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化学机械抛光机的抛光盘面形在位测量研究
被引量：
2
1
作者
马堃
金洙吉
+2 位作者
董志刚
朱祥龙
康仁科
《组合机床与自动化加工技术》
北大核心
2021年第6期49-52,共4页
化学机械抛光机是加工光学元件的主要设备,抛光盘面形是影响抛光机加工精度的重要技术参数。现有的抛光盘面形测量主要依赖离线测量的方式,存在着测量基准不统一、二次装夹引发变形等问题。针对上述问题,提出了一种抛光盘面形在位测量方...
化学机械抛光机是加工光学元件的主要设备,抛光盘面形是影响抛光机加工精度的重要技术参数。现有的抛光盘面形测量主要依赖离线测量的方式,存在着测量基准不统一、二次装夹引发变形等问题。针对上述问题,提出了一种抛光盘面形在位测量方法,搭建了抛光盘面形在位测量系统。经过误差分析将测量误差分离成为平行度误差与直线度误差两部分,通过垫调整片的方式将平行度误差从0.043 mm减小到0.015 mm,再通过z向补偿的方式将测量误差进一步减小到0.006 mm。分别利用抛光盘面形在位测量系统和三坐标测量机对直径200 mm的检测件进行了测量,两种测量方式的结果显示:抛光盘面形在位测量系统的测量误差在0.003 mm之内。抛光盘面形在位测量系统的测量精度得到了有效验证。
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关键词
化学机械
抛光
抛光盘面形
在位测量
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职称材料
题名
化学机械抛光机的抛光盘面形在位测量研究
被引量：
2
1
作者
马堃
金洙吉
董志刚
朱祥龙
康仁科
机构
大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室
出处
《组合机床与自动化加工技术》
北大核心
2021年第6期49-52,共4页
基金
国家重点研发计划项目(2016YFB1102205)
国家自然基金重大项目(51991372)
国家自然基金面上项目(51775084)。
文摘
化学机械抛光机是加工光学元件的主要设备,抛光盘面形是影响抛光机加工精度的重要技术参数。现有的抛光盘面形测量主要依赖离线测量的方式,存在着测量基准不统一、二次装夹引发变形等问题。针对上述问题,提出了一种抛光盘面形在位测量方法,搭建了抛光盘面形在位测量系统。经过误差分析将测量误差分离成为平行度误差与直线度误差两部分,通过垫调整片的方式将平行度误差从0.043 mm减小到0.015 mm,再通过z向补偿的方式将测量误差进一步减小到0.006 mm。分别利用抛光盘面形在位测量系统和三坐标测量机对直径200 mm的检测件进行了测量,两种测量方式的结果显示:抛光盘面形在位测量系统的测量误差在0.003 mm之内。抛光盘面形在位测量系统的测量精度得到了有效验证。
关键词
化学机械
抛光
抛光盘面形
在位测量
Keywords
chemical mechanical polishing
polishing pad surface shape
in-situ measurement
分类号
TH16 [机械工程—机械制造及自动化]
TG506 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
化学机械抛光机的抛光盘面形在位测量研究
马堃
金洙吉
董志刚
朱祥龙
康仁科
《组合机床与自动化加工技术》
北大核心
2021
2
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