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ArF浸没式光刻胶用抗水涂层研究进展
1
作者
郑祥飞
徐亮
+3 位作者
陈侃
刘敬成
张家龙
陈韦帆
《涂料工业》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期74-81,共8页
氟化氩(ArF)浸没式光刻需在光刻胶表面形成抗水涂层,阻挡光刻胶和水之间组分交换。抗水涂层对光刻胶的分辨率、工艺窗口、低缺陷要求起着重要作用,平衡抗水涂层的疏水性和碱溶性是设计聚合物结构的重点和难点。分析了形成抗水涂层的方...
氟化氩(ArF)浸没式光刻需在光刻胶表面形成抗水涂层,阻挡光刻胶和水之间组分交换。抗水涂层对光刻胶的分辨率、工艺窗口、低缺陷要求起着重要作用,平衡抗水涂层的疏水性和碱溶性是设计聚合物结构的重点和难点。分析了形成抗水涂层的方法和成膜机理,对比了不同方法的优缺点,根据聚合物所含官能团及其碱溶性,对抗水涂层聚合物进行了分类总结,重点阐述抗水涂层聚合物的结构和性能要求,尤其关注了聚合物侧链的位阻效应和氢键作用对涂层的疏水性影响。最后对抗水涂层的应用和发展进行了展望。
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关键词
ArF浸没式光刻
抗水涂层
疏水和碱溶性
聚合物结构
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职称材料
题名
ArF浸没式光刻胶用抗水涂层研究进展
1
作者
郑祥飞
徐亮
陈侃
刘敬成
张家龙
陈韦帆
机构
瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司
江南大学化学与材料工程学院
中石化(上海)石油化工研究院有限公司
出处
《涂料工业》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期74-81,共8页
基金
东吴科技领军人才计划项目(WC202252)。
文摘
氟化氩(ArF)浸没式光刻需在光刻胶表面形成抗水涂层,阻挡光刻胶和水之间组分交换。抗水涂层对光刻胶的分辨率、工艺窗口、低缺陷要求起着重要作用,平衡抗水涂层的疏水性和碱溶性是设计聚合物结构的重点和难点。分析了形成抗水涂层的方法和成膜机理,对比了不同方法的优缺点,根据聚合物所含官能团及其碱溶性,对抗水涂层聚合物进行了分类总结,重点阐述抗水涂层聚合物的结构和性能要求,尤其关注了聚合物侧链的位阻效应和氢键作用对涂层的疏水性影响。最后对抗水涂层的应用和发展进行了展望。
关键词
ArF浸没式光刻
抗水涂层
疏水和碱溶性
聚合物结构
Keywords
ArF immersion lithography
anti-water coating
hydrophobic and alkaline solubility
polymer structure
分类号
TQ635.9 [化学工程—精细化工]
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1
ArF浸没式光刻胶用抗水涂层研究进展
郑祥飞
徐亮
陈侃
刘敬成
张家龙
陈韦帆
《涂料工业》
CAS
CSCD
北大核心
2024
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