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光学薄膜弱吸收测试装置参数优化 被引量:7
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作者 黄祖鑫 赵建林 +1 位作者 胡晓阳 彭勇 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2011年第9期1779-1783,共5页
光学薄膜对入射光的弱吸收特性是评价元件质量的重要参数。在高能激光作用下,即使十分微弱的吸收也将足以导致薄膜元件的灾难性破坏。因此,有必要对光学薄膜的平均吸收及局部吸收进行精确、快速、实时的检测。从光热偏转技术发展而来的... 光学薄膜对入射光的弱吸收特性是评价元件质量的重要参数。在高能激光作用下,即使十分微弱的吸收也将足以导致薄膜元件的灾难性破坏。因此,有必要对光学薄膜的平均吸收及局部吸收进行精确、快速、实时的检测。从光热偏转技术发展而来的表面热透镜法由于其对测试装置要求的放宽,并且同样拥有较高的测试精度,是测试元件薄膜弱吸收特性的有效方法之一。通过建立实验系统,测试并确定了各个装置参数在不同设置情况下弱吸收信号的稳定性及强度,从而为测试装置的固化提供了关键的布局数据,并在此实验系统上开展了初步的弱吸收测试实验。 展开更多
关键词 光学薄膜 弱吸收 表面热透镜法 优化
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用表面热透镜技术测量1315nm高反射硅镜弱吸收的研究 被引量:5
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作者 王英剑 胡海洋 +1 位作者 李庆国 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第B11期87-90,共4页
运用表面热透镜技术精确测量了 1 31 5nm高反射硅镜的弱吸收 ,判断引起吸收的原因 。
关键词 表面热透镜技术 弱吸收
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基底对光学薄膜弱吸收测量的影响 被引量:2
3
作者 李霞 贺洪波 +1 位作者 赵元安 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期257-261,共5页
对表面热透镜技术测量光学薄膜弱吸收低频调制时不同基底对测量的影响进行了理论分析。用Lambda—900分光光度计测量了K9和石英基底的Ti3O5单层膜的吸收值,将该组样品作为定标片;用表面热透镜装置分别测量了BK7和石英空白基底及HfO2,Zn... 对表面热透镜技术测量光学薄膜弱吸收低频调制时不同基底对测量的影响进行了理论分析。用Lambda—900分光光度计测量了K9和石英基底的Ti3O5单层膜的吸收值,将该组样品作为定标片;用表面热透镜装置分别测量了BK7和石英空白基底及HfO2,ZnO两组不同基底不同厚度单层膜样品的吸收。通过分析比较同一工艺条件下镀制的不同基底薄膜样品用与其同种和不同种基底定标片定标测量的结果,表明在低频测量时需要用与测量样品同种基底的定标片定标;不同厚度样品的测量结果表明,在不能严格满足热薄条件时,测量结果需引入修正值。 展开更多
关键词 表面热透镜技术 薄膜 弱吸收 定标 基底
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对微波弱吸收物质的辅助性加热 被引量:5
4
作者 彭金辉 马骏骑 《微波学报》 CSCD 北大核心 1997年第4期333-336,332,共5页
本文讨论了5种对微波弱吸收物质的辅助性加热方法,认为通过辅助性加热方法,微波弱吸收物质仍能被微波加热,从而可开辟微波能应用新领域。
关键词 微波弱吸收物质 辅助性加热 微波技术
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利用唯象模型解释和理解弱吸收下降曲线
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作者 张哲 刘浩 +1 位作者 陈松林 马平 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3318-3324,共7页
观察到了光学基片和薄膜元器在准连续激光辐照下发生了预处理效应。在532nm和355nm激光辐照下,许多样品的弱吸收值呈现出一个相似的下降曲线(ADC);但在1064nm激光辐照下没有此现象。为了解释和进一步理解该现象,合理假设该现象与辐射总... 观察到了光学基片和薄膜元器在准连续激光辐照下发生了预处理效应。在532nm和355nm激光辐照下,许多样品的弱吸收值呈现出一个相似的下降曲线(ADC);但在1064nm激光辐照下没有此现象。为了解释和进一步理解该现象,合理假设该现象与辐射总能量密度有关,以此建立了一个唯象模型,并进行了一系列推算。推算结论指出:ADC的初始部分形状更多与具体发生的激光预处理机制有关,而尾部形状更多是由于高斯光分布所致;归一化后的ADC以及归一化后的上渐近线,将成为多个ADC曲线之间进行比较的天然度量衡。这些推论得到了实验数据的支持。 展开更多
