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热丝化学气相沉积法制备优质微米亚微米级单晶金刚石的研究
被引量:
1
1
作者
张韬
沈彬
+1 位作者
孙方宏
张志明
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2011年第6期7-11,共5页
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD),在硅片衬底上进行微米级(>1μm)及亚微米级(<1μm)单晶金刚石的沉积研究。微米级金刚石是以高温高压法(HPHT)制备的1μm金刚石颗粒为籽晶,通过甩胶布晶的方法,在衬底上均匀分布晶种,并通过合理控...
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD),在硅片衬底上进行微米级(>1μm)及亚微米级(<1μm)单晶金刚石的沉积研究。微米级金刚石是以高温高压法(HPHT)制备的1μm金刚石颗粒为籽晶,通过甩胶布晶的方法,在衬底上均匀分布晶种,并通过合理控制沉积工艺参数,在衬底上形成晶形完好的单晶金刚石。在沉积2 h后,可消除原HPHT籽晶缺陷,沉积6 h后,生长出晶形良好的立方八面体金刚石颗粒(约4μm);对于亚微米级单晶金刚石,是直接在衬底上进行合成,通过调控沉积参数(如衬底预处理方法,偏流大小,沉积时间)对单晶金刚石的分布密度和颗粒度进行控制,经过2 h的沉积,最终获得了0.7μm的二十面体单晶金刚石。
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关键词
热丝化学气相
沉积
法
微米级单晶金刚石沉积参数
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职称材料
热丝化学气相沉积法制备单晶金刚石的试验研究
2
作者
张川
刘栋栋
+1 位作者
陆明
孙方宏
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2024年第3期279-285,F0003,共8页
热丝化学气相沉积法沉积区域可达12英寸(30.48 cm),其具备大批量生产单晶金刚石的潜力。采用尺寸为3 mm×3 mm×1 mm,(100)取向的单晶金刚石为基体,利用热丝化学气相沉积法以甲烷和氢气为前驱体,同时通入少量氮气进行同质外延...
热丝化学气相沉积法沉积区域可达12英寸(30.48 cm),其具备大批量生产单晶金刚石的潜力。采用尺寸为3 mm×3 mm×1 mm,(100)取向的单晶金刚石为基体,利用热丝化学气相沉积法以甲烷和氢气为前驱体,同时通入少量氮气进行同质外延生长。结果表明,在热丝温度为2200℃、碳源浓度为4%、腔体气压为4 kPa的条件下,单晶金刚石以3.41μm/h的速度生长,表面无多晶、破口、孔洞等缺陷;外延层X射线衍射光谱在(400)面处峰值的半高宽为0.11°,低于基体的半高宽0.16°,证明外延层具有较高的晶体质量;氮气的引入可以提升单晶金刚石的生长速度,同时降低外延层的晶体质量,较高的氮气浓度还会使得单晶金刚石的生长模式转为岛状生长。
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关键词
热丝化学气相
沉积
法
单晶
金刚石
工艺
参数
优化
氮气掺杂
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职称材料
CVD单晶金刚石的研究进展
被引量:
6
3
作者
吴超
马志斌
+1 位作者
严垒
高攀
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
2014年第1期57-63,共7页
化学气相沉积(CVD)单晶金刚石是近年来金刚石领域研究焦点之一,在众多合成方法中,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是诸多学者公认的稳定生长均匀高质量单晶金刚石最有前途的技术。近年来,MPCVD合成单晶金刚石在质量、速率、尺寸以及应...
化学气相沉积(CVD)单晶金刚石是近年来金刚石领域研究焦点之一,在众多合成方法中,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是诸多学者公认的稳定生长均匀高质量单晶金刚石最有前途的技术。近年来,MPCVD合成单晶金刚石在质量、速率、尺寸以及应用上取得了重大的进展,但是目前仍然有一个问题需要解决,即如何在保证质量的前提下大幅度提高单晶金刚石的生长速率。本文对CVD单晶金刚石过程中衬底的选择、表面加工与处理、基座的结构和沉积参数的选择进行了详细评述,并简要介绍了CVD单晶金刚石国内外研发成果。
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关键词
化学气相
沉积
单晶
金刚石
生长
参数
研究成果
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职称材料
磷掺杂类金刚石薄膜的制备与性能研究
被引量:
5
4
作者
王进
Sunny C.H.Kwok
+3 位作者
陈俊英
杨萍
黄楠
P.K.Chu
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期123-126,共4页
应用等离子体浸没离子注入与沉积方法合成了磷掺杂的类金刚石(P doped diamond like carbon,P-aopea DLC)薄膜。结构分析表明磷以微米级岛状结构分散于DLC薄膜表层,P的掺杂增加了DLC薄膜的无序性,俄歇能谱证明岛型区域是由P、C、O三种...
