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基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究
被引量：
9
1
作者
侯晶
许乔
+3 位作者
雷向阳
周礼书
张清华
王健
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期555-558,共4页
利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的...
利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测,结果表明,粗糙度基本无变化,刻蚀前后粗糙度分别为0. 72nm和0. 71nm。基于Preston假设, 建立了数控化学抛光理论模型,运用WYKO干涉仪观察实验现象可知,化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线,小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线。
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关键词
Marangoni界面效应
数控化学抛光
去除函数
化学
刻蚀
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职称材料
题名
基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究
被引量：
9
1
作者
侯晶
许乔
雷向阳
周礼书
张清华
王健
机构
成都精密光学工程研究中心
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期555-558,共4页
基金
中国工程物理研究院激光聚变研究中心创新基金资助课题
文摘
利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测,结果表明,粗糙度基本无变化,刻蚀前后粗糙度分别为0. 72nm和0. 71nm。基于Preston假设, 建立了数控化学抛光理论模型,运用WYKO干涉仪观察实验现象可知,化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线,小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线。
关键词
Marangoni界面效应
数控化学抛光
去除函数
化学
刻蚀
Keywords
Functions
Interfaces (materials)
Numerical control systems
Surface roughness
分类号
TN244 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究
侯晶
许乔
雷向阳
周礼书
张清华
王健
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
9
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