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用表面粗糙度测量仪测量材料微小去除量被引量：1: 1; 作者杨卫平徐家文《工具技术》北大核心 2007年第10期50-51,共2页; 抛光加工工艺的材料去除量非常微小,因此难以对该材料去除量进行精确测量。本文采用常用表面粗糙度测量仪对反映硅片抛光材料去除量的抛光深度进行了简易、快速和实用的测量,较好地解决了微小去除量的测量问题,并通过实例证明该方法可行。; 关键词抛光材料微小去除量测量; 在线阅读下载PDF 职称材料

硅片边缘化学机械抛光的微小去除量测量被引量：1: 2; 作者杨卫平吴勇波《工具技术》 2010年第2期109-110,共2页; 针对硅片化学机械抛光工艺的材料去除量非常微小并难以测量的问题,本文介绍一种采用表面粗糙度测量仪,对硅片边缘化学机械抛光的材料去除量进行一种简易、快速的测量方法,且该方法同时还可准确地测量硅片边缘抛光表面粗糙度值。检测结... 展开更多; 关键词硅片边缘化学机械抛光材料微小去除量测量; 在线阅读下载PDF 职称材料

固结磨粒化学机械抛光硅片的不规则表面微小去除量测量: 3; 作者杨卫平吴勇波《工具技术》 2014年第9期86-87,共2页; 现代加工精度不断提高,常需对材料的微小去除量进行测量。本文针对固结磨粒超精密抛光硅片时,出现不规则加工表面形状的材料去除量测量问题,采用一种常见的表面粗糙度测量仪,在完成硅片表面粗糙度测量的同时,对其表面形貌进行测量。然后... 展开更多; 关键词不规则表面抛光微小去除量测量; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	用表面粗糙度测量仪测量材料微小去除量	杨卫平徐家文	《工具技术》北大核心	2007	1	在线阅读下载PDF 职称材料
2	硅片边缘化学机械抛光的微小去除量测量	杨卫平吴勇波	《工具技术》	2010	1	在线阅读下载PDF 职称材料
3	固结磨粒化学机械抛光硅片的不规则表面微小去除量测量	杨卫平吴勇波	《工具技术》	2014	0	在线阅读下载PDF 职称材料