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紫外光照射对聚丙烯核孔膜蚀刻的影响
1
作者
周密
傅元勇
+2 位作者
刘义保
鞠薇
陈东风
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第1期189-192,共4页
采用主峰波长为365nm的紫外光灯对经32S离子和79Br离子辐照过的16μm厚的聚丙烯(PP)膜正反面分别敏化6、8、10、12h。选取重铬酸钾和硫酸的混合溶液作为蚀刻液对样品膜进行蚀刻,采用电导法监测电流随蚀刻时间的变化,确定不同敏化时间下...
采用主峰波长为365nm的紫外光灯对经32S离子和79Br离子辐照过的16μm厚的聚丙烯(PP)膜正反面分别敏化6、8、10、12h。选取重铬酸钾和硫酸的混合溶液作为蚀刻液对样品膜进行蚀刻,采用电导法监测电流随蚀刻时间的变化,确定不同敏化时间下样品膜的导通时间。同种离子辐照后敏化时间越长,膜导通时间越短,径迹蚀刻速率也越快,且辐照离子的原子序数越大,该影响越明显。相同敏化时间(12h)和蚀刻条件下,32S离子辐照后膜的导通时间是79Br离子辐照后的4.8倍。
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关键词
聚丙烯膜
紫外光敏化
电导法
径迹蚀刻速率
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职称材料
题名
紫外光照射对聚丙烯核孔膜蚀刻的影响
1
作者
周密
傅元勇
刘义保
鞠薇
陈东风
机构
东华理工大学研究生院
中国原子能科学研究院核物理研究所
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第1期189-192,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(11075218)
文摘
采用主峰波长为365nm的紫外光灯对经32S离子和79Br离子辐照过的16μm厚的聚丙烯(PP)膜正反面分别敏化6、8、10、12h。选取重铬酸钾和硫酸的混合溶液作为蚀刻液对样品膜进行蚀刻,采用电导法监测电流随蚀刻时间的变化,确定不同敏化时间下样品膜的导通时间。同种离子辐照后敏化时间越长,膜导通时间越短,径迹蚀刻速率也越快,且辐照离子的原子序数越大,该影响越明显。相同敏化时间(12h)和蚀刻条件下,32S离子辐照后膜的导通时间是79Br离子辐照后的4.8倍。
关键词
聚丙烯膜
紫外光敏化
电导法
径迹蚀刻速率
Keywords
polypropylene film
UV sensitization
conductance measurement
track etching rate
分类号
TL99 [核科学技术—核技术及应用]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
紫外光照射对聚丙烯核孔膜蚀刻的影响
周密
傅元勇
刘义保
鞠薇
陈东风
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
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