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题名工件台移动直线性对掩模移动曝光的影响
被引量：3
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作者
佟军民
胡松
董小春
严伟
余国彬
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机构
中国科学院光电技术研究所
中国科学院研究生院
河南许昌职业技术学院
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出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第11期55-60,共6页
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基金
国家自然科学基金资助项目(60606012)
中科院仪器改造项目
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文摘
针对工件台制造和装配过程中产生的移动直线性误差,建立了掩模沿曲线移动时曝光量与曲线和移动距离之间关系的数学模型。通过对实测工件台移动直线性误差规律的分析,确定了近似的移动曲线函数。利用MATLAB进行数值模拟的方法,分别模拟了沿理想直线移动、不同幅值和不同移动距离的曲线移动时,所获得元件的面形,并分析了面形误差的影响因素和"竹节"误差产生的原因。最后得出结论:通过控制移动距离为一倍的掩模图形重复周期,并减小工件台移动直线性误差,对控制元件的面形精度和"竹节"误差最为有利。
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关键词
掩模移动曝光技术
曲线移动
“竹节”形误差
面形精度
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Keywords
mask moving exposure technique
curve movement
＇bamboo＇ shape variation error
surface shape accuracy
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分类号
TN206
[电子电信—物理电子学]
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题名基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
被引量：1
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作者
佟军民
胡松
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机构
许昌职业技术学院
中国科学院光电技术研究所
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出处
《制造技术与机床》
北大核心
2015年第8期47-50,共4页
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基金
国家自然科学基金(61376110
61274108)
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文摘
提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。
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关键词
掩模移动曝光技术
接近式光刻机
对准系统
对准精度
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Keywords
mask moving exposure technique
proximity aligner
alignment system
alignment accuracy
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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