应用等离子体浸没离子注入与沉积方法合成了磷掺杂的类金刚石(P doped diamond like carbon,P-aopea DLC)薄膜。结构分析表明磷以微米级岛状结构分散于DLC薄膜表层,P的掺杂增加了DLC薄膜的无序性,俄歇能谱证明岛型区域是由P、C、O三种元素形成的化合物,衰减全反射傅里叶红外光谱(ATR-FTIR)的分析结果显示存在P-O-P和P-P-C的非对称伸缩振动。掺杂表面表现出强烈的亲水性(水接触角为16.9°),体外血小板粘附实验结果显示,P掺杂DLC薄膜表面粘附的血小板少且变形小,表现出的血液相容性优于热解碳和未改性DLCo。P-doped DLC薄膜与水的界面张力为2.7 nJ/cm2,具有较理想的接近于血细胞的界面张力,因此与血液保持了较高的相容性。
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关键词
类
金刚石
薄膜
磷掺杂
性能研究
等离子体浸没离子注入
DLC薄膜
diamond
制备
carbon
界面张力
衰减全反射
血小板粘附
血液相容性
沉积
方法
like
俄歇能谱
元素形成
伸缩振动
分析结果
红外光谱
水接触角
薄膜表面
微米
级
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职称材料
题名
热丝化学气相沉积法制备优质微米亚微米级单晶金刚石的研究
被引量:
1
1
作者
张韬
沈彬
孙方宏
张志明
机构
上海交通大学机械与动力工程学院
上海交友钻石涂层有限公司
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2011年第6期7-11,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(NO.50975177
NO.51005154)
文摘
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD),在硅片衬底上进行微米级(>1μm)及亚微米级(<1μm)单晶金刚石的沉积研究。微米级金刚石是以高温高压法(HPHT)制备的1μm金刚石颗粒为籽晶,通过甩胶布晶的方法,在衬底上均匀分布晶种,并通过合理控制沉积工艺参数,在衬底上形成晶形完好的单晶金刚石。在沉积2 h后,可消除原HPHT籽晶缺陷,沉积6 h后,生长出晶形良好的立方八面体金刚石颗粒(约4μm);对于亚微米级单晶金刚石,是直接在衬底上进行合成,通过调控沉积参数(如衬底预处理方法,偏流大小,沉积时间)对单晶金刚石的分布密度和颗粒度进行控制,经过2 h的沉积,最终获得了0.7μm的二十面体单晶金刚石。
关键词
热丝化学气相
沉积
法
微米级单晶金刚石沉积参数
Keywords
hot filament chemical vapor deposition
micro/submicro single crystal diamonds
deposition parameters
分类号
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
在线阅读
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职称材料
题名
热丝化学气相沉积法制备单晶金刚石的试验研究
2
作者
张川
刘栋栋
陆明
孙方宏
机构
上海交通大学机械与动力工程学院
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2024年第3期279-285,F0003,共8页
基金
国家自然科学基金项目“基于陶瓷中间过渡层的梯度渐变超纳米金刚石复合涂层制备新技术与应用基础研究”(项目编号:52175424)
文摘
热丝化学气相沉积法沉积区域可达12英寸(30.48 cm),其具备大批量生产单晶金刚石的潜力。采用尺寸为3 mm×3 mm×1 mm,(100)取向的单晶金刚石为基体,利用热丝化学气相沉积法以甲烷和氢气为前驱体,同时通入少量氮气进行同质外延生长。结果表明,在热丝温度为2200℃、碳源浓度为4%、腔体气压为4 kPa的条件下,单晶金刚石以3.41μm/h的速度生长,表面无多晶、破口、孔洞等缺陷;外延层X射线衍射光谱在(400)面处峰值的半高宽为0.11°,低于基体的半高宽0.16°,证明外延层具有较高的晶体质量;氮气的引入可以提升单晶金刚石的生长速度,同时降低外延层的晶体质量,较高的氮气浓度还会使得单晶金刚石的生长模式转为岛状生长。
关键词
热丝化学气相
沉积
法
单晶
金刚石
工艺
参数
优化
氮气掺杂
Keywords
hot filament chemical vapor deposition
single crystal diamond
optimization of deposition parameters
nitrogen doping
分类号
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
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职称材料
