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微小等离子体反应器的制作及性能测试
被引量：
3
1
作者
王海
夏小品
周荣荻
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期811-817,共7页
设计了基于并行探针驱动的扫描刻蚀加工系统,用于微纳米尺度的刻蚀加工。研究了系统的核心器件-微小等离子体反应器的电学特性和发射光谱特性,以了解反应器中产生的反应等离子体性能的变化规律。基于微机电系统(MEMS)加工工艺制备了中...
设计了基于并行探针驱动的扫描刻蚀加工系统,用于微纳米尺度的刻蚀加工。研究了系统的核心器件-微小等离子体反应器的电学特性和发射光谱特性,以了解反应器中产生的反应等离子体性能的变化规律。基于微机电系统(MEMS)加工工艺制备了中间带有倒金字塔形状微型空腔的金属-绝缘体-金属3层结构的微小等离子体反应器。搭建了可测量等离子体伏安特性和发射光谱特性的实验系统,对放电气体为SF6,工作气压在5～12kPa,直流驱动模式下的微小等离子体反应器的电学和光谱特性进行了测试。实验结果表明,放电电流随着放电电压的增加而近似线性递增,放电电流由5kPa时的2.1～2.82μA递增到12kPa时的3.6～4.2μA,表明所产生的微小等离子体处于异常辉光放电模态。当器件特征尺寸由150μm减小至30μm时,微小等离子体发射光谱中氟原子特征谱线(703.7nm)峰值增大了约56%,表明微小等离子体的浓度随尺度缩小而增强。实验结果表明,设计的微小等离子体反应器基本满足扫描刻蚀加工所需的高浓度等离子体源的性能要求。
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关键词
微小等离子体反应器
扫描刻蚀加工
伏安特性
发射光谱
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职称材料
微小等离子体反应器的导出机理研究
被引量：
1
2
作者
王海
童云华
文莉
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期91-96,共6页
提出了一种通过空心阴极底部的微孔及外加偏置电场的方法实现微小等离子体导出的机制,并采用二维流体模型对其进行了数值仿真研究。当工作气体为SF6、工作气压为2～9kPa、微孔半径为0.25μm时,F原子最大束流密度在(1.53～5.62)×101...
提出了一种通过空心阴极底部的微孔及外加偏置电场的方法实现微小等离子体导出的机制,并采用二维流体模型对其进行了数值仿真研究。当工作气体为SF6、工作气压为2～9kPa、微孔半径为0.25μm时,F原子最大束流密度在(1.53～5.62)×1014cm-3.s-1之间,SF5+最大束流密度在(2.46～7.83)×1016cm-3.s-1之间。工作气压为5kPa时,样品表面处F的平均能量为3.82eV,散射角在-14°～14°之间;SF5+的平均能量为25eV,散射角为-13°～14°。当偏置电压在10～50V之间变化时,SF5+平均能量在52～58eV之间变化。上述F、SF5+密度满足硅基底材料的有效刻蚀需要,验证了扫描刻蚀加工的可行性。
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关键词
扫描
等离子体
刻蚀加工
微小等离子体反应器
导出机制
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职称材料
利用溅射反转剥离工艺实现微放电器Ni电极图形化
3
作者
张秋萍
文莉
+2 位作者
向伟伟
王海
褚家如
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期400-405,共6页
研究了实现微放电器Ni电极图形化的溅射反转剥离工艺,即采用磁控溅射沉积Ni薄膜,利用图像反转法实现金属剥离.以硅为基底分析了转型烘烤和显影等因素对AR-U4030光刻胶反转的作用,研究了Ni膜溅射功率、时间以及超声振洗等条件对剥离的影...
研究了实现微放电器Ni电极图形化的溅射反转剥离工艺,即采用磁控溅射沉积Ni薄膜,利用图像反转法实现金属剥离.以硅为基底分析了转型烘烤和显影等因素对AR-U4030光刻胶反转的作用,研究了Ni膜溅射功率、时间以及超声振洗等条件对剥离的影响.实验表明,剥离Ni膜厚度为200nm时,图形精度可达2μm.最后,利用溅射反转剥离工艺实现了倒金字塔深槽中金属的剥离,简化了微放电器Ni电极的图形化工艺,由此制备的微放电器在SF6等离子体中稳定放电.
