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霍尔源用于光学镀膜 被引量:5
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作者 贾克辉 黄建兵 +3 位作者 徐颖 陈红 高劲松 曹建林 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第10期1228-1230,共3页
报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标 ,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手 ,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2 膜的成膜工艺与质量 研究表明 ,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高 ,更加接... 报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标 ,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手 ,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2 膜的成膜工艺与质量 研究表明 ,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高 ,更加接近于块状材料 ,膜层结构比传统沉积手段更加致密 ,附着力也很高 同时用此项技术沉积了金属增强反射镜 ,试验结果与理论设计结果相符 。 展开更多
关键词 无栅霍尔源 光学薄膜 等离子体辅助镀膜
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