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热裂解源应用及模拟的研究进展
1
作者
于广琛
王俊莉
王晓冬
《真空科学与技术学报》
北大核心
2025年第5期349-358,共10页
裂解源是分子束外延设备(MBE)及表面处理设备中的关键及核心,目前其以广泛应用于化合物半导体芯片制造行业。随着对半导体性能的要求逐步提高,半导体制造设备也需要不断发展。对于具有催化作用的热裂解源,由于其内部复杂流态的分布以及...
裂解源是分子束外延设备(MBE)及表面处理设备中的关键及核心,目前其以广泛应用于化合物半导体芯片制造行业。随着对半导体性能的要求逐步提高,半导体制造设备也需要不断发展。对于具有催化作用的热裂解源,由于其内部复杂流态的分布以及存在壁面催化化学反应,应用直接模拟蒙特卡洛方法(DSMC)进行模拟及结构优化。文章以砷/磷(固体),氢(气体)热裂解源为例,介绍了裂解源的基本构造和原理,以及其模拟方法。
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关键词
裂解源
分子束外延
应用及模拟
直接
模拟
蒙特卡洛法
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职称材料
题名
热裂解源应用及模拟的研究进展
1
作者
于广琛
王俊莉
王晓冬
机构
东北大学机械工程及自动化学院
出处
《真空科学与技术学报》
北大核心
2025年第5期349-358,共10页
基金
国家重点研发计划项目(2022YFF0707601)。
文摘
裂解源是分子束外延设备(MBE)及表面处理设备中的关键及核心,目前其以广泛应用于化合物半导体芯片制造行业。随着对半导体性能的要求逐步提高,半导体制造设备也需要不断发展。对于具有催化作用的热裂解源,由于其内部复杂流态的分布以及存在壁面催化化学反应,应用直接模拟蒙特卡洛方法(DSMC)进行模拟及结构优化。文章以砷/磷(固体),氢(气体)热裂解源为例,介绍了裂解源的基本构造和原理,以及其模拟方法。
关键词
裂解源
分子束外延
应用及模拟
直接
模拟
蒙特卡洛法
Keywords
Cracking source
Molecular Beam Epitaxy
Application and simulation
Direct Simulation Monte Carlo
分类号
TN304.054 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
热裂解源应用及模拟的研究进展
于广琛
王俊莉
王晓冬
《真空科学与技术学报》
北大核心
2025
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