关键词 光学薄膜 弱吸收 激光预处理 激光损伤阈值 弱吸收下降曲线
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热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析 被引量:3
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作者 姜玉刚 王利栓 +4 位作者 刘华松 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第10期3334-3337,共4页
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为55... 采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。 展开更多
关键词 SIO2薄膜 光学特性 热处理 折射率 弱吸收
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关于全局吸引子与全局弱吸引子 被引量:1
7
作者 邓晋宜 王向荣 周毓荣 《山东矿业学院学报》 CAS 1997年第2期201-214,共14页
对Liénard系统的全局半稳定、全局吸引子和全局弱吸引子给出若干充要条件和充分条件。
关键词 全局半稳定 全局吸收 全局弱吸收 吸收
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高灵敏度光谱测量技术:腔振铃吸收光谱
8
作者 孙文斌 《物理实验》 2006年第7期42-44,47,共4页
腔振铃激光吸收光谱技术是近年快速发展的一项新颖的光谱技术,它不仅检测灵敏度高,而且结构简单,不需要高昂的光谱设备,特别适合于测量弱吸收物质,包括气体、固体、液体等稳态粒子和金属化合物、自由基、团簇等瞬态粒子.本文在介绍其基... 腔振铃激光吸收光谱技术是近年快速发展的一项新颖的光谱技术,它不仅检测灵敏度高,而且结构简单,不需要高昂的光谱设备,特别适合于测量弱吸收物质,包括气体、固体、液体等稳态粒子和金属化合物、自由基、团簇等瞬态粒子.本文在介绍其基本原理的基础上,介绍了使用脉冲激光与连续激光光源的2种技术方案. 展开更多
关键词 腔振铃吸收光谱 光谱技术 弱吸收物质
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HfO_2单层膜的吸收和激光损伤阈值测试 被引量:2
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作者 李淑红 贺洪波 +5 位作者 刘晓凤 单永光 周明 李大伟 赵元安 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期2596-2598,共3页
薄膜吸收是降低膜层激光损伤阈值的重要原因,为了研究薄膜吸收对激光损伤阈值的影响,对HfO2单层膜在1 064 nm处的吸收及其在不同波长激光辐照下的损伤阈值进行了测试和分析。研究结果表明:薄膜的激光损伤阈值由薄膜吸收平均值(决定于薄... 薄膜吸收是降低膜层激光损伤阈值的重要原因,为了研究薄膜吸收对激光损伤阈值的影响,对HfO2单层膜在1 064 nm处的吸收及其在不同波长激光辐照下的损伤阈值进行了测试和分析。研究结果表明:薄膜的激光损伤阈值由薄膜吸收平均值(决定于薄膜中缺陷的种类和数量)和吸收均匀性(决定于薄膜中缺陷的分布)共同决定;根据HfO2单层膜在1064 nm波长处的吸收值,不但可以定性判断薄膜在1 064 nm波长,而且还可以判断在其它波长激光辐照下的抗激光损伤能力。 展开更多
关键词 薄膜 弱吸收 激光损伤阈值 均匀性
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真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性 被引量:14
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作者 薛春荣 易葵 +2 位作者 魏朝阳 邵建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期287-290,共4页
