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InP双异质结晶体管工艺ROM-Less架构14 GHz DDS 被引量:1
1
作者 张翼 李晓鹏 +4 位作者 张有涛 张敏 杨磊 CAI Zhi-kuang GUO Yu-feng 《微波学报》 CSCD 北大核心 2020年第6期24-28,37,共6页
介绍了采用ft/fmax为250/280 GHz的0.7μm InP双异质结晶体管工艺的14 GHz 8bit ROM-Less直接数字频率合成器。电路采用正弦加权非线性数模转换器实现了一种ROM-Less相幅转换,充分发挥了InP-DHBT技术在中大规模混合信号集成电路中的速... 介绍了采用ft/fmax为250/280 GHz的0.7μm InP双异质结晶体管工艺的14 GHz 8bit ROM-Less直接数字频率合成器。电路采用正弦加权非线性数模转换器实现了一种ROM-Less相幅转换,充分发挥了InP-DHBT技术在中大规模混合信号集成电路中的速度优势。为降低功耗,采用了简化的流水线相位累加器。在整个频率控制字范围内,测试得到的平均无杂散动态范围为24.8 dBc。该电路由2122个晶体管组成,功耗为2.4 W,其优值系数为5.83 GHz/W。 展开更多
关键词 直接数字频率合成器 InP双异质结晶体管 数模转换器 相位累加器
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基于电子温度效应的SiGe、SiGeC异质结晶体管的基区渡越时间模型
2
作者 高树钦 李壵 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期168-171,共4页
提出了SiGe和SiGeC异质结晶体管基区渡越时间的一种闭式物理模型,该模型考虑了电子温度效应.计入薄基区内强电场(该电场源起于Ge,C元素的掺杂)引起的电子温度变化,得到的基区渡越时间值与漂移-扩散模型有所不同.随着Ge含量的增加,两者... 提出了SiGe和SiGeC异质结晶体管基区渡越时间的一种闭式物理模型,该模型考虑了电子温度效应.计入薄基区内强电场(该电场源起于Ge,C元素的掺杂)引起的电子温度变化,得到的基区渡越时间值与漂移-扩散模型有所不同.随着Ge含量的增加,两者的差别不能再忽略. 展开更多
关键词 电子温度效应 SiGe异质结晶体管 SiGeC异质结晶体管 基区渡越时间
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薄基区异质结晶体管的负阻特性与分析
3
作者 张世林 李建恒 +2 位作者 郭维廉 齐海涛 梁惠来 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期109-113,共5页
采用分子束外延方法生长了8 nm基区的InGaP-GaAs双异质结材料,研制成具有负阻特性的异质结晶体管.该晶体管可以集成在高速高频的数字逻辑电路中,大大减少了器件数目.讨论了薄基区负阻异质结晶体管的负阻特性及其物理机制.器件负阻特... 采用分子束外延方法生长了8 nm基区的InGaP-GaAs双异质结材料,研制成具有负阻特性的异质结晶体管.该晶体管可以集成在高速高频的数字逻辑电路中,大大减少了器件数目.讨论了薄基区负阻异质结晶体管的负阻特性及其物理机制.器件负阻特性的产生与其结构密切相关,包括导带势垒尖峰和基区宽度负反馈效应.推出了物理公式,并且使用PSPICE模拟软件建立了电路模型.模拟结果符合制作器件的测量结果. 展开更多
关键词 异质结晶体管 负阻特性 薄基区 电路模拟
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Si/SiGe异质结晶体管的参数提取与特性模拟
4
作者 杨维明 陈建新 +3 位作者 邹德恕 史辰 李振国 高铭洁 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第11期41-44,共4页
用实验测量和理论计算相结合的方法提取了Si/SiGe 异质结晶体管的直流和高频参数,分别在PSPICE和MATLAB软件平台上模拟并分析了器件的直流和高频特性,模拟结果与实际测量的结果相吻合,表明本文的提取方法可行、参数提取结果有效。
