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聚甲苯胺蓝修饰碳纤维微柱电极的制备及其电化学性质 被引量:4
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作者 冶保献 刘瑛 +1 位作者 曾东华 刘灵芳 《郑州大学学报(自然科学版)》 CAS 2000年第1期73-76,共4页
在 p H7.0的磷酸缓冲液中 ,用循环伏安法制备了聚甲苯胺蓝修饰碳纤维微柱电极 .自制的碳纤维微柱电极分别在 +2 .5 V恒电位极化 30 s,- 1.0 V恒电位极化 30 s后 ,电极活性得到明显改善 ,于 - 0 .8V~ +0 .8V的电位区间内循环扫描 ,即得... 在 p H7.0的磷酸缓冲液中 ,用循环伏安法制备了聚甲苯胺蓝修饰碳纤维微柱电极 .自制的碳纤维微柱电极分别在 +2 .5 V恒电位极化 30 s,- 1.0 V恒电位极化 30 s后 ,电极活性得到明显改善 ,于 - 0 .8V~ +0 .8V的电位区间内循环扫描 ,即得到致密的聚甲苯胺蓝膜修饰碳纤维微柱电极 .研究了聚甲苯胺蓝膜修饰碳纤维微柱电极的电化学性质和电催化性能 ,该膜对神经递质多巴胺有良好催化作用 ,催化峰电流与多巴胺浓度在 3.0× 10 - 5 mol/ L~ 3.0× 10 - 4 mol/ L 展开更多
关键词 碳纤维微柱电极 聚甲苯胺蓝 修饰电极 电化学
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用于三维超微图形复制加工的约束刻蚀剂层技术研究 被引量:3
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作者 谢雷 罗瑾 +1 位作者 毛秉伟 田昭武 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期193-195,198,共4页
本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响,证明对刻蚀剂层进行约束可使该方法具里高敏感性,并成功地在GaAS单晶上进行了初步的复杂三维微细图形... 本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响,证明对刻蚀剂层进行约束可使该方法具里高敏感性,并成功地在GaAS单晶上进行了初步的复杂三维微细图形的复制。 展开更多
关键词 约束刻蚀剂层技术 微图形 电化学微细加工 微细图形 微柱电极 电化学方法 可行性研究 微盘电极 原子力显微镜 扫描电化学显微镜
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