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聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用
被引量：
3
1
作者
毕建华
陆家和
《真空科学与技术》
CSCD
1994年第4期299-306,共8页
聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子...
聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。
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关键词
聚焦离子束
无掩模刻蚀
光电子器件
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职称材料
题名
聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用
被引量：
3
1
作者
毕建华
陆家和
机构
清华大学电子工程系
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1994年第4期299-306,共8页
文摘
聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。
关键词
聚焦离子束
无掩模刻蚀
光电子器件
Keywords
Focused ion beam (FIB),Maskless etching,Optoelectronic device
分类号
TN205 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用
毕建华
陆家和
《真空科学与技术》
CSCD
1994
3
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