关键词 异质结晶体管 PSPICE MATLAB 模拟
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耗尽型选择性掺杂异质结晶体管
5
作者 陈定钦 张晓玲 +2 位作者 熊思强 高翠华 周帆 《电子科学学刊》 CSCD 1990年第1期100-102,共3页
设计和研制了耗尽型选择性掺杂异质结晶体管。外延选择性掺杂材料是由本所Fs-Ⅲ型分子束外延炉生长的。制作器件的材料在室温下,霍尔测量的电子迁移率为6500cm^2/v·s,二维薄层电子浓度n_s=9×10^(11)cm^2。在77K时μ_n=75000cm... 设计和研制了耗尽型选择性掺杂异质结晶体管。外延选择性掺杂材料是由本所Fs-Ⅲ型分子束外延炉生长的。制作器件的材料在室温下,霍尔测量的电子迁移率为6500cm^2/v·s,二维薄层电子浓度n_s=9×10^(11)cm^2。在77K时μ_n=75000cm^2/v·s。测量了具有栅长1.2—1.5μm,栅宽2×180μm耗尽型异质结器件的直流特性和器件的跨导,室温下g_m=110~130ms/mm,而低温77K时,可达到200ms/mm。 展开更多
关键词 异质结晶体管 掺杂 MBE材料 晶体管
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锗硅阳极绝缘栅异质结晶体管
6
作者 文争 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期46-46,共1页
关键词 锗硅阳极绝缘栅异质结晶体管 MOS型 功率器件
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SiGe HBT发射区台面自中止腐蚀技术研究 被引量:1
7
作者 贾素梅 杨瑞霞 +2 位作者 刘英坤 邓建国 辛启明 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第9期689-692,共4页
台面结构SiGe/Si异质结晶体管制作过程中,发射区台面形成尤为关键。由于干法刻蚀速率难以精确控制,且易损伤SiGe外基区表面,SiGe自中止湿法腐蚀成为台面结构SiGe/Si异质结晶体管制作过程中的优选工艺。分析了SiGe自中止腐蚀的反应机理,... 台面结构SiGe/Si异质结晶体管制作过程中,发射区台面形成尤为关键。由于干法刻蚀速率难以精确控制,且易损伤SiGe外基区表面,SiGe自中止湿法腐蚀成为台面结构SiGe/Si异质结晶体管制作过程中的优选工艺。分析了SiGe自中止腐蚀的反应机理,对腐蚀条件包括掩蔽膜的选取,温度、超声等因素对腐蚀速率及均匀性的影响进行摸索,取得了较好结果,最终采用该技术完成了SiGe/Si npn型异质结晶体管的制作,测得其电流增益β>80,对采用台面结构制造SiGe/Si HBT具有一定参考价值。 展开更多
关键词 SIGE/SI 异质结晶体管 台面结构 干法刻蚀 自中止腐蚀 腐蚀条件
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SiGe/SiHBT制造中干法、湿法腐蚀技术的研究 被引量:1
8
作者 邹德恕 陈建新 +3 位作者 袁颖 董欣 高国 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期26-28,共3页
介绍了对SiGe/Si材料干法、湿法腐蚀的机理、腐蚀方法、影响腐蚀的主要因素。
关键词 硅锗合金 干法腐蚀 湿法腐蚀 异质结晶体管
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UWB LNA的增益平坦化及稳定性的反馈技术 被引量:1
9
作者 张东晖 张万荣 +3 位作者 金冬月 谢红云 丁春宝 赵昕 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期218-222,共5页
