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聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究
被引量：
26
1
作者
孟斐
陈恒武
+2 位作者
方群
朱海霖
方肇伦
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1264-1268,共5页
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道...
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道的等离子体表面处理方法比较 ,采用紫外光表面处理 ,设备简单 ,操作方便 ,耗费少 ,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法 .
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关键词
紫外光
微流控
分析
系统
聚二甲基硅氧烷芯片
光化学
表面处理
微型金分析系统
毛细管电泳
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职称材料
题名
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究
被引量：
26
1
作者
孟斐
陈恒武
方群
朱海霖
方肇伦
机构
浙江大学化学系
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1264-1268,共5页
基金
国家自然科学基金 (批准号 :2 0 2 990 3 0
2 0 2 990 3 1)
文摘
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道的等离子体表面处理方法比较 ,采用紫外光表面处理 ,设备简单 ,操作方便 ,耗费少 ,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法 .
关键词
紫外光
微流控
分析
系统
聚二甲基硅氧烷芯片
光化学
表面处理
微型金分析系统
毛细管电泳
Keywords
Microfluidic analytical system
PDMS chip
Photochemical surface modification
分类号
O657.8 [理学—分析化学]
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究
孟斐
陈恒武
方群
朱海霖
方肇伦
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
26
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