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基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型
被引量：
13
1
作者
郭小伟
杜惊雷
+2 位作者
罗铂靓
郭永康
杜春雷
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第9期1412-1416,共5页
在深入探讨DMD(DigitalMirrorDevice)灰度图形传递的特点基础上,把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量,建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例,通过模拟分析,讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对...
在深入探讨DMD(DigitalMirrorDevice)灰度图形传递的特点基础上,把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量,建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例,通过模拟分析,讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对抗蚀剂曝光量分布的影响,揭示了数字灰度光刻成像机理,为开展数字光刻实验研究提供了理论根据.
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关键词
数字灰度光刻
DMD
成像模型
曝光量
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职称材料
题名
基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型
被引量：
13
1
作者
郭小伟
杜惊雷
罗铂靓
郭永康
杜春雷
机构
四川大学物理学院
中国科学院光电技术研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第9期1412-1416,共5页
基金
国家自然科学基金(60376021)
微细加工国家重点实验基金资助
文摘
在深入探讨DMD(DigitalMirrorDevice)灰度图形传递的特点基础上,把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量,建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例,通过模拟分析,讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对抗蚀剂曝光量分布的影响,揭示了数字灰度光刻成像机理,为开展数字光刻实验研究提供了理论根据.
关键词
数字灰度光刻
DMD
成像模型
曝光量
Keywords
Digital gray-tone lithography
DMD
Imaging model
Exposure dose
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型
郭小伟
杜惊雷
罗铂靓
郭永康
杜春雷
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
13
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