从异质结晶体管(HBT)的小信号模型着手,得到了几种不同反馈形式下HBT的S参数解析表达式。通过对比不同反馈形式的仿真结果,分析了各种反馈形式对S参数的影响,并着重研究了反馈技术对电路稳定性以及对超宽带低噪声放大器(UWB LNA)增益平... 从异质结晶体管(HBT)的小信号模型着手,得到了几种不同反馈形式下HBT的S参数解析表达式。通过对比不同反馈形式的仿真结果,分析了各种反馈形式对S参数的影响,并着重研究了反馈技术对电路稳定性以及对超宽带低噪声放大器(UWB LNA)增益平坦度的影响。结果表明,采用串联电阻和电感或并联电阻和电容的电抗性负反馈,可以使S21的幅度随着频率的增大而逐渐上升,从而补偿了晶体管本身高频增益的下降,同时,也提高了整个电路的稳定性。采用这种反馈结构,设计了一款3~10 GHz超宽带低噪声放大器。仿真结果表明,该放大器在整个频带范围内无条件稳定,传输增益较高,增益平坦度较好,噪声系数较低,是一款无条件稳定并有着较好增益平坦度的超宽带低噪声放大器。 展开更多
关键词 电抗反馈 增益平坦化 稳定性 低噪声放大器 锗硅异质结晶体管
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HBT的PN结偏移效应 被引量:1
10
作者 张玉明 张义门 罗晋生 《应用科学学报》 CAS CSCD 1997年第4期429-435,共7页
采用流体动力学输运模型详细分析了发射区PN结偏移对AlGaAs/GaAsHBT器件性能的影响,提出了器件优化设计的原则.在中等和小的偏压下为了提高β,PN结应向宽禁带层偏移,而为了得到大电流下大的电流放大倍数则应采用PN结与异质结对准... 采用流体动力学输运模型详细分析了发射区PN结偏移对AlGaAs/GaAsHBT器件性能的影响,提出了器件优化设计的原则.在中等和小的偏压下为了提高β,PN结应向宽禁带层偏移,而为了得到大电流下大的电流放大倍数则应采用PN结与异质结对准的结构. 展开更多
关键词 异质结晶体管 计算机模拟 PN结偏移效应 发散区
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SiGe HBT超宽带低噪声放大器设计 被引量:1
11
作者 张滨 杨银堂 李跃进 《微波学报》 CSCD 北大核心 2012年第4期76-80,共5页
采用ADS软件设计并仿真了一种应用于UWB标准的低噪声放大器。该低噪声放大器基于JAZZ 0.35μmSiGe工艺,工作带宽为3.1~10.6GHz。电路的输入极采用共发射极结构,利用反馈电感来进行输入匹配,第二级采用达林顿结构对信号提供合适的增益... 采用ADS软件设计并仿真了一种应用于UWB标准的低噪声放大器。该低噪声放大器基于JAZZ 0.35μmSiGe工艺,工作带宽为3.1~10.6GHz。电路的输入极采用共发射极结构,利用反馈电感来进行输入匹配,第二级采用达林顿结构对信号提供合适的增益。使用ADS2006软件进行设计、优化和仿真。仿真结果显示,在3.1~10.6GHz带宽内,放大器的电源电压在3.3V时,噪声系数低于2.5dB,增益大于24dB,功耗为28mV,输出三阶交调为17dBm。 展开更多
关键词 锗硅异质结晶体管 低噪声放大器 增益 噪声系数
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SiGe HBT的热载流子效应评价
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作者 林晓玲 孔学东 +2 位作者 恩云飞 章晓文 姚若河 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期23-26,42,共5页
电压加速退化试验方法(OCSAM;EB结反偏)常用于评价硅锗异质结晶体管(SiGe HBT)的热载流子效应,但晶体管在高电压、低电压分别作用下所产生的的失效机理并不相同,且耗时长.文中采用电流加速应力试验方法(FCSAM;EB结反偏、CB结正偏),评价S... 电压加速退化试验方法(OCSAM;EB结反偏)常用于评价硅锗异质结晶体管(SiGe HBT)的热载流子效应,但晶体管在高电压、低电压分别作用下所产生的的失效机理并不相同,且耗时长.文中采用电流加速应力试验方法(FCSAM;EB结反偏、CB结正偏),评价SiGe HBT在热载流子效应作用下的可靠性,研究施加应力前后SiGe HBT器件电特性的变化,分析了电特性退化的原因.结果表明:随应力施加时间的增加,SiGe HBT的电流放大系数逐步退化;与传统的电压加速退化试验方法相比,FCSAM显著缩短了试验时间,能对SiGe HBT的长期可靠性进行有效预测. 展开更多
