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等离子体浸没离子注入(PⅢ)在材料表面改性中的应用及发展
被引量：
3
1
作者
陈惠敏
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2008年第5期79-81,共3页
等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除...
等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除了常规束线离子注入所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉。综述了等离子体浸没离子注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用,展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景。
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关键词
常规束线离子注入
等
离子
体浸没
离子注入
等
离子
鞘
表面改性
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职称材料
题名
等离子体浸没离子注入(PⅢ)在材料表面改性中的应用及发展
被引量：
3
1
作者
陈惠敏
机构
上海工程技术大学
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2008年第5期79-81,共3页
文摘
等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除了常规束线离子注入所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉。综述了等离子体浸没离子注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用,展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景。
关键词
常规束线离子注入
等
离子
体浸没
离子注入
等
离子
鞘
表面改性
Keywords
Conventional beam ion implantation
Plasma Immersion Ion Implantation
Ion-matrix sheath
Surface modification
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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作者
出处
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被引量
操作
1
等离子体浸没离子注入(PⅢ)在材料表面改性中的应用及发展
陈惠敏
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2008
3
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