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PZT铁电材料的总剂量辐照效应实验研究 被引量:6
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作者 娄利飞 杨银堂 +2 位作者 柴常春 高峰 唐重林 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期2091-2094,共4页
采用传统固相反应法制备PZT铁电材料,并制作成平行平板无源电容器结构,在ELV-8电子直线加速器上进行了总剂量效应辐照实验。结果表明:样片经过不同强度高能高速直流电子束辐照后的电滞回线随着辐照强度的增加,电滞回线所包围的面积逐渐... 采用传统固相反应法制备PZT铁电材料,并制作成平行平板无源电容器结构,在ELV-8电子直线加速器上进行了总剂量效应辐照实验。结果表明:样片经过不同强度高能高速直流电子束辐照后的电滞回线随着辐照强度的增加,电滞回线所包围的面积逐渐减小,饱和极化强度、剩余极化强度和矫顽场呈线性减小。其中当辐照剂量为1×108rad(Si)时,饱和极化强度、剩余极化强度和矫顽场的衰减幅度分别为14.1%,15.0%和2.7%,样片抗总剂量辐照能力可达1×108rad(Si)。 展开更多
关键词 铁电材料 电滞回线 总剂量辐照效应 辐照
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线阵CCD总剂量辐照效应离线测量系统设计 被引量:7
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作者 张勇 唐本奇 +3 位作者 肖志刚 王祖军 黄芳 黄绍雁 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期494-497,共4页
建立了线阵CCD器件总剂量辐照效应离线测量系统,并利用该系统对一种商用线阵CCD进行了辐照效应研究,给出了暗电流输出电压信号和饱和电压信号的变化曲线。结果表明,该测量系统能够满足线阵CCD辐照试验要求。
关键词 电荷耦合器件 电路设计 离线测量系统 总剂量辐照效应
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PZT压电陶瓷的总剂量辐照效应实验研究 被引量:4
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作者 娄利飞 高峰 +2 位作者 杨银堂 唐重林 柴常春 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2008年第5期585-587,共3页
采用传统固相反应法制备PZT压电陶瓷材料,并制作成平行平板无源电容器结构。在ELV-8电子直线加速器上对其进行总剂量辐照效应实验,对辐照前后PZT材料的介电和压电性能参数进行了测试和比较。实验结果表明,PZT材料平行平板电容器的压电... 采用传统固相反应法制备PZT压电陶瓷材料,并制作成平行平板无源电容器结构。在ELV-8电子直线加速器上对其进行总剂量辐照效应实验,对辐照前后PZT材料的介电和压电性能参数进行了测试和比较。实验结果表明,PZT材料平行平板电容器的压电性能抗总剂量水平可达2×108rad(Si),领先国际水平。 展开更多
关键词 压电材料 压电常数 介电常数 总剂量辐照效应
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国产工艺的部分耗尽SOI MOSFET总剂量辐照效应及可靠性
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作者 崔江维 余学峰 +5 位作者 刘刚 李茂顺 兰博 赵云 费武雄 陈睿 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1257-1261,共5页
对国产工艺的部分耗尽SOIMOSFET60Coγ射线的总剂量辐照效应及其可靠性进行了研究。结果表明:辐照引入的氧化物陷阱电荷是阈值电压漂移的主要因素;背栅对总剂量辐照更为敏感,但在背栅特性漂移未超出一定范围的情况下,依然是正栅氧化层... 对国产工艺的部分耗尽SOIMOSFET60Coγ射线的总剂量辐照效应及其可靠性进行了研究。结果表明:辐照引入的氧化物陷阱电荷是阈值电压漂移的主要因素;背栅对总剂量辐照更为敏感,但在背栅特性漂移未超出一定范围的情况下,依然是正栅氧化层质量决定了器件的抗辐照性能;界面态陷阱电荷的散射作用降低了器件的源漏饱和电流;总剂量辐照后器件的常规可靠性可能会降低。 展开更多
