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用自制总积分散射仪评估SiC基底表面改性效果 被引量:7
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作者 申振峰 高劲松 +3 位作者 陈红 王笑夷 王彤彤 郑宣鸣 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1841-1846,共6页
根据总积分散射理论自制了半球式总积分散射仪,建立了系统规范的测试方法,并应用其对工程中SiC基底表面改性的效果进行了相关检测和评估。改性后RB-SiC和S-SiC基底的散射系数分别降低到2.86%和1.53%,已接近于抛光良好的微晶玻璃的水平(1... 根据总积分散射理论自制了半球式总积分散射仪,建立了系统规范的测试方法,并应用其对工程中SiC基底表面改性的效果进行了相关检测和评估。改性后RB-SiC和S-SiC基底的散射系数分别降低到2.86%和1.53%,已接近于抛光良好的微晶玻璃的水平(1.38%)。该散射仪的优点是操作简单、方便快捷、不接触样品、对表面无损害。通过对测试数据的分析可知,从散射特性角度对SiC基底表面改性效果进行评估是合理有效的。把相关测试结果与分光光度计的测试结果对比,测量偏差在1.1%左右,说明该总积分散射仪的测试结果准确可靠。 展开更多
关键词 总积分散射 SiC反射镜 表面改性
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COIL用高反膜总积分散射的测量方案探讨
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作者 潘栋梁 熊胜明 张云洞 《光电工程》 CAS CSCD 1999年第6期41-44,共4页
根据 COIL用反射镜的工作条件 ,提出了用改进的 Coblentz半球测量 0°和 4 5°入射情况下 TIS散射的方案。
关键词 高反射膜 总积分散射 光损耗
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高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量 被引量:6
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作者 侯海虹 洪瑞金 +2 位作者 范正修 易葵 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期609-611,共3页
提出了一种利用总积分散射(TIS)测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜,然后将基片的表面和体区分开考虑,通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度。进而求得基... 提出了一种利用总积分散射(TIS)测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜,然后将基片的表面和体区分开考虑,通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度。进而求得基片的总散射和表面散射.最后计算得到了体散射。分别利用TIS和原子力显微镜(AFM)测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度.两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显,差值分别为0.08,0.11和0.09nm,表明TIS和AFM的测量结果相一致。利用该方法测得3块K9玻璃基片的总散射分别为6.06×10^-4,5.84×10^-4和6.48×10^-4,表面散射介于1.25×10^-4.56×10^-4之间,由此计算得到的体散射分别为3.10×10^-4,3.30×10^-4和3.61×10^-4。 展开更多
关键词 表面散射 散射 总积分散射 玻璃基片 表面粗糙度
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应用表面改性技术降低烧结碳化硅反射镜的表面散射 被引量:5
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作者 王彤彤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期3224-3230,共7页
针对烧结碳化硅在制作过程中形成的孔洞缺陷会造成严重的反射镜表面散射问题,提出了用等离子体辅助沉积技术镀制硅表面改性层来消除表面缺陷以降低反射镜的表面散射。应用扫描电子显微镜测量了未改性的烧结碳化硅试片,并分析了表面散射... 针对烧结碳化硅在制作过程中形成的孔洞缺陷会造成严重的反射镜表面散射问题,提出了用等离子体辅助沉积技术镀制硅表面改性层来消除表面缺陷以降低反射镜的表面散射。应用扫描电子显微镜测量了未改性的烧结碳化硅试片,并分析了表面散射成因。搭建了总积分散射仪,测试了改性前后的烧结碳化硅试片及抛光良好的K9玻璃试片的总积分散射。结果显示:烧结碳化硅试片改性前后的总积分散射分别为3.92%和1.42%,K9玻璃的总积分散射为1.36%。使用原子力显微镜测试了烧结碳化硅试片改性抛光后表面和K9试片表面的均方根粗糙度,结果分别为1.63nm和1.04nm,证明了改性后的烧结碳化硅试片消除了表面缺陷,显著地降低了表面散射,表面光学性能与抛光良好的K9玻璃接近。 展开更多
关键词 表面改性 烧结碳化硅 反射镜 表面散射 总积分散射 等离子辅助沉积
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超光滑镜面散射测量方法研究 被引量:1
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作者 赵晓琛 曹学东 +2 位作者 胡明鹏 张鹏 张蕾 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期74-78,共5页
光学散射会对光学系统造成系统损耗,成像质量下降等危害。针对高反镜的散射光在光学系统中的影响,本文提出了使用总积分散射法来测量散射光总量,得到散射光在总反射光中所占的比值。该方法运用总积分散射理论,并结合积分球的光度特性,... 光学散射会对光学系统造成系统损耗,成像质量下降等危害。针对高反镜的散射光在光学系统中的影响,本文提出了使用总积分散射法来测量散射光总量,得到散射光在总反射光中所占的比值。该方法运用总积分散射理论,并结合积分球的光度特性,搭建了比较法总积分散射仪,测试了镀银膜的高反镜的总积分散射。实验结果表明,该装置测得的总积分散射值与用德国汉诺威激光中心生产的总积分散射仪得到的测量结果非常接近,均在300 ppm^500 ppm之间,验证了该装置的可行性。 展开更多
关键词 散射 光学镜面 总积分散射 积分
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