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碳基芯片“技术换轨”的技术锁定破解研究
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作者 陈培 玄兆辉 +1 位作者 李欣融 杨武 《中国科技论坛》 北大核心 2025年第10期55-67,共13页
“技术换轨”不仅是缓解技术断供风险和保障供应链安全可控的重要手段,更是破解发达国家对我国“技术锁定”的必然选择。极紫外(EUV)光刻和碳基电子技术是两大高端芯片关键技术领域,本文从技术特征和创新主体2个维度比较分析两大领域的... “技术换轨”不仅是缓解技术断供风险和保障供应链安全可控的重要手段,更是破解发达国家对我国“技术锁定”的必然选择。极紫外(EUV)光刻和碳基电子技术是两大高端芯片关键技术领域,本文从技术特征和创新主体2个维度比较分析两大领域的技术锁定效应,并提出碳基芯片“技术换轨”的锁定破解理论机制与策略。研究发现,相较于碳基电子,从技术路径看,EUV光刻存在严重的锁定效应;从创新主体看,我国与领先国家在EUV光刻的技术锁定强度差距较大,验证碳基电子“技术换轨”的可行性。本研究为后发者技术轨道切入点选择和技术锁定破解提供了新的参考策略。 展开更多
关键词 技术锁定破解 技术换轨 EUV光刻 碳基电子
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