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采用双自由曲面整形的无掩模光刻照明系统被引量：1: 1; 作者孟祥翔刘伟奇 +4 位作者魏忠伦柳华康玉思冯睿张大亮《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第5期1505-1510,共6页; 为了实现无掩模光刻系统所需求的矩形准直平顶激光光束照明,提高照明系统的能量利用率,提出了一种利用双自由曲面整形的照明系统设计方法。根据光程守恒原理和折射定律,推导了积分形式的双自由曲面面形方程;采用数值解法求解积分方程,... 展开更多; 关键词无掩模光刻照明系统激光光束整形矩形平顶光束自由曲面; 在线阅读下载PDF 职称材料

多光束无掩模光刻系统被引量：3: 2; 作者沈易吴翌旭 +1 位作者邢燕冰周成刚《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期537-539,共3页; 介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜(DMD)对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜阵列聚焦,利用聚焦点阵配合纳米移动平台进行扫描光刻。介绍了该无掩模光刻实验系统结构及工作原理,并... 展开更多; 关键词无掩模光刻多光束光刻波带片阵列光刻 DMD; 在线阅读下载PDF 职称材料

新型光刻技术研究进展被引量：16: 3; 作者何立文罗乐 +2 位作者孟钢邵景珍方晓东《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期30-37,共8页; 集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些... 展开更多; 关键词激光技术光学制造新型光刻技术无掩模光刻掩模光刻微纳结构; 在线阅读下载PDF 职称材料

2μm分辨DMD光刻系统镜头设计被引量：3: 4; 作者郭华周金运 +1 位作者刘志涛雷亮《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期83-88,共6页; 针对2μm分辨力的光刻,在以数字空间微反射器(DMD)为空间光调制器(SLM)的光刻系统中,采用一种新的非对称式结构组合,使用较少的透镜组成了一个高分辨力、大孔径的投影光刻镜头。利用ZEMAX光学设计软件对其进行了建模和优化,最终得到其... 展开更多; 关键词 DMD无掩模光刻栅格效应投影镜头光学设计; 在线阅读下载PDF 职称材料

数字灰度光刻成像物镜设计被引量：1: 5; 作者陈铭勇杜惊雷 +2 位作者郭小伟马延琴王景全《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期120-124,共5页; 为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数... 展开更多; 关键词无掩模光刻反射光调制器件光刻物镜光学设计; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究被引量：1: 6; 作者张恒煦董连和 +5 位作者王丽孙艳军冷雁冰吴博琦李哲刘顺瑞《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期1441-1445,共5页; 针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层... 展开更多; 关键词无掩模光刻数字微镜灰度掩模微柱透镜阵列分模曝光; 在线阅读下载PDF 职称材料

用于MiniLED背光模组的亮度增强薄膜设计与制备被引量：4: 7; 作者汪勇冯奇斌 +2 位作者郭敏王梓吕国强《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期887-893,共7页; 传统的两层棱镜膜对于MiniLED背光的增亮效果不明显,因此设计了一种微结构薄膜来代替两层棱镜膜。首先,根据MiniLED背光的配光曲线及尺寸,对微结构进行分段设计。将与MiniLED芯片等宽区域设定为顶角90°的棱柱结构,对2个MiniLED芯... 展开更多; 关键词 MiniLED背光模组增亮扩展光源微结构无掩模光刻; 在线阅读下载PDF 职称材料

还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列的制备及光电特性被引量：2: 8; 作者季津海闻雪梅 +1 位作者陈洋毕宴钢《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期1826-1832,共7页; 利用双光束干涉-无掩模光刻技术制备了周期性氧化石墨烯微结构阵列,利用肼蒸气对氧化石墨烯脱氧还原,然后蒸镀超薄Au薄膜制备了还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列(R-GO/Au).对复合电极在可见光波段的透过率和表面电阻进行了表征,结果表明... 展开更多; 关键词还原氧化石墨烯/Au复合电极微电极阵列双光束干涉-无掩模光刻技术肼蒸气还原; 在线阅读下载PDF 职称材料

