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基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响
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作者 张湘辉 汪灵 +2 位作者 龙剑平 邓苗 冯珊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第21期3018-3022,共5页
采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研... 采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研究结果表明,当开环流量从10→5→15→20mL/min变化时,所制备纳米金刚石薄膜的表面粗糙度及石墨成分会随之增加,金刚石晶粒转变为以(110)面生长为主,且尺寸增大;并加剧了硬质合金基体中Co相粘结剂向基体表面的扩散。温控中基底温度的波动(稳定性)是影响纳米金刚石薄膜生长性能的主要原因。 展开更多
关键词 直流弧光放电等离子体化学气相沉积法 纳米金刚石薄膜 基底温度 -闭环复合控制
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复合控制算法在榴弹螺旋装药中的应用
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作者 蒋晓辉 《兵工自动化》 2006年第8期27-28,32,共3页
榴弹螺旋装药的压药压力控制系统中,采用开环补偿控制和闭环控制结合的复合控制。开环补偿控制根据扰动量直接产生相应的补偿,以抵消其影响。而闭环反馈控制则用于克服各种干扰和对控制效果最终检验。其PID控制采用位置算法,并对控制量... 榴弹螺旋装药的压药压力控制系统中,采用开环补偿控制和闭环控制结合的复合控制。开环补偿控制根据扰动量直接产生相应的补偿,以抵消其影响。而闭环反馈控制则用于克服各种干扰和对控制效果最终检验。其PID控制采用位置算法,并对控制量输出和积分增量限幅。该算法在具体的项目中得到成功的应用。 展开更多
关键词 螺旋装药 复合控制 开环补偿控制 闭环反馈控制 PID控制
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基底温度控制方式对直流弧光放电PCVD金刚石膜的影响 被引量:2
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作者 张湘辉 汪灵 龙剑平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1554-1560,共7页
如何精确、高效地实现对基底温度的测控,并获得优化的温度参数,对于CVD金刚石制备技术至关重要。本文采用自主研制的具有新型基底温度自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,分别进行了基底温度开环、闭环及开闭环复合控制下的金刚石薄膜... 如何精确、高效地实现对基底温度的测控,并获得优化的温度参数,对于CVD金刚石制备技术至关重要。本文采用自主研制的具有新型基底温度自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,分别进行了基底温度开环、闭环及开闭环复合控制下的金刚石薄膜制备研究,并采用SEM,激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌品质进行了分析。研究结果表明:基底温控方式的不同会明显影响CVD金刚石膜的晶体、生长特征及品质,尤其造成了薄膜生长中二次形核密度以及非金刚石成分的显著变化;在保证系统稳定运行的前提下,当其它沉积参数恒定时,受控下的基底温度控制精度及控制品质的实时变化是影响CVD金刚石膜生长性能的主要因素,其中控制精度介于±5℃~±15℃间变化,而控制品质受控制方式的影响较大;相对于控制精度而言,控制品质的变化对常规金刚石薄膜生长性能的影响更为明显。对于此系统,只有采用开-闭环复合控制,且开环流量维持在其单独工作流量的20%时,才能保证基底温度控制精度、控制品质及所制备的CVD金刚石薄膜的质量最佳。 展开更多
关键词 直流弧光放电PCVD法 金刚石薄膜 基底温度 开环、闭环及开闭环复合控制方式
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小型发电机组励磁系统的现场调试 被引量:3
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作者 林敦 王流亿 《水电能源科学》 北大核心 2010年第7期157-159,共3页
针对小型机组的励磁系统与发电机成闭环系统,系统中的发电机、励磁和晶闸管整流部分须保持严格的同步关系使得运行调试的难度很大,介绍了现场调试方案,基于整流装置的同步理相进行开环到闭环方式的机组系统试验,可安全优质地完成现场调... 针对小型机组的励磁系统与发电机成闭环系统,系统中的发电机、励磁和晶闸管整流部分须保持严格的同步关系使得运行调试的难度很大,介绍了现场调试方案,基于整流装置的同步理相进行开环到闭环方式的机组系统试验,可安全优质地完成现场调试工作。 展开更多
关键词 发电机组 励磁系统 现场调试 SET Small 晶闸管整流 整流装置 运行调试 系统试验 同步关系 调试方案 闭环系统 闭环方式 安全优质 开环
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