关键词 总剂量辐照效应 退火效应 可靠性
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国产工艺的部分耗尽SOI PMOSFET总剂量辐照及退火效应研究
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作者 崔江维 余学峰 +6 位作者 刘刚 李茂顺 高博 兰博 赵云 费武雄 陈睿 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1385-1389,共5页
对国产工艺的部分耗尽SOIPMOSFET60Coγ射线的总剂量辐照及退火效应进行了研究。结果表明:随着工艺技术的发展,正栅氧化层具有较强的抗辐照加固能力,背栅由于埋氧层厚度和工艺生长原因而对总剂量辐照较为敏感;辐照引入的深能级界面态陷... 对国产工艺的部分耗尽SOIPMOSFET60Coγ射线的总剂量辐照及退火效应进行了研究。结果表明:随着工艺技术的发展,正栅氧化层具有较强的抗辐照加固能力,背栅由于埋氧层厚度和工艺生长原因而对总剂量辐照较为敏感;辐照引入的深能级界面态陷阱电荷的散射作用,导致了正栅源漏饱和电流的显著降低;退火过程中界面态陷阱电荷的饱和决定了正栅亚阈曲线的平衡位置,而隧穿或热发射的电子只能中和部分背栅氧化物陷阱电荷,使得退火后背栅曲线仍与初始值有一定负向距离。 展开更多
关键词 总剂量辐照效应 退火 亚阈曲线
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辐照加固的500MHz锁相环设计 被引量:2
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作者 吕荫学 刘梦新 +1 位作者 罗家俊 叶甜春 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期49-54,共6页
设计了一款与CSMC,0.5μmCMOS工艺兼容的频率为500MHz的辐照加固整数型锁相环电路。研究了总剂量辐照以及单粒子事件对锁相环电路主要模块及整个系统性能的影响。此外,通过修正BSIM3V3模型的参数以及施加脉冲电流源来模拟总剂量辐照... 设计了一款与CSMC,0.5μmCMOS工艺兼容的频率为500MHz的辐照加固整数型锁相环电路。研究了总剂量辐照以及单粒子事件对锁相环电路主要模块及整个系统性能的影响。此外,通过修正BSIM3V3模型的参数以及施加脉冲电流源来模拟总剂量辐照效应和单粒子事件,对锁相环整体电路进行了电路模拟仿真以及版图寄生参数提取后仿真。模拟结果表明,辐照总剂量为1Mrad(Si)时锁相环电路仍能正常工作,产生270.58~451.64MHz的时钟输出,峰峰值抖动小于100ps,锁定时间小于4μs;同时在对单粒子事件敏感的数字电路的主要节点处施加脉冲电流源后,锁相环电路均能在短时间内产生稳定的输出。 展开更多
关键词 整数型锁相环 压控振荡器 鉴频鉴相器 总剂量辐照效应 单粒子事件
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一种抗辐照功率MOSFET器件 被引量:1
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作者 刘梦新 韩郑生 +3 位作者 刘刚 蔡小五 王立新 夏洋 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1167-1170,共4页
报道了一种抗辐射功率MOSFET,通过与国外同类产品的锎源以及钴辐照试验对比,其抗总剂量水平和抗单粒子能力均已达到国际领先水平,并深入研究了单粒子烧毁、单粒子栅穿以及总剂量辐照的机理,提出了大功率MOSFET抗总剂量及单粒子辐射的加... 报道了一种抗辐射功率MOSFET,通过与国外同类产品的锎源以及钴辐照试验对比,其抗总剂量水平和抗单粒子能力均已达到国际领先水平,并深入研究了单粒子烧毁、单粒子栅穿以及总剂量辐照的机理,提出了大功率MOSFET抗总剂量及单粒子辐射的加固方法。 展开更多
关键词 功率MOSFET 单粒子烧毁 单粒子栅穿 总剂量辐照效应
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