高精细水凝胶微图案的快速制备及其对细胞行为的诱导被引量：2: 9; 作者张维彩郑美玲 +2 位作者董贤子刘洁金峰《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期62-72,共11页; 为探索不同尺寸的水凝胶微图案对细胞的诱导调控作用,本文采用飞秒激光无掩模投影光刻技术,将水凝胶前驱体溶液制备成所设计的图案,同时结合大面积拼接,获得了具有大面积、不同尺寸的多边形和多角星微结构。详细研究了微结构的最佳加工... 展开更多; 关键词无掩模投影光刻水凝胶微图案细胞行为; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名采用双自由曲面整形的无掩模光刻照明系统被引量：1: 1; 作者孟祥翔刘伟奇魏忠伦柳华康玉思冯睿张大亮; 机构中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院大学; 出处《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第5期1505-1510,共6页; 基金国家863高技术研究发展计划(2009AA032701); 文摘为了实现无掩模光刻系统所需求的矩形准直平顶激光光束照明,提高照明系统的能量利用率,提出了一种利用双自由曲面整形的照明系统设计方法。根据光程守恒原理和折射定律,推导了积分形式的双自由曲面面形方程;采用数值解法求解积分方程,分别设计了含有双自由曲面的双透镜整形单元和单透镜整形单元的照明系统,使用光学设计软件对两种照明系统进行模拟,得到两种照明系统的照明均匀性在93%以上,能量利用率大于91%。结果表明,两种照明系统均能实现无掩模光刻系统的高均匀性、高能量利用率照明。; 关键词无掩模光刻照明系统激光光束整形矩形平顶光束自由曲面; Keywords maskless lithography illumination system laser beam shaping rectangular flat-top beam freeform surface; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名多光束无掩模光刻系统被引量：3: 2; 作者沈易吴翌旭邢燕冰周成刚; 机构上海科学院集成电路制造装备研究中心; 出处《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期537-539,共3页; 文摘介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜(DMD)对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜阵列聚焦,利用聚焦点阵配合纳米移动平台进行扫描光刻。介绍了该无掩模光刻实验系统结构及工作原理,并给出了多光束光刻的实验结果。实验表明:利用普通蓝紫光源和聚焦元件阵列可实现分辨率为400 nm的多光束并行光刻。; 关键词无掩模光刻多光束光刻波带片阵列光刻 DMD; Keywords maskless lithography multi-beam lithography zone-plate-array lithography digital micro-mirror device; 分类号 TN202 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名新型光刻技术研究进展被引量：16: 3; 作者何立文罗乐孟钢邵景珍方晓东; 机构合肥工业大学电子科学与应用物理学院中国科学院安徽光学精密机械研究所; 出处《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期30-37,共8页; 文摘集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术,分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用。对未来光刻技术的发展方向进行了展望。; 关键词激光技术光学制造新型光刻技术无掩模光刻掩模光刻微纳结构; Keywords laser technique optical fabrication new lithography technology maskless lithography mask lithography micro-nano structure; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名2μm分辨DMD光刻系统镜头设计被引量：3: 4; 作者郭华周金运刘志涛雷亮; 机构广东工业大学物理电子学; 出处《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期83-88,共6页; 基金国家自然科学基金(61475037) 国家自然科学基金青年基金(61107029)资助项目; 文摘针对2μm分辨力的光刻,在以数字空间微反射器(DMD)为空间光调制器(SLM)的光刻系统中,采用一种新的非对称式结构组合,使用较少的透镜组成了一个高分辨力、大孔径的投影光刻镜头。