O484.1 99031779射频溅射-热处理法研制SnO<sub>2</sub>薄膜=Study of theSnO<sub>2</sub> thin-film prepared by RF-sputteringand heat-treatment[刊,中]/蒙冕武,邓希敏,刘明登（广西师范大学新技术新材料...O484.1 99031779射频溅射-热处理法研制SnO<sub>2</sub>薄膜=Study of theSnO<sub>2</sub> thin-film prepared by RF-sputteringand heat-treatment[刊,中]/蒙冕武,邓希敏,刘明登（广西师范大学新技术新材料研究所.广西,桂林（541004））//传感器世界.—1998,4（11）.-10-15首先采用350 W×0.10 Pa×20 min的射频溅射工艺制备β-Sn膜。展开更多
