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基于overlay tester评价大粒径透水沥青混合料抗反射开裂性能
被引量：
19
1
作者
翟瑞鑫
陈永满
+2 位作者
余清华
袁文豪
曾志武
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第9期9129-9135,共7页
针对大粒径透水沥青混合料,采用overlay tester试验,根据荷载周期数、最大荷载损失率、总断裂能、第1周期最大荷载、第1周期最大荷载处位移及第1周期断裂能等指标综合评估其抗反射开裂能力。结果表明,用overlay tester试验测得的荷载周...
针对大粒径透水沥青混合料,采用overlay tester试验,根据荷载周期数、最大荷载损失率、总断裂能、第1周期最大荷载、第1周期最大荷载处位移及第1周期断裂能等指标综合评估其抗反射开裂能力。结果表明,用overlay tester试验测得的荷载周期数、最大荷载损失率可综合反映沥青混合料抗裂性,结果变异性较小;而总断裂能及第1周期指标不能全面准确反映沥青混合料抗裂性;低温及温差较大时橡胶粉改性沥青大粒径混合料抗裂性更佳;overlay tester试验周期—最大荷载曲线符合幂函数变化规律。
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关键词
大粒径透水沥青混合料
OVERLAY
TESTER
橡胶粉改
性
沥青
SBS改
性
沥青
抗
反射
开裂
性
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职称材料
金催化的硅纳米线的可控制备及光学特性研究
被引量：
1
2
作者
王珊珊
殷淑静
+1 位作者
梁海锋
韩军
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第5期738-745,共8页
硅纳米线是新型一维半导体纳米材料的典型代表。利用阳极氧化铝薄膜为模版复制出具有有序纳米结构的金膜,在金的催化辅助下对单晶硅进行湿法刻蚀,得到尺寸、形状、分布可控的硅纳米线阵列,并对其光学特性进行了研究。研究结果表明,金代...
硅纳米线是新型一维半导体纳米材料的典型代表。利用阳极氧化铝薄膜为模版复制出具有有序纳米结构的金膜,在金的催化辅助下对单晶硅进行湿法刻蚀,得到尺寸、形状、分布可控的硅纳米线阵列,并对其光学特性进行了研究。研究结果表明,金代替银作为催化剂,可以有效地抑制二次刻蚀,金的化学性质相对于银更加稳定,克服了银膜在较高的温度或较长刻蚀时间下产生的结构性破坏,得到形貌规整、尺寸可控的硅纳米线阵列。对该阵列在400nm^1200nm波段的反射率、透过率进行了测试,并对比分析了金模板催化与传统方法机理的异同。测试结果表明,相较于传统金属辅助化学刻蚀法,文中提出的金模板催化法制备的硅纳米线阵列尺寸及分布更加均匀可控,在宽光谱范围内的抗反射性得到了显著提高。
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关键词
半导体材料
硅纳米线
阳极氧化铝薄膜
湿法刻蚀
催化
抗反射性
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职称材料
题名
基于overlay tester评价大粒径透水沥青混合料抗反射开裂性能
被引量：
19
1
作者
翟瑞鑫
陈永满
余清华
袁文豪
曾志武
机构
长安大学道路结构与材料交通运输行业重点实验室
福建省南平市公路局
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第9期9129-9135,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(51478046)
文摘
针对大粒径透水沥青混合料,采用overlay tester试验,根据荷载周期数、最大荷载损失率、总断裂能、第1周期最大荷载、第1周期最大荷载处位移及第1周期断裂能等指标综合评估其抗反射开裂能力。结果表明,用overlay tester试验测得的荷载周期数、最大荷载损失率可综合反映沥青混合料抗裂性,结果变异性较小;而总断裂能及第1周期指标不能全面准确反映沥青混合料抗裂性;低温及温差较大时橡胶粉改性沥青大粒径混合料抗裂性更佳;overlay tester试验周期—最大荷载曲线符合幂函数变化规律。
关键词
大粒径透水沥青混合料
OVERLAY
TESTER
橡胶粉改
性
沥青
SBS改
性
沥青
抗
反射
开裂
性
Keywords
large stone permeable asphalt mixture
overlay tester
rubber modified asphalt
SBS modified asphalt
cracking-resistance performance
分类号
U414 [交通运输工程—道路与铁道工程]
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职称材料
题名
金催化的硅纳米线的可控制备及光学特性研究
被引量：
1
2
作者
王珊珊
殷淑静
梁海锋
韩军
机构
西安工业大学光电工程学院
西安工业大学西北兵器工业研究院
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第5期738-745,共8页
基金
陕西省重点研发计划项目(2019ZDLGY16-01)
西安市智能探视感知重点实验室项目(201805061ZD12CG45)
文摘
硅纳米线是新型一维半导体纳米材料的典型代表。利用阳极氧化铝薄膜为模版复制出具有有序纳米结构的金膜,在金的催化辅助下对单晶硅进行湿法刻蚀,得到尺寸、形状、分布可控的硅纳米线阵列,并对其光学特性进行了研究。研究结果表明,金代替银作为催化剂,可以有效地抑制二次刻蚀,金的化学性质相对于银更加稳定,克服了银膜在较高的温度或较长刻蚀时间下产生的结构性破坏,得到形貌规整、尺寸可控的硅纳米线阵列。对该阵列在400nm^1200nm波段的反射率、透过率进行了测试,并对比分析了金模板催化与传统方法机理的异同。测试结果表明,相较于传统金属辅助化学刻蚀法,文中提出的金模板催化法制备的硅纳米线阵列尺寸及分布更加均匀可控,在宽光谱范围内的抗反射性得到了显著提高。
关键词
半导体材料
硅纳米线
阳极氧化铝薄膜
湿法刻蚀
催化
抗反射性
Keywords
semiconductor materials
silicon nanowires
ultrathin anodicaluminium oxide membrane
wet etching
catalysis
anti-reflective properties
分类号
TN29 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于overlay tester评价大粒径透水沥青混合料抗反射开裂性能
翟瑞鑫
陈永满
余清华
袁文豪
曾志武
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
19
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
金催化的硅纳米线的可控制备及光学特性研究
王珊珊
殷淑静
梁海锋
韩军
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2019
1
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职称材料
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