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摩擦偶件材料对非晶含氢碳薄膜摩擦学性能的影响 被引量:9
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作者 李红轩 徐洮 +3 位作者 郝俊英 陈建敏 周惠娣 刘惠文 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期483-487,共5页
利用等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅基底上制备了非晶含氢碳薄膜;采用Raman光谱仪、红外光谱仪和原子力显微镜等研究了碳膜的微观结构和表面形貌;采用UMT-2MT型摩擦磨损试验机考察了摩擦偶件材料对碳膜摩擦学性能的影响,并探讨... 利用等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅基底上制备了非晶含氢碳薄膜;采用Raman光谱仪、红外光谱仪和原子力显微镜等研究了碳膜的微观结构和表面形貌;采用UMT-2MT型摩擦磨损试验机考察了摩擦偶件材料对碳膜摩擦学性能的影响,并探讨了其磨损机制.结果表明:所制备的非晶含氢碳膜均匀、致密,硬度较高;当碳膜同高硬度陶瓷材料配副时,其摩擦系数低而稳定,薄膜呈现轻微擦伤和剥落磨损特征;当碳膜同低硬度的金属材料配副时,其摩擦系数高且不稳定,薄膜呈现严重粘着和磨粒磨损特征.薄膜的摩擦磨损行为同薄膜和摩擦偶件之间的相互转移有关. 展开更多
关键词 非晶含氢碳膜 等离子体增强化学气相沉积 摩擦偶件材料 摩擦学性能
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摩擦偶件对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦磨损行为的影响 被引量:2
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作者 杨广彬 麻洪霞 +1 位作者 吴志申 张平余 《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期61-63,共3页
利用分子沉积技术在单晶硅基底上制备了PDDA/PSS分子沉积膜。采用UV-vis吸收光谱对沉积过程进行了跟踪检测,用原子力显微镜观察了分子沉积膜的表面形貌,考察了摩擦偶件材料对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦学行为的影响,并探讨了其磨损机制。... 利用分子沉积技术在单晶硅基底上制备了PDDA/PSS分子沉积膜。采用UV-vis吸收光谱对沉积过程进行了跟踪检测,用原子力显微镜观察了分子沉积膜的表面形貌,考察了摩擦偶件材料对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦学行为的影响,并探讨了其磨损机制。实验结果表明,薄膜与较硬的偶件材料对摩时,剪切应力较大,薄膜很容易被磨穿,抗磨寿命极短;在相同实验条件下,薄膜与Cu球对摩时,薄膜的耐磨寿命最长,不锈钢球次之,与Si3N4球和WC球对摩时,薄膜的耐磨寿命较短。 展开更多
关键词 PDDA/PSS分子沉积膜 摩擦偶件材料 摩擦磨损行为
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