模型进行了电特性分析。从理论上得到了铁电极化和电场强度关系的新的表达式。基于Pao和Sah双积分且考虑了铁电材料的非饱和极化得到漏极电流的精确模拟,并给出了器件模拟结果。... 得到了一个铁电场效应晶体管(MFIS结构)的新的模型,并对该模型进行了电特性分析。从理论上得到了铁电极化和电场强度关系的新的表达式。基于Pao和Sah双积分且考虑了铁电材料的非饱和极化得到漏极电流的精确模拟,并给出了器件模拟结果。通过对器件的模拟,最后总结了一些提高铁电场效应晶体管性能的规律。 展开更多
关键词 电场效应晶体 铁电极化 模拟 建模
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铁电场效应晶体管:原理、材料设计与研究进展 被引量:3
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作者 陆旭兵 李明 刘俊明 《华南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2012年第3期1-11,共11页
系统阐述了铁电场效应晶体管(FeFET)的工作原理,重点介绍了铁电层和缓冲层的材料设计的基本原理、主要的铁电层材料和缓冲层材料及其所对应的FeFET的器件性能.并介绍了基于FeFET的FeCMOS逻辑电路、FeNAND闪存电路、基于氧化物半导体和... 系统阐述了铁电场效应晶体管(FeFET)的工作原理,重点介绍了铁电层和缓冲层的材料设计的基本原理、主要的铁电层材料和缓冲层材料及其所对应的FeFET的器件性能.并介绍了基于FeFET的FeCMOS逻辑电路、FeNAND闪存电路、基于氧化物半导体和有机半导体的FeFET的最新研究成果.最后对FeFET的未来研究作出展望. 展开更多
关键词 非易失性存储器 电场效应晶体 闪存 有机半导体 氧化物半导体
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基于免疫算法的铁电场效应晶体管多态门设计方法 被引量:3
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作者 张立宁 胡伟晨 +1 位作者 王新安 崔小乐 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第9期3157-3165,共9页
应用于硬件安全领域的多态电路对于除金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)外的新器件的研究较少,往往只有少数几个设计实例,缺乏一般化的研究方法和多态门设计平台。面向铁电场效应晶体管(FeFET)器件,该文提出一种多态门设计方法。该... 应用于硬件安全领域的多态电路对于除金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)外的新器件的研究较少,往往只有少数几个设计实例,缺乏一般化的研究方法和多态门设计平台。面向铁电场效应晶体管(FeFET)器件,该文提出一种多态门设计方法。该方法利用免疫算法,将基于FeFET的多态门电路生成问题归结为生物代际演化过程。该文利用C++语言平台和Hspice仿真工具实现了完整的FeFET多态门设计算法,结合具体的工艺和电路模型搭建了多态门的设计平台。实验结果表明,该设计方法可有效地生成出基于FeFET的多态电路,其所生成的多态门电路可实现温度、电源电压和外部信号多种控制方式。 展开更多
关键词 多态门 电场效应晶体 免疫算法 硬件安全
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一种嵌入铁电晶体管内容寻址存储器的高能效浮点运算结构 被引量:3
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作者 张力 高迪 +5 位作者 陈烁 卢旭东 庞展曦 陈闯涛 尹勋钊 卓成 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2021年第6期1518-1524,共7页
随着数据密集型应用的日益增多,内存墙问题已成为制约计算效率的瓶颈。该文提出一种新型的浮点数(FP)运算结构,该结构嵌入了基于铁电场效应晶体管(FeFET)的三元内容寻址存储器(TCAM)以实现高效的计算。通过特定规则设计的超高密度TCAM结... 随着数据密集型应用的日益增多,内存墙问题已成为制约计算效率的瓶颈。该文提出一种新型的浮点数(FP)运算结构,该结构嵌入了基于铁电场效应晶体管(FeFET)的三元内容寻址存储器(TCAM)以实现高效的计算。通过特定规则设计的超高密度TCAM结构,可以用能效更高的TCAM搜索操作代替部分传统浮点运算,从而节约整体能耗。仿真实验证明,该文所提结构和运算执行流程,与常规浮点运算单元(FPU)相比,可以降低多达33%的能耗。 展开更多
关键词 电场效应晶体 三元内容寻址寄存器 浮点运算 能效
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一种可以表征铁电晶体管存储性能退化的宏模型 被引量:2
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作者 刘福东 康晋锋 +2 位作者 安辉耀 刘晓彦 韩汝琦 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期989-994,共6页
从铁电晶体管的动态翻转和双阈值转移特性出发,建立了一种基于施密特触发器的FEFET(铁电场效应晶体管)行为级宏模型。该宏模型可以表征FEFET的转移特性,并且模型参数较少便于调节;模型结构简单、规模较小,可用于HSPICE电路模拟。模拟结... 从铁电晶体管的动态翻转和双阈值转移特性出发,建立了一种基于施密特触发器的FEFET(铁电场效应晶体管)行为级宏模型。该宏模型可以表征FEFET的转移特性,并且模型参数较少便于调节;模型结构简单、规模较小,可用于HSPICE电路模拟。模拟结果与FEFET实验结果比较,显示该模型能够很好地反映铁电材料的疲劳等因素引起的FEFET的存储性能退化,为FEDRAM(铁电动态随机存储器)设计和优化提供了一个良好的模型基础。 展开更多
