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入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响
被引量：
7
1
作者
马丽娜
张锦
+5 位作者
蒋世磊
孙国斌
杨国锋
杭凌侠
弥谦
计玮
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第10期45-51,共7页
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图...
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考.
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关键词
多
光
束
干涉
干涉
光
刻
周期结构
角度偏差
光
强
偏差
干涉光强分布
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响
被引量：
7
1
作者
马丽娜
张锦
蒋世磊
孙国斌
杨国锋
杭凌侠
弥谦
计玮
机构
西安工业大学光电工程学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第10期45-51,共7页
基金
陕西省教育厅重点实验室科研计划(No.13JS038)
陕西省科技厅重点实验室项目(No.2013SZS14-P01)
+1 种基金
广东省科技厅高新区发展引导专项(No.2011B010700101)
西安工业大学校长科研基金(No.XAGDXJJ1303)资助~~
文摘
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考.
关键词
多
光
束
干涉
干涉
光
刻
周期结构
角度偏差
光
强
偏差
干涉光强分布
Keywords
Multi-beam interference
Interference lithography
Periodic structures
Angle deviation
Light intensity deviation
Interference intensity distribution
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TN241 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响
马丽娜
张锦
蒋世磊
孙国斌
杨国锋
杭凌侠
弥谦
计玮
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
7
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职称材料
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