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掺钇二氧化锆薄膜制备及其特性测量
被引量：
1
1
作者
任树喜
马洪良
+3 位作者
徐国庆
高召顺
周炯
张义炳
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期173-176,共4页
采用电子束蒸发法在室温下制备出掺钇二氧化锆薄膜.借助紫外分光光度计、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)方法研究了薄膜的透射率、表面结构.同时研究了不同退火温度下对薄膜光学性质的影响.研究的结果表明:退火温度的增加,使得二氧...
采用电子束蒸发法在室温下制备出掺钇二氧化锆薄膜.借助紫外分光光度计、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)方法研究了薄膜的透射率、表面结构.同时研究了不同退火温度下对薄膜光学性质的影响.研究的结果表明:退火温度的增加,使得二氧化锆薄膜的漏电流增大,从而导致其热稳定性变差.不同浓度三氧化二钇的掺杂对其透射率影响很小.
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关键词
电子束蒸发
掺钇氧化锆薄膜
退火温度
透射率
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职称材料
题名
掺钇二氧化锆薄膜制备及其特性测量
被引量：
1
1
作者
任树喜
马洪良
徐国庆
高召顺
周炯
张义炳
机构
河北工业大学理学院
上海大学物理系
出处
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期173-176,共4页
文摘
采用电子束蒸发法在室温下制备出掺钇二氧化锆薄膜.借助紫外分光光度计、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)方法研究了薄膜的透射率、表面结构.同时研究了不同退火温度下对薄膜光学性质的影响.研究的结果表明:退火温度的增加,使得二氧化锆薄膜的漏电流增大,从而导致其热稳定性变差.不同浓度三氧化二钇的掺杂对其透射率影响很小.
关键词
电子束蒸发
掺钇氧化锆薄膜
退火温度
透射率
Keywords
Electron beam evaporation, Y2O3-doped ZrO2 film, annealing temperature, transmittance
分类号
O43 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
掺钇二氧化锆薄膜制备及其特性测量
任树喜
马洪良
徐国庆
高召顺
周炯
张义炳
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
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