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用于截头圆锥形溅射靶的高靶利用率磁性装置
1
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期76-76,共1页
关键词
截头圆锥形溅射靶
靶
利用率
磁性装置
磁控管
溅射
涂敷系统
东京电子株式会社
专利
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职称材料
题名
用于截头圆锥形溅射靶的高靶利用率磁性装置
1
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期76-76,共1页
关键词
截头圆锥形溅射靶
靶
利用率
磁性装置
磁控管
溅射
涂敷系统
东京电子株式会社
专利
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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1
用于截头圆锥形溅射靶的高靶利用率磁性装置
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
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