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基于粒子成像测速法的正、负电晕放电下线-板式电除尘器内流场测试 被引量:24
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作者 沈欣军 曾宇翾 +1 位作者 郑钦臻 闫克平 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期2757-2763,共7页
电除尘器(ESPs)内流场的变化对细颗粒物的捕集具有显著影响。为此,采用粒子成像测速技术(PIV)测试了线–板式电除尘器模型内的流场。该电除尘器模型外壳为有机玻璃材质;放电极为2根不锈钢圆线且间距可调;示踪粒子为艾灸烟,一次流速约为0... 电除尘器(ESPs)内流场的变化对细颗粒物的捕集具有显著影响。为此,采用粒子成像测速技术(PIV)测试了线–板式电除尘器模型内的流场。该电除尘器模型外壳为有机玻璃材质;放电极为2根不锈钢圆线且间距可调;示踪粒子为艾灸烟,一次流速约为0.5 m/s;流场测试平面垂直于收尘极和放电极的中心位置;分别施加正、负直流高压进行实验。结果表明,随着电压的增大,正、负电晕放电产生的离子风使得一次气流流速增大,最大增速分别可达0.6 m/s和0.7 m/s。当电压约为±30 kV时,2个放电极之间产生了4个涡旋;且电压越大,4个涡旋分布越均匀对称;较大的放电极间距更利于4个涡旋的形成。这些涡旋的存在会严重阻碍电除尘器内细颗粒物的捕集。 展开更多
关键词 电除尘器 电晕放电 离子风 电流体流 流场 粒子成像测速法 示踪粒子 艾灸烟
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粒子成像测速法测定沉降槽内颗粒群的速度场 被引量:1
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作者 李鑫钢 杜英生 +1 位作者 余国琮 周革 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第4期496-500,共5页
1引言在化工、环保、选矿等领域中,经常遇到大量的颗粒沉降问题。颗粒的沉降速度是两相流动中重要理论基础之、一。测量羊颗粒的沉降速度很容易,但对颗粒群很难测出其中每个粒子的速皮,而实际过程大都涉及颗粒群。 对于沉降槽内... 1引言在化工、环保、选矿等领域中,经常遇到大量的颗粒沉降问题。颗粒的沉降速度是两相流动中重要理论基础之、一。测量羊颗粒的沉降速度很容易,但对颗粒群很难测出其中每个粒子的速皮,而实际过程大都涉及颗粒群。 对于沉降槽内的颗粒运动,一般按理想槽处理,不考虑流动不均匀及颗粒群的真实沉降速度,以及它们对夹带的影响”‘;或者用间歇沉降试验数据设计沉降设备’‘,’‘。本文的目的就是测量沉降槽内分区域颗粒群的统计平均速度,以期对沉降过程的研究和设计提供帮助。 展开更多
关键词 激光粒子 成像测速法 沉降槽
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粒子成像测速法中曝光次数与干涉条纹位置的关系
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作者 周革 张以谟 李贺桥 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 1995年第4期457-462,共6页
分析了PIV采样底片多次曝光时粒子衍射调制作用对干涉条纹位置的影响,推导出条纹偏移量与曝光次数和粒子相对位移量的关系。分析结果得到了实验的证明.
关键词 粒子成像测速法 位置 曝光 干涉条纹 流速测量
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粒子成像测速法:像面平移技术的测量动态范围
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作者 周革 张以谟 李贺桥 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 1995年第3期316-319,共4页
分析粒子成像测速法中像面平移技术的测量范围,得出选择最佳像面平移量的理论依据.
关键词 粒子成像测速法 像面平移技术 测量范围 速度
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三相旋流抛光磨粒运动的测量与微气泡补偿 被引量:2
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作者 计时鸣 余昌利 赵军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期943-953,共11页
研究了气液固三相旋流流场抛光机理和规律。设计了三入口的抛光加工流道,对气液固三相旋流抛光流场进行了数值模拟。基于模拟结果设计了气液固三相磨粒流旋流流场测量平台,并通过粒子图像测速法(PIV)测量了微气泡补偿条件下气液固三相... 研究了气液固三相旋流流场抛光机理和规律。设计了三入口的抛光加工流道,对气液固三相旋流抛光流场进行了数值模拟。基于模拟结果设计了气液固三相磨粒流旋流流场测量平台,并通过粒子图像测速法(PIV)测量了微气泡补偿条件下气液固三相旋流抛光的流场参数,获得了微气泡补偿区域流场的运动图像、速度矢量图和涡量图。PIV测量试验数据显示:在微气泡补偿区域,磨粒速度主要集中在30m/s到80m/s,同一测量点高速磨粒出现频率明显增加,少数磨粒速度达到100m/s以上;磨粒平均速度从33.8m/s增大到44.2m/s,经4h抛光后硅片表面最大粗糙度从10.4μm下降到1.3μm。理论和试验研究表明,气液固三相旋流抛光流场中微气泡溃灭引发的空化冲击效应可增大磨粒动能,提高抛光效率,实现B区域的均匀化抛光。 展开更多
关键词 三相旋流抛光 空化冲击 微气泡补偿 磨粒运动 粒子成像测速法(PIV)
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