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Sn-Ag合金无氰电镀液 被引量:4
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作者 蔡积庆 《航空制造技术》 北大核心 2002年第3期68-70,共3页
概述了Sn -Ag合金无氰镀液 ,并获得了均匀致密平滑的Sn -Ag合金镀层 ,该镀液适用于电子部件的可焊性镀层 ,以取代传统的Sn -Pb合金镀层。
关键词 Sn-Ag合金 无氰镀液 电子产品 可焊性 工艺
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亚甲基二膦酸为配位体的无氰碱性镀铜 被引量:3
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作者 郑精武 陆国英 +2 位作者 乔梁 姜力强 蒋梅燕 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第1期143-148,共6页
提出一种以亚甲基二膦酸(MDPA,H4L)为主配位剂的无氰镀铜体系.采用pH电位滴定法分别测定MDPA的四级解离常数和MDPA-Cu(II)的稳定常数,并比较MDPA-Cu(II)和羟基乙叉二膦酸(HEDPA)-Cu(II)的循环伏安曲线和阴极极化曲线.结果表明:MDPA各级... 提出一种以亚甲基二膦酸(MDPA,H4L)为主配位剂的无氰镀铜体系.采用pH电位滴定法分别测定MDPA的四级解离常数和MDPA-Cu(II)的稳定常数,并比较MDPA-Cu(II)和羟基乙叉二膦酸(HEDPA)-Cu(II)的循环伏安曲线和阴极极化曲线.结果表明:MDPA各级解离常数为,pK1=1.86,pK2=2.65,pK3=6.81,pK4=9.04;MDPA与Cu2+形成分级配合物的稳定常数为,pKML=10.65,pKML2=5.59,pKML3=2.50;随着pH升高,形成的配合物依次为,Cu(H3L)2、[Cu(H3L)(H2L)]-和[Cu(H2L)2]2-;当pH在7-10时,MDPA较HEDPA更易与Cu2+配位.当pH=9时,MDPA碱性镀铜体系阴极主要发生的是[Cu(H3L)(H2L)]-和[Cu(H2L)2]2-还原生成铜的过程;在10°C,MDPA体系的铜配位化合物还原生成铜的电位比HEDPA体系负移,扩散速度更快. 展开更多
关键词 无氰镀液 亚甲基二膦酸 铜电沉积 pH电位滴定 羟基乙叉二膦酸
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亚硫酸盐无氰脉冲镀银工艺 被引量:4
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作者 刘奎仁 李丹 谢锋 《黄金学报》 1999年第1期30-33,共4页
用亚硫酸盐为主络合剂的无氟镀波,以不锈钢为基体进行了光充镀银的工艺研究,不锈钢表面经过预处理,电镀后可获得结合良好的镀层,采用脉冲电镀,同直流电镀比较,镀银层耐蚀性、耐磨性较好,镀层更加光亮细致.
关键词 不锈钢 无氰镀液 脉冲电 结合力
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Cu-Sn合金电镀 被引量:9
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作者 王丽丽 《电镀与精饰》 CAS 2000年第5期42-44,共3页
概述了含有焦磷酸 Cu2 +盐和 Sn2 +盐 ,Cu2 +和 Sn2 +的络合剂焦磷酸钾 (或钠 ) ,特定组合添加剂等组成的 Cu- Sn合金无氰镀液 ,可以获得银白色、黄金色、赤铜色和淡黑色等色调的 Cu- Sn合金镀层 ,适用于装饰品的表面精饰。
关键词 添加剂 装饰品 铜锡合金 无氰镀液
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制备铋靶的脉冲电镀工艺
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作者 张红强 戴亚堂 +1 位作者 张欢 夏姣 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期428-432,共5页
采用脉冲电镀工艺,以直径为1 mm的铜丝为芯轴,在无氰镀液体系中,制备出惯性约束聚变实验用铋靶所需的金属铋镀层。通过正交试验得到的最佳脉冲工艺条件为:电流密度5 A/cm2,频率600 Hz,占空比1∶6,温度20℃。利用扫描探针显微镜和扫描电... 采用脉冲电镀工艺,以直径为1 mm的铜丝为芯轴,在无氰镀液体系中,制备出惯性约束聚变实验用铋靶所需的金属铋镀层。通过正交试验得到的最佳脉冲工艺条件为:电流密度5 A/cm2,频率600 Hz,占空比1∶6,温度20℃。利用扫描探针显微镜和扫描电子显微镜分别对铋镀层表面形貌进行分析,同时利用X射线衍射对铋镀层物相成分进行分析。表征结果表明:所得铋镀层表面细致均匀,孔隙率低,平整性好,无裂纹。 展开更多
关键词 铋靶 脉冲电 无氰镀液 乙二胺四乙酸盐 表面形貌
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