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微粒形体分布函数与影响因子函数的进一步研究
1
作者
王国余
王亚伟
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期37-38,共2页
基于任意形体微粒的半椭圆模型及其理论,对其中的微粒形体分布函数和其影响因子进行了理论和实验研究。研究结果表明:1)微粒粒度分布在大粒度分布区对微粒形体影响因子的影响甚微,可以忽略其影响作用:2)对于微米量级的微粒,其衍射图...
基于任意形体微粒的半椭圆模型及其理论,对其中的微粒形体分布函数和其影响因子进行了理论和实验研究。研究结果表明:1)微粒粒度分布在大粒度分布区对微粒形体影响因子的影响甚微,可以忽略其影响作用:2)对于微米量级的微粒,其衍射图象反映了微粒的形体,从而可用于微粒形体分布函数的定义。
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关键词
微粒形体
分布函数
因子函数
光学测量
微粒
粒度分布
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职称材料
碳酸镉@二氧化硅菱形体核壳结构以及二氧化硅菱形体空心结构微粒的制备
被引量:
1
2
作者
韩坤
赵志慧
+3 位作者
相铮
王燕萍
张俊虎
杨柏
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期1149-1152,共4页
利用St ber种子生长法,第一次在尺寸为2μm左右的碳酸镉菱形微粒表面直接包覆二氧化硅层,得到碳酸镉@二氧化硅核壳结构的胶体粒子.作为核壳结构的壳层部分,二氧化硅层的厚度可以通过加入体系中的正硅酸乙酯的量来控制.作为核层的碳酸镉...
利用St ber种子生长法,第一次在尺寸为2μm左右的碳酸镉菱形微粒表面直接包覆二氧化硅层,得到碳酸镉@二氧化硅核壳结构的胶体粒子.作为核壳结构的壳层部分,二氧化硅层的厚度可以通过加入体系中的正硅酸乙酯的量来控制.作为核层的碳酸镉胶体部分可以被盐酸刻蚀掉,进而得到具有菱形体空心结构的二氧化硅微粒.
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关键词
碳酸镉菱
形体
微粒
核壳结构
二氧化硅
空心菱
形体
微粒
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职称材料
光的吸收、透射与散射
3
《中国光学》
CAS
2004年第3期10-11,共2页
O436.2 2004031675 高斯场下形体影晌因子的动态特征以及微扰方程的修正=Dynamical characteristics of the shape influence factor
关键词
影响因子
动态特征
任意
形体
微扰方程
高斯场
高斯分布
微粒形体
修正
散射场
后向散射特性
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职称材料
题名
微粒形体分布函数与影响因子函数的进一步研究
1
作者
王国余
王亚伟
机构
江苏大学理学院
出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期37-38,共2页
文摘
基于任意形体微粒的半椭圆模型及其理论,对其中的微粒形体分布函数和其影响因子进行了理论和实验研究。研究结果表明:1)微粒粒度分布在大粒度分布区对微粒形体影响因子的影响甚微,可以忽略其影响作用:2)对于微米量级的微粒,其衍射图象反映了微粒的形体,从而可用于微粒形体分布函数的定义。
关键词
微粒形体
分布函数
因子函数
光学测量
微粒
粒度分布
Keywords
particles, shape, diffraction, distribution function.
分类号
O432.2 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
碳酸镉@二氧化硅菱形体核壳结构以及二氧化硅菱形体空心结构微粒的制备
被引量:
1
2
作者
韩坤
赵志慧
相铮
王燕萍
张俊虎
杨柏
机构
吉林大学超分子结构与材料教育部重点分子实验室
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期1149-1152,共4页
基金
国家自然科学基金(批准号:90401020)
长江学者和创新团队发展计划(批准号:IRT0422)资助
文摘
利用St ber种子生长法,第一次在尺寸为2μm左右的碳酸镉菱形微粒表面直接包覆二氧化硅层,得到碳酸镉@二氧化硅核壳结构的胶体粒子.作为核壳结构的壳层部分,二氧化硅层的厚度可以通过加入体系中的正硅酸乙酯的量来控制.作为核层的碳酸镉胶体部分可以被盐酸刻蚀掉,进而得到具有菱形体空心结构的二氧化硅微粒.
关键词
碳酸镉菱
形体
微粒
核壳结构
二氧化硅
空心菱
形体
微粒
Keywords
Rhombohedral CdCO3 particle
Core-shell structure
SiO2
Hollow rhombohedral particle
分类号
O631 [理学—高分子化学]
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职称材料
题名
光的吸收、透射与散射
3
出处
《中国光学》
CAS
2004年第3期10-11,共2页
文摘
O436.2 2004031675 高斯场下形体影晌因子的动态特征以及微扰方程的修正=Dynamical characteristics of the shape influence factor
关键词
影响因子
动态特征
任意
形体
微扰方程
高斯场
高斯分布
微粒形体
修正
散射场
后向散射特性
分类号
O436.2 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微粒形体分布函数与影响因子函数的进一步研究
王国余
王亚伟
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2002
0
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职称材料
2
碳酸镉@二氧化硅菱形体核壳结构以及二氧化硅菱形体空心结构微粒的制备
韩坤
赵志慧
相铮
王燕萍
张俊虎
杨柏
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
在线阅读
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职称材料
3
光的吸收、透射与散射
《中国光学》
CAS
2004
0
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职称材料
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