题名
CVD单晶金刚石的研究进展
被引量:
6
3
作者
吴超
马志斌
严垒
高攀
机构
武汉工程大学材料科学与工程学院
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
2014年第1期57-63,共7页
基金
国家自然科学基金项目(10875093)
文摘
化学气相沉积(CVD)单晶金刚石是近年来金刚石领域研究焦点之一,在众多合成方法中,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是诸多学者公认的稳定生长均匀高质量单晶金刚石最有前途的技术。近年来,MPCVD合成单晶金刚石在质量、速率、尺寸以及应用上取得了重大的进展,但是目前仍然有一个问题需要解决,即如何在保证质量的前提下大幅度提高单晶金刚石的生长速率。本文对CVD单晶金刚石过程中衬底的选择、表面加工与处理、基座的结构和沉积参数的选择进行了详细评述,并简要介绍了CVD单晶金刚石国内外研发成果。
关键词
化学气相
沉积
单晶
金刚石
生长
参数
研究成果
Keywords
chemical vapor deposition (CVD)
single crystal diamond
growth parameter
achievement
分类号
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
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职称材料
题名
磷掺杂类金刚石薄膜的制备与性能研究
被引量:
5
4
作者
王进
Sunny C.H.Kwok
陈俊英
杨萍
黄楠
P.K.Chu
机构
西南交通大学材料科学与工程学院
香港城市大学物理与材料系
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期123-126,共4页
基金
国家自然科学基金(No.50203011和No.30270392)资助
文摘
应用等离子体浸没离子注入与沉积方法合成了磷掺杂的类金刚石(P doped diamond like carbon,P-aopea DLC)薄膜。结构分析表明磷以微米级岛状结构分散于DLC薄膜表层,P的掺杂增加了DLC薄膜的无序性,俄歇能谱证明岛型区域是由P、C、O三种元素形成的化合物,衰减全反射傅里叶红外光谱(ATR-FTIR)的分析结果显示存在P-O-P和P-P-C的非对称伸缩振动。掺杂表面表现出强烈的亲水性(水接触角为16.9°),体外血小板粘附实验结果显示,P掺杂DLC薄膜表面粘附的血小板少且变形小,表现出的血液相容性优于热解碳和未改性DLCo。P-doped DLC薄膜与水的界面张力为2.7 nJ/cm2,具有较理想的接近于血细胞的界面张力,因此与血液保持了较高的相容性。
关键词
类
金刚石
薄膜
磷掺杂
性能研究
等离子体浸没离子注入
DLC薄膜
diamond
制备
carbon
界面张力
衰减全反射
血小板粘附
血液相容性
沉积
方法
like
俄歇能谱
元素形成
伸缩振动
分析结果
红外光谱
水接触角
薄膜表面
微米
级
Keywords
Blood
Deposition
Ion implantation
Mechanical properties
Microstructure
Phosphorus
Plasmas
分类号
TQ174.756 [化学工程—陶瓷工业]
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
热丝化学气相沉积法制备优质微米亚微米级单晶金刚石的研究
张韬
沈彬
孙方宏
张志明
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2011
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
热丝化学气相沉积法制备单晶金刚石的试验研究
张川
刘栋栋
陆明
孙方宏
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2024
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
CVD单晶金刚石的研究进展
吴超
马志斌
严垒
高攀
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
2014
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
磷掺杂类金刚石薄膜的制备与性能研究
王进
Sunny C.H.Kwok
陈俊英
杨萍
黄楠
P.K.Chu
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
5
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职称材料
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