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磁控溅射制备Zr膜的应力研究
被引量：
2
1
作者
曹鸿
张传军
+1 位作者
王善力
褚君浩
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第6期742-744,共3页
为了研究磁控溅射方法制备的Zr膜的应力分布情况,采用探针轮廓仪测量镀膜前后基片在1维方向上的形变,根据镀膜前后基片曲率半径的变化和Stoney公式,用自编应力计算软件计算出薄膜的内应力。结果表明,Zr膜中主要存在的是压应力,且分布不...
为了研究磁控溅射方法制备的Zr膜的应力分布情况,采用探针轮廓仪测量镀膜前后基片在1维方向上的形变,根据镀膜前后基片曲率半径的变化和Stoney公式,用自编应力计算软件计算出薄膜的内应力。结果表明,Zr膜中主要存在的是压应力,且分布不均匀;工作气压对Zr膜内应力影响不大,但膜厚对Zr膜内应力影响较大,且随膜厚的增加,Zr膜中压应力减小。
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关键词
薄膜
自支撑
应力
磁控溅射
探针轮廓仪
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职称材料
题名
磁控溅射制备Zr膜的应力研究
被引量：
2
1
作者
曹鸿
张传军
王善力
褚君浩
机构
中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室
上海太阳能电池研究与发展中心
出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第6期742-744,共3页
文摘
为了研究磁控溅射方法制备的Zr膜的应力分布情况,采用探针轮廓仪测量镀膜前后基片在1维方向上的形变,根据镀膜前后基片曲率半径的变化和Stoney公式,用自编应力计算软件计算出薄膜的内应力。结果表明,Zr膜中主要存在的是压应力,且分布不均匀;工作气压对Zr膜内应力影响不大,但膜厚对Zr膜内应力影响较大,且随膜厚的增加,Zr膜中压应力减小。
关键词
薄膜
自支撑
应力
磁控溅射
探针轮廓仪
Keywords
thin films
free-standing
stress
magnetic sputtering
stylus profiler
分类号
O484.2 [理学—固体物理]
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作者
出处
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被引量
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1
磁控溅射制备Zr膜的应力研究
曹鸿
张传军
王善力
褚君浩
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012
2
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