利用ZEMAX光学设计软件对其进行了建模和优化,最终得到其全视场波像差小于λ/10,畸变小于0.02%,像方数值孔径NA=0.158,最小分辨力为2μm,近轴缩小倍率β=-0.217,其结果有效的减少了DMD栅格效应对空间数字掩模图形的影响,满足数字投影光刻光学系统的各项指标要求。最后,对设计结果进行了公差分析,在修改过少数几个默认公差后,采用Monte Carlo方法进行模拟装配,证明了这种新结构镜头加工和校装的可行性。; 关键词 DMD无掩模光刻栅格效应投影镜头光学设计; Keywords DMD maskless lithography grid effect projection lens optical design; 分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名数字灰度光刻成像物镜设计被引量：1: 5; 作者陈铭勇杜惊雷郭小伟马延琴王景全; 机构四川大学纳米光子技术研究所; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期120-124,共5页; 文摘为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA=0.3,工作波长λ=442nm,倍率10×,分辨率R≤1.2μm,焦深4μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.; 关键词无掩模光刻反射光调制器件光刻物镜光学设计; Keywords Maskless lithography DMD Lithography lens Optical designing; 分类号 O438 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究被引量：1: 6; 作者张恒煦董连和王丽孙艳军冷雁冰吴博琦李哲刘顺瑞; 机构长春理工大学光电工程学院; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期1441-1445,共5页; 文摘针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层掩模在抗蚀剂上的投影成像高度不超过物镜的焦深范围。基于数字微镜阵列对灰度掩模的空间调制原理,设计出匹配的分层掩模版图,给出了图形分层原则和方法以及模板设计的原理。实验结果表明:采用该方法制作微柱透镜阵列,面形平均误差为0.54μm,相比以往单模曝光平均误差值0.79μm,平均误差减小了0.25μm,该方法弥补了由物镜焦深限制所造成的技术问题,提高了曝光质量。; 关键词无掩模光刻数字微镜灰度掩模微柱透镜阵列分模曝光; Keywords Maskless lithography Digital micro-mirror device Grayscalemask Hemi-cylindrical lens array Multipleexposure; 分类号 O436.1 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名用于MiniLED背光模组的亮度增强薄膜设计与制备被引量：4: 7; 作者汪勇冯奇斌郭敏王梓吕国强; 机构合肥工业大学特种显示技术国家工程实验室现代显示技术省部共建国家重点实验室光电技术研究院合肥工业大学仪器科学与光电工程学院; 出处《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期887-893,共7页; 基金安徽省科技重大专项(17030901053); 文摘传统的两层棱镜膜对于MiniLED背光的增亮效果不明显,因此设计了一种微结构薄膜来代替两层棱镜膜。首先,根据MiniLED背光的配光曲线及尺寸,对微结构进行分段设计。将与MiniLED芯片等宽区域设定为顶角90°的棱柱结构,对2个MiniLED芯片之间的区域,将MiniLED芯片作为扩展光源,芯片2个端点发出的光束到达微结构底面会形成一个夹角,将夹角的角平分线处光线准直到轴向方向,结合Snell定律进行计算,得到棱柱微结构倾角。然后,通过LightTools仿真软件对单个微结构及微结构阵列分别进行了建模和仿真,仿真结果表明:加微结构薄膜后的轴向视角亮度相比于加两层棱镜膜提升了31.3%。最后,通过无掩模光刻设备对设计的微结构薄膜进行加工制备,并对样片进行测试。实测结果表明:加微结构薄膜后的轴向视角亮度相较于加两层棱镜膜提升了25.7%。实现了针对MiniLED背光模组的亮度增强设计。; 关键词 MiniLED背光模组增亮扩展光源微结构无掩模光刻; Keywords MiniLED backlight module brightness enhancement extended source microstructure maskless lithography; 分类号 TN141.9 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列的制备及光电特性被引量：2: 8; 作者季津海闻雪梅陈洋毕宴钢; 机构吉林大学电子科学与工程学院; 出处《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期1826-1832,共7页; 基金国家自然科学基金(批准号:61322402)资助~~; 文摘利用双光束干涉-无掩模光刻技术制备了周期性氧化石墨烯微结构阵列,利用肼蒸气对氧化石墨烯脱氧还原,然后蒸镀超薄Au薄膜制备了还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列(R-GO/Au).