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感应耦合等离子体增强磁控溅射法制备MoO_(3)高透亲水光学薄膜
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作者 彭井泉 郑学军 +6 位作者 冯春阳 李方 黄乐 陈立 左滨槐 陈丽娟 贺楚才 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期11118-11125,共8页
将磁控溅射和感应耦合相结合形成感应耦合等离子体增强磁控溅射技术(ICPMS),制备了MoO_(3)高透亲水光学薄膜。使用分光光度计、水接触角测试仪、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和X射线能谱仪,分别表征薄膜的光学性能、润湿性能、显微形貌... 将磁控溅射和感应耦合相结合形成感应耦合等离子体增强磁控溅射技术(ICPMS),制备了MoO_(3)高透亲水光学薄膜。使用分光光度计、水接触角测试仪、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和X射线能谱仪,分别表征薄膜的光学性能、润湿性能、显微形貌、晶体结构和化学成分。通过正交实验法,以MoO_(3)薄膜的氧钼比、光学透过率、水接触角为指标,探究了感应耦合等离子体(ICP)氧氩比、ICP功率、靶位工作压强和ICP前处理时间工艺参数对MoO_(3)薄膜性能的影响。结果表明:氧氩比是影响性能的主要参数,其次是工作压强,影响最小参数是ICP功率。最优工艺参数是氧氩比400/300、靶位工作压强为0.15 Pa、功率为1500 W、前处理时间为18 min。研究为高透亲水光学薄膜应用,提供具体实验设计和工艺方法指导。 展开更多
关键词 正交实验 感应耦合等离子体增强磁控溅射 MoO_(3)薄膜 透过率 接触角
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LiF对镁铝尖晶石透明陶瓷红外透过率的影响 被引量:6
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作者 李法荟 林红 +3 位作者 李俊峰 雷牧云 李祯 李建保 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期417-421,共5页
以溶胶-凝胶法制备镁铝尖晶石(以下简称"尖晶石")粉末,掺入0~2.5wt%的LiF,经球磨后,测试混合粉末的物相组成.采用热压(HP;32 MPa/1550℃)及热压结合热等静压(HP/HIP;热等静压工艺条件为150 MPa/1700℃)工艺制备出尖晶石透明陶瓷... 以溶胶-凝胶法制备镁铝尖晶石(以下简称"尖晶石")粉末,掺入0~2.5wt%的LiF,经球磨后,测试混合粉末的物相组成.采用热压(HP;32 MPa/1550℃)及热压结合热等静压(HP/HIP;热等静压工艺条件为150 MPa/1700℃)工艺制备出尖晶石透明陶瓷.分析测试了掺入不同LiF的尖晶石陶瓷的结构和红外透过率,采用感应耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma,或ICP)方法测定了LiF掺杂后的粉料和透明陶瓷中的Li离子含量.实验显示,LiF的加入促进了尖晶石晶粒长大和气孔的排除,并促进了尖晶石陶瓷烧结的致密化进程.添加1.0wt%~1.5wt%LiF的尖晶石透明陶瓷具有最高的红外透过率.LiF在尖晶石陶瓷中形成残余物质,添加过量的LiF对尖晶石陶瓷的光学性能会产生不利影响. 展开更多
关键词 透明陶瓷 镁铝尖晶石 LIF 红外透过率 感应耦合等离子体法
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