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SIMS测量激光诱导扩散Zn的浓度分布
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作者 张雪琴 吴云峰 +1 位作者 叶玉堂 焦世龙 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期21-24,共4页
通过SIMS对激光诱导扩散杂质浓度分布的研究,提出了一个测量扩散区只在μm量级或10μm 量级范围内的杂质浓度分布的方法。首先利用光刻的方法在基片表面标识出扩散窗口,然后进行激光诱导处理。用SIMS对制成的扩散样品定量分析,通过扫描... 通过SIMS对激光诱导扩散杂质浓度分布的研究,提出了一个测量扩散区只在μm量级或10μm 量级范围内的杂质浓度分布的方法。首先利用光刻的方法在基片表面标识出扩散窗口,然后进行激光诱导处理。用SIMS对制成的扩散样品定量分析,通过扫描探针显微镜测量刻蚀深度,由此实现了微小扩散区掺杂浓度-深度分布的研究。 展开更多
关键词 激光诱导扩散 微小扩散区 二次离子质谱仪
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