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关键词
溅射
图像反转
剥离
微小等离子体反应器
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职称材料
题名
微小等离子体反应器的制作及性能测试
被引量：
3
1
作者
王海
夏小品
周荣荻
机构
安徽工程大学机械与汽车工程学院安徽省先进数控及伺服技术重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期811-817,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.50605061)
安徽高校省级科学研究项目资助项目(No.KJ2012A033)
安徽工程大学科研启动基金资助项目(No.2006yqq001)
文摘
设计了基于并行探针驱动的扫描刻蚀加工系统,用于微纳米尺度的刻蚀加工。研究了系统的核心器件-微小等离子体反应器的电学特性和发射光谱特性,以了解反应器中产生的反应等离子体性能的变化规律。基于微机电系统(MEMS)加工工艺制备了中间带有倒金字塔形状微型空腔的金属-绝缘体-金属3层结构的微小等离子体反应器。搭建了可测量等离子体伏安特性和发射光谱特性的实验系统,对放电气体为SF6,工作气压在5～12kPa,直流驱动模式下的微小等离子体反应器的电学和光谱特性进行了测试。实验结果表明,放电电流随着放电电压的增加而近似线性递增,放电电流由5kPa时的2.1～2.82μA递增到12kPa时的3.6～4.2μA,表明所产生的微小等离子体处于异常辉光放电模态。当器件特征尺寸由150μm减小至30μm时,微小等离子体发射光谱中氟原子特征谱线(703.7nm)峰值增大了约56%,表明微小等离子体的浓度随尺度缩小而增强。实验结果表明,设计的微小等离子体反应器基本满足扫描刻蚀加工所需的高浓度等离子体源的性能要求。
关键词
微小等离子体反应器
扫描刻蚀加工
伏安特性
发射光谱
Keywords
microplasma reactor
scanning plasma etching
V-I curve
emission spectrum
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TN136 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
微小等离子体反应器的导出机理研究
被引量：
1
2
作者
王海
童云华
文莉
机构
安徽工程大学机械与汽车工程学院
安徽省先进数控和伺服驱动技术重点实验室
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
出处
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期91-96,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(50605061)
江苏省微纳生物医疗器械设计与制造重点实验室资助(JSNBI200905)
文摘
提出了一种通过空心阴极底部的微孔及外加偏置电场的方法实现微小等离子体导出的机制,并采用二维流体模型对其进行了数值仿真研究。当工作气体为SF6、工作气压为2～9kPa、微孔半径为0.25μm时,F原子最大束流密度在(1.53～5.62)×1014cm-3.s-1之间,SF5+最大束流密度在(2.46～7.83)×1016cm-3.s-1之间。工作气压为5kPa时,样品表面处F的平均能量为3.82eV,散射角在-14°～14°之间;SF5+的平均能量为25eV,散射角为-13°～14°。当偏置电压在10～50V之间变化时,SF5+平均能量在52～58eV之间变化。上述F、SF5+密度满足硅基底材料的有效刻蚀需要,验证了扫描刻蚀加工的可行性。
关键词
扫描
等离子体
刻蚀加工
微小等离子体反应器
导出机制
Keywords
Scanning plasma etching
Microplasma reactor
Extraction mechanism
分类号
O53 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
利用溅射反转剥离工艺实现微放电器Ni电极图形化
3
作者
张秋萍
文莉
向伟伟
王海
褚家如
机构
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
安徽工程科技学院机械工程系
出处
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期400-405,共6页
基金
国家自然科学基金(50605061)资助
文摘
研究了实现微放电器Ni电极图形化的溅射反转剥离工艺,即采用磁控溅射沉积Ni薄膜,利用图像反转法实现金属剥离.以硅为基底分析了转型烘烤和显影等因素对AR-U4030光刻胶反转的作用,研究了Ni膜溅射功率、时间以及超声振洗等条件对剥离的影响.实验表明,剥离Ni膜厚度为200nm时,图形精度可达2μm.最后,利用溅射反转剥离工艺实现了倒金字塔深槽中金属的剥离,简化了微放电器Ni电极的图形化工艺,由此制备的微放电器在SF6等离子体中稳定放电.
关键词
溅射
图像反转
剥离
微小等离子体反应器
Keywords
sputtering
image reverse
lift-off
microplasma reactor
分类号
TM241 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微小等离子体反应器的制作及性能测试
王海
夏小品
周荣荻
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
微小等离子体反应器的导出机理研究
王海
童云华
文莉
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2011
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
利用溅射反转剥离工艺实现微放电器Ni电极图形化
张秋萍
文莉
向伟伟
王海
褚家如
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2010
0
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职称材料
已选择
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