研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料,给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长,测量了这些材料在120~500nm的透过率,给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法,并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶... 研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料,给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长,测量了这些材料在120~500nm的透过率,给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法,并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶体、氟化钙晶体、氟化锂晶体在120~500nm的折射率和消光系数,对这些常用基底的使用范围和特点进行了一定的比较和分析,并将所得基底的光学常数与公开发表的文献进行了比较,证明了所得结果的可靠性。 展开更多
关键词 深紫外 真空紫外 弱吸收基底 透过率 消光系数
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清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响 被引量:4
11
作者 叶晓雯 王孝东 +4 位作者 程鑫彬 马彬 丁涛 沈正祥 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期2338-2342,共5页
采用微分干涉显微镜、扫描电镜和聚焦离子束观察了偏振分光膜损伤的形貌,从损伤机理出发,研究了清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响。结果表明:清洗能有效去除表面杂质,清洗质量越好,基板上的杂质尺寸越小,杂质密度也越小,相应的偏振分光膜... 采用微分干涉显微镜、扫描电镜和聚焦离子束观察了偏振分光膜损伤的形貌,从损伤机理出发,研究了清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响。结果表明:清洗能有效去除表面杂质,清洗质量越好,基板上的杂质尺寸越小,杂质密度也越小,相应的偏振分光膜S光的损伤阈值越高;清洗能有效去除基板表面的纳米吸收中心,吸收性杂质分布密度越小,吸收峰越低,P光的损伤阈值越高。 展开更多
关键词 偏振分光膜 清洗 弱吸收 损伤阈值 电子束蒸发
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退火对ZrO_2薄膜微结构及激光损伤阈值的影响 被引量:3
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作者 田光磊 黄建兵 +1 位作者 贺洪波 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期217-221,共5页
利用电子束蒸发方法在Yb∶YAG晶体和熔融石英衬底上沉积单层 ZrO2 薄膜,分别在 673 K和1 073 K的温度下经过12 h退火以后,通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜晶相,计算了薄膜的晶粒尺寸;利用表面热透镜技术获得了薄膜的吸收;测量了退火后薄... 利用电子束蒸发方法在Yb∶YAG晶体和熔融石英衬底上沉积单层 ZrO2 薄膜,分别在 673 K和1 073 K的温度下经过12 h退火以后,通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜晶相,计算了薄膜的晶粒尺寸;利用表面热透镜技术获得了薄膜的吸收;测量了退火后薄膜的激光损伤阈值。实验结果表明:两种衬底上的薄膜结构受到退火温度和衬底表面结构的影响,高温退火有利于单斜相的形成,含单斜相的 ZrO2 薄膜具有较高的激光损伤阈值,而由于衬底的吸收,Yb∶YAG晶体上薄膜的损伤阈值远小于石英衬底上薄膜的损伤阈值。 展开更多
关键词 退火 ZRO2薄膜 激光损伤阈值 X射线衍射 弱吸收
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激光辐照下金纳米缺陷诱导光学玻璃损伤特性 被引量:2
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作者 蒲云体 王刚 +2 位作者 乔曌 胡江川 马平 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第11期3229-3233,共5页
