TN305.7 2001064250JB系列光刻机的原理及维修技术=Principle and repairingof JB serial mask aligners[刊,中]/尚秀红(电子13所.河北,石家庄(050051))∥半导体情报.一2000,37(4).—58—62简述了JB系列光刻机的基本工作原理以及常见故...TN305.7 2001064250JB系列光刻机的原理及维修技术=Principle and repairingof JB serial mask aligners[刊,中]/尚秀红(电子13所.河北,石家庄(050051))∥半导体情报.一2000,37(4).—58—62简述了JB系列光刻机的基本工作原理以及常见故障的分析和维修,同时给出了设备的日常维护保养措施。图6(赵桂云)展开更多
TN305 2002010716场致发射阵列制作工艺的研究=Study of fabricationprocessing of field emitter arrays[刊,中]/周洪军,尉伟,洪义麟,徐向东,陶晓明,霍同林,付绍军,裴元吉(中国科技大学国家同步辐射实验室.安徽,合肥(230026)),Chu Jiar...TN305 2002010716场致发射阵列制作工艺的研究=Study of fabricationprocessing of field emitter arrays[刊,中]/周洪军,尉伟,洪义麟,徐向东,陶晓明,霍同林,付绍军,裴元吉(中国科技大学国家同步辐射实验室.安徽,合肥(230026)),Chu Jiaru(Surface and Interface Division Department展开更多
TN305,7 2000064241LSIC版图扫描场分割方式的研究=Study of scanningfield division methods for LSIC patterns[刊,中]/胡咏梅,胡毅,贾春娟,王绍钧(山东工业大学自动化工程系.山东,济南(250061))//微细加工技术.—1999,(4).—10—13...TN305,7 2000064241LSIC版图扫描场分割方式的研究=Study of scanningfield division methods for LSIC patterns[刊,中]/胡咏梅,胡毅,贾春娟,王绍钧(山东工业大学自动化工程系.山东,济南(250061))//微细加工技术.—1999,(4).—10—13对版图扫描场分割方式进行了研究。展开更多
TN305.7 2002043146红移高功率大失谐驻波光场原子光刻=Atom-lithography in red far-detuning high-powerstanding wave[刊,中]/曾庆林,霍芸生,蔡惟泉,王育竹(中科院上海光机所量子光学开放实验室.上海(201800))∥光学学报.—2001,21(8).
TN305.2 99042750液体中激光熔蚀固体靶制备氮化碳纳米晶=Nano—crystallinecarbon nitrides prepared by laser ablatingsolid target in liquid[刊,中]/刘秋香,王金斌,杨国伟(湘潭大学现代物理研究所.湖南,湘潭(411105))//微细加工技...TN305.2 99042750液体中激光熔蚀固体靶制备氮化碳纳米晶=Nano—crystallinecarbon nitrides prepared by laser ablatingsolid target in liquid[刊,中]/刘秋香,王金斌,杨国伟(湘潭大学现代物理研究所.湖南,湘潭(411105))//微细加工技术.—1998,(2).展开更多
TN305 2000053665自由空间微光学元件的研制=Fabrication of freespacemicro-optical elements[刊,中]/周光亚,赵小林,张明生(上海交通大学信息存储研究中心.上海(200030)),陈益新(上海交通大学应用物理系.上海(200030)),王宗光(上海交...TN305 2000053665自由空间微光学元件的研制=Fabrication of freespacemicro-optical elements[刊,中]/周光亚,赵小林,张明生(上海交通大学信息存储研究中心.上海(200030)),陈益新(上海交通大学应用物理系.上海(200030)),王宗光(上海交通大学应用化学系.上海(200030))//微细加工技术.—1999,(3).展开更多
TN305 2003010743基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制=Subwavelengthgratings based on a new microfabrication technology[刊,中]/李以贵(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),陈迪…//光学学报.-2002,22(8)-1008-...TN305 2003010743基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制=Subwavelengthgratings based on a new microfabrication technology[刊,中]/李以贵(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),陈迪…//光学学报.-2002,22(8)-1008-1010描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即电子束(EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了100nm以下的刻蚀精度。展开更多
TN305．7 2005021533 电子束曝光机的偏转系统=Deflection system for electron beam lithography[刊,中]／刘珠明(中科院电工研究所.北 京(100080)),顾文琪//光电工程．-2004,31(12)．-12- 16 电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫...TN305．7 2005021533 电子束曝光机的偏转系统=Deflection system for electron beam lithography[刊,中]／刘珠明(中科院电工研究所.北 京(100080)),顾文琪//光电工程．-2004,31(12)．-12- 16 电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描。像 差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求。对各 种偏转器、偏转方式进行分析、比较,从偏转器空间场的数 值计算方法、偏转系统的优化、像差校正。展开更多