关键词 铁电动态随机存储器 电场效应晶体 宏模型 HSPICE 模拟
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铁电晶体管近似搜索存储器的电流模测量实现
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作者 陈雨过 王观涛 +2 位作者 黄文韬 卓成 尹勋钊 《计算机辅助设计与图形学学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第5期796-802,共7页
在高硬件容错性模型中,近似搜索可应对数据量与运算量需求能效提高的问题.针对三态内容寻址存储器在近似搜索模式下精度低、可扩展性差等问题,提出了一种电流模测量方案.该方案基于铁电晶体管优化了存储单元的结构设计以降低面积与功耗... 在高硬件容错性模型中,近似搜索可应对数据量与运算量需求能效提高的问题.针对三态内容寻址存储器在近似搜索模式下精度低、可扩展性差等问题,提出了一种电流模测量方案.该方案基于铁电晶体管优化了存储单元的结构设计以降低面积与功耗;将阵列搜索不匹配度由原先的电压输出改为电流输出,提高了电路可扩展性;引入了将模拟电流信号转化为数字脉冲信号的感测放大器(sense amplifier,SA)作为外围电路以检测存储阵列的不匹配度输出.通过Hspice与Virtuoso仿真平台搭建瞬态仿真电路实验,验证了该方案成功地实现了高能效三态内容寻址存储器近似搜索. 展开更多
关键词 存内计算 三态内容寻址存储器 电场效应晶体 近似搜索
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基于电容模型的多层栅FFET研究
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作者 张振娟 陆健 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2011年第35期54-57,共4页
通过SILCAVO软件仿真了铁电场效应晶体管漏极电流L特性。在研究了单层栅极的结构铁电场效应管的Id与铁电参数(ε,Ec,Pr,Ps/Pr)的关系基础上,提出了一种新型结构一电容模型多层栅极结构的铁电场效应管研究,发现具有多层栅极结构... 通过SILCAVO软件仿真了铁电场效应晶体管漏极电流L特性。在研究了单层栅极的结构铁电场效应管的Id与铁电参数(ε,Ec,Pr,Ps/Pr)的关系基础上,提出了一种新型结构一电容模型多层栅极结构的铁电场效应管研究,发现具有多层栅极结构的铁电场效应晶体管的工作电压较高,具有抗干扰的优点;在栅极电压介于3-4V之间容易饱和极化,器件输出特性稳定,对材料性能不敏感,易于制造和便于电路设计;其极化前后输出的漏极电流差较大,有利于信号的分辨,提高电路工作效率。仿真结果为人们研究高性能铁电场效应晶体管提出了一个新的思路。 展开更多
关键词 电场效应晶体 极化 矫顽场 漏极电流 电容模型
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Double-gate tunnel field-effect transistor:Gate threshold voltage modeling and extraction
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作者 李妤晨 张鹤鸣 +3 位作者 胡辉勇 张玉明 王斌 周春宇 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2014年第2期587-592,共6页
The tunnel field-effect transistor(TFET) is a potential candidate for the post-CMOS era.As one of the most important electrical parameters of a device,double gate TFET(DG-TFET) gate threshold voltage was studied.First... The tunnel field-effect transistor(TFET) is a potential candidate for the post-CMOS era.As one of the most important electrical parameters of a device,double gate TFET(DG-TFET) gate threshold voltage was studied.First,a numerical simulation study of transfer characteristic and gate threshold voltage in DG-TFET was reported.Then,a simple analytical model for DG-TFET gate threshold voltage VTG was built by solving quasi-two-dimensional Poisson equation in Si film.The model as a function of the drain voltage,the Si layer thickness,the gate length and the gate dielectric was discussed.It is shown that the proposed model is consistent with the simulation results.This model should be useful for further investigation of performance of circuits containing TFETs. 展开更多
关键词 tunnel field-effect transistor gated P-I-N diode threshold voltage modeling EXTRACTION
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