采用离子束溅射的方式,在K9玻璃基片表面引入金纳米杂质缺陷,通过原子力显微镜(AFM)测得金纳米尺寸直径在50~100 nm之间。采用不同能量密度的激光对样品进行点阵式的单脉冲辐照(1-on-1)并且对损伤阈值及典型损伤形貌进行了实验及理论分... 采用离子束溅射的方式,在K9玻璃基片表面引入金纳米杂质缺陷,通过原子力显微镜(AFM)测得金纳米尺寸直径在50~100 nm之间。采用不同能量密度的激光对样品进行点阵式的单脉冲辐照(1-on-1)并且对损伤阈值及典型损伤形貌进行了实验及理论分析。损伤阈值采用零几率处的损伤密度。结果表明:引入金纳米杂质缺陷后其抗激光损伤阈值由裸基片的26.6 J/cm2下降为15.5 J/cm^2。通过微分干涉显微镜,随着激光能量的增加,损伤呈爆炸坑形貌,主要呈现纵向加剧损伤。金纳米杂质缺陷在K9玻璃基片上形成了强吸收中心(引入金纳米杂质K9玻璃基片的弱吸收(47.33 ppm,1 ppm=10^(-6))是裸K9玻璃基片(3.57 ppm)的13倍)造成局部高温,这是造成损伤的诱因。通过计算,金纳米杂质对K9玻璃基片的作用包括两部分:当激光辐照在K9玻璃基片上,首先是热应力引起玻璃的破裂;随后杂质汽化产生的蒸汽压加剧材料的破坏,引起局部炸裂。 展开更多
关键词 K9玻璃 激光损伤阈值 金纳米缺陷 弱吸收
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1053,527,351nm倍频分离膜的制备与性能研究 被引量:6
14
作者 尚光强 占美琼 +3 位作者 贺洪波 张伟丽 邵建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期580-582,共3页
用电子束蒸发及光电极值监控技术在石英基底上沉积了三倍频分离膜,将部分样品置空气中于250℃温度下进行3 h热退火处理。然后用Lambda900分光光度计测量了样品的光谱性能;用表面热透镜技术测量了样品的弱吸收值;用调Q脉冲激光装置测试... 用电子束蒸发及光电极值监控技术在石英基底上沉积了三倍频分离膜,将部分样品置空气中于250℃温度下进行3 h热退火处理。然后用Lambda900分光光度计测量了样品的光谱性能;用表面热透镜技术测量了样品的弱吸收值;用调Q脉冲激光装置测试了样品分别在355 nm和1 064 nm的抗激光损伤阈值。实验结果发现,样品的实验光谱性能良好,退火前后其光谱性能几乎没有发生温漂,说明薄膜的温度稳定性好;同时弱吸收平均值从退火前的1.07×10-4下降到退火后的6.2×10-5,从而使对基频的抗激光损伤阈值提高,从14.6 J/cm2上升到18.8 J/cm2,但是三倍频阈值在退火后有显著降低,从7.5 J/cm2下降到2.5 J/cm2。 展开更多
关键词 三倍频分离膜 弱吸收 激光损伤阈值 电子束蒸发
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紫外薄膜光学常数的多层模型椭偏测量 被引量:2
15
作者 吴慧利 唐义 +2 位作者 白廷柱 蒋玉蓉 蒋静 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2015年第9期89-94,共6页
研究了基于光谱式椭偏仪精确测量紫外弱吸收薄膜光学常数的可靠方法。以Hf O2和Si O2薄膜为研究对象,用光谱式椭偏仪测量了薄膜的多角度椭偏参数,采用逐点优化法,建立了多层模型。利用Cauchy-Urbach模型进行数据拟合,获得了Hf O2和Si O... 研究了基于光谱式椭偏仪精确测量紫外弱吸收薄膜光学常数的可靠方法。以Hf O2和Si O2薄膜为研究对象,用光谱式椭偏仪测量了薄膜的多角度椭偏参数,采用逐点优化法,建立了多层模型。利用Cauchy-Urbach模型进行数据拟合,获得了Hf O2和Si O2薄膜在200?900 nm波段的光学常数,并比较双层薄膜拟合结果和扫描电镜的测量结果,验证了获得的光学常数的准确性。结果表明,逐点优化法结合Cauchy-Urbach模型能够较好地描述弱吸收薄膜的结构,较为准确地得到薄膜的色散关系,可为紫外滤光片的后期制作奠定基础。 展开更多
关键词 薄膜光学 弱吸收薄膜 光学常数 光谱式椭偏仪
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基于GEANT4模拟含铋辐射防护材料制备及性能研究
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作者 朱杰辉 郭滢 姚理荣 《纺织报告》 2023年第12期28-32,共5页
基于GEANT4软件,采用蒙特卡罗方法设计了一种柔性、轻质、无铅的含铋辐射防护面料。建立仿真模型,研究了铋粉质量分数、铋粉粒径对防护材料辐射防护性能的影响,并与实际制备结果进行比较,发现铋元素可以大大提高防护材料的辐射防护效率... 基于GEANT4软件,采用蒙特卡罗方法设计了一种柔性、轻质、无铅的含铋辐射防护面料。建立仿真模型,研究了铋粉质量分数、铋粉粒径对防护材料辐射防护性能的影响,并与实际制备结果进行比较,发现铋元素可以大大提高防护材料的辐射防护效率,当铋粉的质量分数为70.0%、铋粉粒径为1μm、涂层厚度为400μm时,防护面料的辐射防护性能较为优异。 展开更多
关键词 蒙特卡罗方法 吸收 辐射防护材料 质量衰减系数
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