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直流磁控溅射法制备含氦铝膜
被引量：
3
1
作者
贾建平
施立群
+1 位作者
赖新春
王庆富
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第3期372-376,共5页
采用氦氩混合气氛下直流磁控溅射沉积方法制备含有氦原子的金属铝膜。经碳原子弹性前冲散射分析(C-ERDA),薄膜中氦原子浓度可达约7%,且分布均匀。实验研究了薄膜中的氦含量与溅射真空室气氛中氦的相对含量、基底偏压及沉积温度间的关系...
采用氦氩混合气氛下直流磁控溅射沉积方法制备含有氦原子的金属铝膜。经碳原子弹性前冲散射分析(C-ERDA),薄膜中氦原子浓度可达约7%,且分布均匀。实验研究了薄膜中的氦含量与溅射真空室气氛中氦的相对含量、基底偏压及沉积温度间的关系。薄膜的X射线衍射分析结果显示:膜中的氦含量变化并未引起明显的峰位移,只是随氦含量增加谱峰宽化。热释放实验证实,氦在薄膜中稳定存在,约500℃以上时方出现氦的释放。
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关键词
磁控溅射
氦
弹性前冲散射分析
X射线衍射
热释放谱
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职称材料
题名
直流磁控溅射法制备含氦铝膜
被引量：
3
1
作者
贾建平
施立群
赖新春
王庆富
机构
表面物理与化学国家重点实验室
复旦大学现代物理研究所应用离子束物理实验室
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第3期372-376,共5页
基金
国家自然科学基金
中国工程物理研究院基金联合资助项目(10476027)
文摘
采用氦氩混合气氛下直流磁控溅射沉积方法制备含有氦原子的金属铝膜。经碳原子弹性前冲散射分析(C-ERDA),薄膜中氦原子浓度可达约7%,且分布均匀。实验研究了薄膜中的氦含量与溅射真空室气氛中氦的相对含量、基底偏压及沉积温度间的关系。薄膜的X射线衍射分析结果显示:膜中的氦含量变化并未引起明显的峰位移,只是随氦含量增加谱峰宽化。热释放实验证实,氦在薄膜中稳定存在,约500℃以上时方出现氦的释放。
关键词
磁控溅射
氦
弹性前冲散射分析
X射线衍射
热释放谱
Keywords
magnetron sputtering
helium
elastic recoil detection analysis
X-ray diffraction
thermal desorption spectrometry
分类号
O571.33 [理学—粒子物理与原子核物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
直流磁控溅射法制备含氦铝膜
贾建平
施立群
赖新春
王庆富
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
3
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