关键词 硅锗异质结晶体管 电流加速 可靠性 热载流子效应
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77K下电流增益为2.6万的SiGe/Si HBT
13
作者 邹德恕 陈建新 +6 位作者 徐晨 魏欢 史辰 杜金玉 高国 邓军 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期51-52,55,共3页
通过优化设计SiGe/Si HBT的纵向参数,找到一种低温工艺方法,研制出了在液氮温度下电流增益达到26000的高增益异质结晶体管。
关键词 HBT 电流增益 锗化硅 异质结晶体管
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AlGaAs/GaAs HBT能量输运模型
14
作者 张玉明 张义门 罗晋生 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期341-344,共4页
在弛豫时间近似条件下,由波尔兹曼输运方程的前三阶推导出能模拟HBT性能的流体动力学传输模型.分析了能量(动量)方程中的各个物理量,考虑了不同能谷散射对能量弛豫时间影响,计入了电子能量中的漂移动能,同时考虑了异质结能带... 在弛豫时间近似条件下,由波尔兹曼输运方程的前三阶推导出能模拟HBT性能的流体动力学传输模型.分析了能量(动量)方程中的各个物理量,考虑了不同能谷散射对能量弛豫时间影响,计入了电子能量中的漂移动能,同时考虑了异质结能带的各种效应.使用牛顿法同时求解一维稳态方程组,分析了典型结构的AlGaAs/GaAsHBT器件工作物理图像. 展开更多
关键词 流体动力学 输运模型 双极性 异质结晶体管
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基于2μ mGaAs HBT工艺的L型分布式放大器设计
15
作者 张瑛 王志功 徐建 《高技术通讯》 CAS CSCD 北大核心 2012年第10期1064-1069,共6页
为满足电子系统对放大器的带宽性能要求,基于2μm砷化镓(GaAs)异质结双极晶体管(HBT)工艺设计了一种新的分布式放大器。设计采用了输入电容耦合技术和L型传输线结构,有效提升了放大器的频率性能。测试结果显示,该放大器的3dB带... 为满足电子系统对放大器的带宽性能要求,基于2μm砷化镓(GaAs)异质结双极晶体管(HBT)工艺设计了一种新的分布式放大器。设计采用了输入电容耦合技术和L型传输线结构,有效提升了放大器的频率性能。测试结果显示,该放大器的3dB带宽达到14GHz,在1.2GHz~10.5GHz频率范围内增益为6.6dB,带内增益平坦度为±0.5dB,输入回波损耗小于-14dB,输出回波损耗小于-8.8dB,表现出了高增益和大带宽的特性。 展开更多
关键词 分布式放大器 人工传输线 异质结晶体管 超宽带(UWB) 砷化镓(GaAs)
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W波段InP DHBT宽带高功率压控振荡器(英文) 被引量:2
16
作者 王溪 姚鸿飞 +5 位作者 苏永波 丁武昌 阿瑟夫 丁芃 童志航 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期27-31,43,共6页
成功实现了一款具有高输出功率和宽频率调谐范围的基波压控振荡器.其制作工艺为0. 8μm InP DH-BT工艺,晶体管的最大fT和fmax分别为170和250 GHz.电路核心部分采用了为高频应用改进的平衡式考毕兹拓扑,在后面添加一级缓冲放大器来抑制... 成功实现了一款具有高输出功率和宽频率调谐范围的基波压控振荡器.其制作工艺为0. 8μm InP DH-BT工艺,晶体管的最大fT和fmax分别为170和250 GHz.电路核心部分采用了为高频应用改进的平衡式考毕兹拓扑,在后面添加一级缓冲放大器来抑制负载牵引效应,并提升了输出功率. DHBT的反偏CB结作为变容二极管来实现频率调谐.芯片测试结果表明,压控振荡器的频率调谐范围为81~97. 3 GHz,相对带宽为18. 3%.在调谐频率范围内最大输出功率为10. 2 dBm,输出功率起伏在3. 5 dB以内.在该压控振荡器的最大调谐频率97. 3 GHz处相位噪声为-88 dBc/Hz@1MHz. 展开更多
