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超高真空磁控溅射Co/Si多层膜的X射线衍射分析
被引量：
1
1
作者
马忠元
杨宇
吴兴惠
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第5期489-491,共3页
采用X射线衍射分析表征了磁控溅射方法制备的Co／Si周期多层膜，由带折射修正的布喇格衍射定律导出多层膜周期厚度，对两组折射修正公式的计算结果进行对比，讨论了平均折射车修正值为负的原因，并应用薄膜光学理论分析小角X射线衍射谱...
采用X射线衍射分析表征了磁控溅射方法制备的Co／Si周期多层膜，由带折射修正的布喇格衍射定律导出多层膜周期厚度，对两组折射修正公式的计算结果进行对比，讨论了平均折射车修正值为负的原因，并应用薄膜光学理论分析小角X射线衍射谱中出现的一系列现象。
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关键词
多层膜
小角衍射
折射率修正值
磁控溅射
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职称材料
题名
超高真空磁控溅射Co/Si多层膜的X射线衍射分析
被引量：
1
1
作者
马忠元
杨宇
吴兴惠
机构
云南大学物理系
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第5期489-491,共3页
文摘
采用X射线衍射分析表征了磁控溅射方法制备的Co／Si周期多层膜，由带折射修正的布喇格衍射定律导出多层膜周期厚度，对两组折射修正公式的计算结果进行对比，讨论了平均折射车修正值为负的原因，并应用薄膜光学理论分析小角X射线衍射谱中出现的一系列现象。
关键词
多层膜
小角衍射
折射率修正值
磁控溅射
Keywords
Co/Si multilayer
small angle diffraction
revised diffraction index value
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
O434.12 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
超高真空磁控溅射Co/Si多层膜的X射线衍射分析
马忠元
杨宇
吴兴惠
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999
1
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