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全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律
被引量：
2
1
作者
韩建
巴音贺希格
+1 位作者
李文昊
孔鹏
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期2380-2388,共9页
为分析光栅槽形形成的基本原理及槽形随光刻胶特性曲线的演化规律,建立了显影过程中光栅掩模槽形形成的演化模型。基于光刻胶溶解速率在不同曝光量区间的变化,将光刻胶特性曲线分成3个不同区域并分析各区域在光栅掩模槽形形成中的作用,...
为分析光栅槽形形成的基本原理及槽形随光刻胶特性曲线的演化规律,建立了显影过程中光栅掩模槽形形成的演化模型。基于光刻胶溶解速率在不同曝光量区间的变化,将光刻胶特性曲线分成3个不同区域并分析各区域在光栅掩模槽形形成中的作用,讨论了在不同光刻胶特性曲线条件下光栅掩模槽形的演化规律。结果表明:当光刻胶非线性效应显著时,掩模槽形易形成矩形或梯形,此时槽深由原始胶厚决定;当光刻胶线性效应较显著时,槽形形成正弦形同时槽深有所减小。该模型正确反映了光栅槽形随光刻胶特性曲线变化的演化规律,为通过控制光刻胶特性曲线制作多种掩模槽形提供了理论依据及方法。
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关键词
全息光栅
非线性效应
槽
深
掩模槽形
光刻胶
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职称材料
干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响
被引量：
3
2
作者
宋莹
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期339-343,共5页
为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种...
为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度,导致掩模槽形的可控性下降,其影响具有一致性;为保证曝光对比度达到0.95,低频漂移均方根值应控制在0.05个条纹周期以内;小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略;低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明,为获取合格的光栅掩模,应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系,并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1/20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。
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关键词
光栅
光栅曝光
数值计算
条纹相位变化
曝光对比度
掩模槽形
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职称材料
题名
全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律
被引量：
2
1
作者
韩建
巴音贺希格
李文昊
孔鹏
机构
中国科学院长春光学机密机械与物理研究所
中国科学院大学
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期2380-2388,共9页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.60478034)
国家创新方法工作专项资助项目(No.2008IM040700)
+1 种基金
国家重大科学仪器设备开发专项资助项目(No.2011YQ120023)
中国科学院知识创新工程资助项目(No.100132H100)
文摘
为分析光栅槽形形成的基本原理及槽形随光刻胶特性曲线的演化规律,建立了显影过程中光栅掩模槽形形成的演化模型。基于光刻胶溶解速率在不同曝光量区间的变化,将光刻胶特性曲线分成3个不同区域并分析各区域在光栅掩模槽形形成中的作用,讨论了在不同光刻胶特性曲线条件下光栅掩模槽形的演化规律。结果表明:当光刻胶非线性效应显著时,掩模槽形易形成矩形或梯形,此时槽深由原始胶厚决定;当光刻胶线性效应较显著时,槽形形成正弦形同时槽深有所减小。该模型正确反映了光栅槽形随光刻胶特性曲线变化的演化规律,为通过控制光刻胶特性曲线制作多种掩模槽形提供了理论依据及方法。
关键词
全息光栅
非线性效应
槽
深
掩模槽形
光刻胶
Keywords
holographic grating
nonlinearity effect
groove depth
grating mask
photoresist
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响
被引量：
3
2
作者
宋莹
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期339-343,共5页
基金
国家重大科学仪器设备开发专项基金资助项目(2011YQ120023)
文摘
为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度,导致掩模槽形的可控性下降,其影响具有一致性;为保证曝光对比度达到0.95,低频漂移均方根值应控制在0.05个条纹周期以内;小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略;低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明,为获取合格的光栅掩模,应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系,并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1/20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。
关键词
光栅
光栅曝光
数值计算
条纹相位变化
曝光对比度
掩模槽形
Keywords
grating
grating exposure
numerical calculation
fringe’s phase change
exposure contrast
grating mask pro-file
分类号
O438.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律
韩建
巴音贺希格
李文昊
孔鹏
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响
宋莹
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016
3
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职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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