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硅基集成微马达的研制 被引量:1
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作者 谢会开 孙曦庆 +1 位作者 刘理天 李志坚 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第S1期342-345,共4页
本文介绍一种硅基集成微马达。该微马达转子和定子由厚度为4.2μm的多晶硅膜形成,转子与定子之间的空气间隙为2.0~2.5μm,转子的半径为40~50μm。其制作工艺非常简单,仅包括四次光刻(共三块版)、两次LPCVD... 本文介绍一种硅基集成微马达。该微马达转子和定子由厚度为4.2μm的多晶硅膜形成,转子与定子之间的空气间隙为2.0~2.5μm,转子的半径为40~50μm。其制作工艺非常简单,仅包括四次光刻(共三块版)、两次LPCVD多晶硅膜淀积和两次LTOSiO2膜淀积。初步测量结果表明,微晃动马达的最低驱动电压为49V,最高转速估计可达600rpm。 展开更多
关键词 马达 硅基集成 多晶硅 转子间隙 晃动马达 制作工艺 转速估计 清华大学 电气性能 法兰
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