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色分离光栅镀膜减反技术研究
被引量：
2
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作者
杨春林
许乔
+2 位作者
杨李茗
周礼书
张清华
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期177-180,共4页
根据惯性约束聚变系统技术要求,提出一种镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题。对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析,根据标量理论给出了镀膜光栅的各项技术要求,优化了光栅结构参数。模拟计算结果...
根据惯性约束聚变系统技术要求,提出一种镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题。对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析,根据标量理论给出了镀膜光栅的各项技术要求,优化了光栅结构参数。模拟计算结果发现,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过色分离光栅镀膜减反提高衍射效率的目的。该镀膜光栅刻槽深度的优化值为2.84μm,膜厚为等效1/4波长,即71.2nm。
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关键词
色分离光栅
镀膜
衍射效率
溶胶-凝胶膜
减反技术
惯性约束聚变系统
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职称材料
题名
色分离光栅镀膜减反技术研究
被引量：
2
1
作者
杨春林
许乔
杨李茗
周礼书
张清华
机构
成都精密光学工程研究中心
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期177-180,共4页
基金
国家863计划项目资助课题
文摘
根据惯性约束聚变系统技术要求,提出一种镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题。对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析,根据标量理论给出了镀膜光栅的各项技术要求,优化了光栅结构参数。模拟计算结果发现,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过色分离光栅镀膜减反提高衍射效率的目的。该镀膜光栅刻槽深度的优化值为2.84μm,膜厚为等效1/4波长,即71.2nm。
关键词
色分离光栅
镀膜
衍射效率
溶胶-凝胶膜
减反技术
惯性约束聚变系统
Keywords
Diffraction gratings
分类号
O437.4 [机械工程—光学工程]
TL632 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
色分离光栅镀膜减反技术研究
杨春林
许乔
杨李茗
周礼书
张清华
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
2
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