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光学薄膜参数测试
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《中国光学》 EI CAS 2002年第3期69-69,共1页
O484.5 2002032091激光熔凝过程中金属薄膜瞬态电阻的测量=Measurementin transient resistances of metal films duringlaser pulse heating[刊,中]/童文辉,杨院生,朱仕学,惠希东,陈晓明,于力,胡壮麒(中科院金属研究所.辽宁,沈阳(11001... O484.5 2002032091激光熔凝过程中金属薄膜瞬态电阻的测量=Measurementin transient resistances of metal films duringlaser pulse heating[刊,中]/童文辉,杨院生,朱仕学,惠希东,陈晓明,于力,胡壮麒(中科院金属研究所.辽宁,沈阳(110016))//金属学报.-2001,37(11).-1213-1216采用瞬态电阻测量方法通过测量样品在快凝过程中电阻的变化,以获得有关的传热实验数值,利用该快速凝固瞬态电阻测量装置,实现了激光表面快速熔凝过程的实时跟踪,并考察了激光器的单脉冲能量、样品的预热温度等主要参数对测定结果的影响。图6参9(李瑞琴) 展开更多
关键词 瞬态电阻 激光表面速熔 测定结果 测量方法 金属薄膜 测量装置 快凝过程 多层膜反射镜 传热实验
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