对复合电极在可见光波段的透过率和表面电阻进行了表征,结果表明,R-GO/Au复合微电极阵列具有良好的光电特性.将R-GO/Au复合微电极阵列引入到有机太阳电池中作为半透明阳极,器件的光电转化效率可达3.43%.; 关键词还原氧化石墨烯/Au复合电极微电极阵列双光束干涉-无掩模光刻技术肼蒸气还原; Keywords Reduced-graphene-oxide/Au composite electrode Microelectrode array Two beam interference holographic lithography technique Hydrazine vapor reduction; 分类号 O646 [理学—物理化学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名高精细水凝胶微图案的快速制备及其对细胞行为的诱导被引量：2: 9; 作者张维彩郑美玲董贤子刘洁金峰; 机构中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心有机纳米光子学实验室中国科学院大学未来技术学院; 出处《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期62-72,共11页; 基金国家自然科学基金资助项目(61975213,61475164,51901234) 中奥国际合作项目(GJHZ1720) 中国科学院国际伙伴计划(GJHZ2021130)。; 文摘为探索不同尺寸的水凝胶微图案对细胞的诱导调控作用,本文采用飞秒激光无掩模投影光刻技术,将水凝胶前驱体溶液制备成所设计的图案,同时结合大面积拼接,获得了具有大面积、不同尺寸的多边形和多角星微结构。详细研究了微结构的最佳加工条件及其浸润性。带有微结构的基底与成纤维细胞共培养的实验结果表明,微结构的空间限位作用会改变细胞形貌,从而能够对细胞的生长行为进行有效地调控。尤其在小尺寸的多边形和多角星微结构上,细胞核会落入微结构的中心陷窝,细胞骨架则不断铺展分布,并逐渐与微结构形貌趋于一致。该研究证实了微结构图案单元尺寸对诱导细胞行为功能至关重要,将为利用生物相容性水凝胶微结构进行体外细胞研究提供新技术与新方法。; 关键词无掩模投影光刻水凝胶微图案细胞行为; Keywords maskless optical projection lithography hydrogel micropattern cell behavior; 分类号 TH741.5 [机械工程—光学工程] TN249 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	采用双自由曲面整形的无掩模光刻照明系统	孟祥翔刘伟奇魏忠伦柳华康玉思冯睿张大亮	《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心	2014	1	在线阅读下载PDF 职称材料
2	多光束无掩模光刻系统	沈易吴翌旭邢燕冰周成刚	《应用光学》 CAS CSCD 北大核心	2010	3	在线阅读下载PDF 职称材料
3	新型光刻技术研究进展	何立文罗乐孟钢邵景珍方晓东	《激光技术》 CAS CSCD 北大核心	2019	16	在线阅读下载PDF 职称材料
4	2μm分辨DMD光刻系统镜头设计	郭华周金运刘志涛雷亮	《光电工程》 CAS CSCD 北大核心	2015	3	在线阅读下载PDF 职称材料
5	数字灰度光刻成像物镜设计	陈铭勇杜惊雷郭小伟马延琴王景全	《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	1	在线阅读下载PDF 职称材料
6	基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究	张恒煦董连和王丽孙艳军冷雁冰吴博琦李哲刘顺瑞	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2016	1	在线阅读下载PDF 职称材料
7	用于MiniLED背光模组的亮度增强薄膜设计与制备	汪勇冯奇斌郭敏王梓吕国强	《应用光学》 CAS CSCD 北大核心	2019	4	在线阅读下载PDF 职称材料
8	还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列的制备及光电特性	季津海闻雪梅陈洋毕宴钢	《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2016	2	在线阅读下载PDF 职称材料
9	高精细水凝胶微图案的快速制备及其对细胞行为的诱导	张维彩郑美玲董贤子刘洁金峰	《光电工程》 CAS CSCD 北大核心	2022	2	在线阅读下载PDF 职称材料