TN305．7 2005032365 硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabrication of silicon-based microstructures and their application in mi- crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深 圳(518057)),钱可元…∥半导体光电...TN305．7 2005032365 硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabrication of silicon-based microstructures and their application in mi- crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深 圳(518057)),钱可元…∥半导体光电．-2004,25(6)．- 477-479,483 基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构, 以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)展开更多
文摘TN305.7 2001064250JB系列光刻机的原理及维修技术=Principle and repairingof JB serial mask aligners[刊,中]/尚秀红(电子13所.河北,石家庄(050051))∥半导体情报.一2000,37(4).—58—62简述了JB系列光刻机的基本工作原理以及常见故障的分析和维修,同时给出了设备的日常维护保养措施。图6(赵桂云)
文摘TN305 2002010716场致发射阵列制作工艺的研究=Study of fabricationprocessing of field emitter arrays[刊,中]/周洪军,尉伟,洪义麟,徐向东,陶晓明,霍同林,付绍军,裴元吉(中国科技大学国家同步辐射实验室.安徽,合肥(230026)),Chu Jiaru(Surface and Interface Division Department
文摘TN305,7 2000064241LSIC版图扫描场分割方式的研究=Study of scanningfield division methods for LSIC patterns[刊,中]/胡咏梅,胡毅,贾春娟,王绍钧(山东工业大学自动化工程系.山东,济南(250061))//微细加工技术.—1999,(4).—10—13对版图扫描场分割方式进行了研究。
文摘TN305.7 2002043146红移高功率大失谐驻波光场原子光刻=Atom-lithography in red far-detuning high-powerstanding wave[刊,中]/曾庆林,霍芸生,蔡惟泉,王育竹(中科院上海光机所量子光学开放实验室.上海(201800))∥光学学报.—2001,21(8).
文摘TN305.2 99042750液体中激光熔蚀固体靶制备氮化碳纳米晶=Nano—crystallinecarbon nitrides prepared by laser ablatingsolid target in liquid[刊,中]/刘秋香,王金斌,杨国伟(湘潭大学现代物理研究所.湖南,湘潭(411105))//微细加工技术.—1998,(2).
文摘TN305 2000053665自由空间微光学元件的研制=Fabrication of freespacemicro-optical elements[刊,中]/周光亚,赵小林,张明生(上海交通大学信息存储研究中心.上海(200030)),陈益新(上海交通大学应用物理系.上海(200030)),王宗光(上海交通大学应用化学系.上海(200030))//微细加工技术.—1999,(3).
文摘TN305 2003010743基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制=Subwavelengthgratings based on a new microfabrication technology[刊,中]/李以贵(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),陈迪…//光学学报.-2002,22(8)-1008-1010描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即电子束(EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了100nm以下的刻蚀精度。
文摘TN305．7 2005021533 电子束曝光机的偏转系统=Deflection system for electron beam lithography[刊,中]／刘珠明(中科院电工研究所.北 京(100080)),顾文琪//光电工程．-2004,31(12)．-12- 16 电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描。像 差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求。对各 种偏转器、偏转方式进行分析、比较,从偏转器空间场的数 值计算方法、偏转系统的优化、像差校正。
文摘TN305．7 2005032365 硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabrication of silicon-based microstructures and their application in mi- crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深 圳(518057)),钱可元…∥半导体光电．-2004,25(6)．- 477-479,483 基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构, 以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)