关键词 压控振荡器 磷化铟双异质结晶体管 宽调谐范围 高输出功率
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RTD-HBT高速低功耗环形振荡器的分析
17
作者 王小丽 牛萍娟 +3 位作者 刘宏伟 郭维廉 毛陆虹 杨广华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期422-425,450,共5页
RTD与HBT是高频高速器件,共振隧穿二极管-异质结晶体管(RTD-HBT)环形振荡器有很好的应用前景。详细介绍了RTD-HBT高速低功耗环形振荡器的工作原理,建立了RTD,HBT及RTD-HBT环形振荡器的等效电路模型,并对RTD-HBT环形振荡器用Pspice模拟... RTD与HBT是高频高速器件,共振隧穿二极管-异质结晶体管(RTD-HBT)环形振荡器有很好的应用前景。详细介绍了RTD-HBT高速低功耗环形振荡器的工作原理,建立了RTD,HBT及RTD-HBT环形振荡器的等效电路模型,并对RTD-HBT环形振荡器用Pspice模拟软件进行了电路模拟。模拟结果与预期结果一致,有助于指导该电路的设计。 展开更多
关键词 共振隧穿二极管-异质结晶体管 反相器 环形振荡器 PSPICE软件
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锗硅低噪声放大器的研究进展
18
作者 李振国 陈建新 高铭洁 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期47-50,43,共5页
介绍了采用锗硅技术的低噪声放大器的基本理论,给出了一个2GHz低噪声放大器的例子,并总结了近来采用锗硅技术的各种频段的低噪声放大器研究情况。最后,介绍了锗硅技术的广阔应用前景。<正>The theory of LNAs using SiGe bipolar ... 介绍了采用锗硅技术的低噪声放大器的基本理论,给出了一个2GHz低噪声放大器的例子,并总结了近来采用锗硅技术的各种频段的低噪声放大器研究情况。最后,介绍了锗硅技术的广阔应用前景。<正>The theory of LNAs using SiGe bipolar technology is presented. And a 2GHz LNA based SiGe technology is presented in this article and state-of-the-art in SiGe based devices in different areas are described. Finally, the application of SiGe-based device was summarized. 展开更多
关键词 锗硅双极性异质结晶体管 低噪声放大器:射频集成电路
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三级微波宽带低噪声放大器的设计
19
作者 赵翔 张庆中 向旺 《现代电子技术》 2007年第4期17-18,22,共3页
介绍了SiGe异质结晶体管的特点和微波宽带低噪声放大器的设计理论;设计了一个采用SiGe异质结晶体管2sc5761的两级微波宽带低噪声放大器电路,并对电路的各项指标进行了优化设计;运用candence软件对电路进行了DRC,LVS验证。在0.5~6... 介绍了SiGe异质结晶体管的特点和微波宽带低噪声放大器的设计理论;设计了一个采用SiGe异质结晶体管2sc5761的两级微波宽带低噪声放大器电路,并对电路的各项指标进行了优化设计;运用candence软件对电路进行了DRC,LVS验证。在0.5~6GHz得到12dB以上的增益和不足2.5dB的噪声系数,及优良的线性度。 展开更多
关键词 异质结晶体管 微波 宽带 低噪声放大器
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