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无电化学沉积法合成铜纳米线
1
作者
张晓艳
王明华
翟玉春
《东北大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第9期1302-1304,1315,共4页
采用无电化学沉积法制备铜纳米线,与电化学沉积法不同,无电化学沉积法不需要在通孔模板的一面溅射一层导电金膜作为阴极,以及持续供给电力才能完成纳米线的合成.考察沉积时间、敏化液等因素对铜纳米线制备的影响.使用扫描电子显微镜(SEM...
采用无电化学沉积法制备铜纳米线,与电化学沉积法不同,无电化学沉积法不需要在通孔模板的一面溅射一层导电金膜作为阴极,以及持续供给电力才能完成纳米线的合成.考察沉积时间、敏化液等因素对铜纳米线制备的影响.使用扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射(XRD)对样品其进行检测,结果表明,无电化学沉积法首先形成纳米粒子,随着沉积时间的延长,纳米粒子逐渐融合形成纳米管、纳米线.制备的铜纳米线为多晶态结构.在没有模板限制的情况下,铜原子自催化生长形成类似于花瓣的结构.用95%乙醇代替水配制的敏化液性质较稳定,但是,与以水配制的敏化液相比,在大约相同的沉积时间条件下较不易形成纳米线.
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关键词
无电
化学沉积法
铜纳米线
制备
敏化液
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职称材料
题名
无电化学沉积法合成铜纳米线
1
作者
张晓艳
王明华
翟玉春
机构
东北大学材料与冶金学院
出处
《东北大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第9期1302-1304,1315,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(51074205)
文摘
采用无电化学沉积法制备铜纳米线,与电化学沉积法不同,无电化学沉积法不需要在通孔模板的一面溅射一层导电金膜作为阴极,以及持续供给电力才能完成纳米线的合成.考察沉积时间、敏化液等因素对铜纳米线制备的影响.使用扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射(XRD)对样品其进行检测,结果表明,无电化学沉积法首先形成纳米粒子,随着沉积时间的延长,纳米粒子逐渐融合形成纳米管、纳米线.制备的铜纳米线为多晶态结构.在没有模板限制的情况下,铜原子自催化生长形成类似于花瓣的结构.用95%乙醇代替水配制的敏化液性质较稳定,但是,与以水配制的敏化液相比,在大约相同的沉积时间条件下较不易形成纳米线.
关键词
无电
化学沉积法
铜纳米线
制备
敏化液
Keywords
electroless
chemical deposition
copper nanowire
preparation
sensitizing solution
分类号
O614.121 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
无电化学沉积法合成铜纳米线
张晓艳
王明华
翟玉春
《东北大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
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职称材料
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